(18/12/2019) Módulo de proceso (1, 1A, 1B, 1C, 1D) con al menos una cámara de proceso (2, 2A, 2B) situada en el módulo de proceso (1, 1A, 1B, 1C, 1D) y susceptible de ser sometida a vacío, y con al menos un dispositivo portador móvil horizontalmente a través del módulo de proceso (1, 1A, 1B, 1C, 1D) en al menos una dirección de transporte de sustratos para recibir cada vez al menos un sustrato plano que debe procesarse en la cámara de proceso (2, 2A, 2B), en el que la al menos una cámara de proceso (2, 2A, 2B) puede ser cerrada físicamente con respecto al módulo de proceso (1, 1A, 1B, 1C, 1D) por el dispositivo portador , cuya posición puede ser variada en al menos una dirección de cierre transversal…

(16/10/2019) Portasustratos para disponerlo en un reactor CVD o PVD , especialmente para la deposición de nanotubos de carbono y grafeno, con una primera superficie de lado ancho para recibir un sustrato a revestir y con una segunda superficie de lado ancho que mira hacia fuera de la primera superficie de lado ancho , en el que la primera superficie de lado ancho y la segunda superficie de lado ancho presentan sendas zonas de alojamiento de sustrato en las que están previstos elementos de inmovilización (14, 14', 15) con los cuales se puede fijar siempre un sustrato o secciones de un sustrato a la superficie de lado ancho , y en el que la zona…

(12/12/2018) Un dispositivo de compactación isostática en caliente para realizar procesamiento de compactación isostática en caliente en una pieza, incluyendo el dispositivo de compactación isostática en caliente: una carcasa impermeable a los gases que tiene impermeabilidad a los gases y está dispuesta de manera que rodee una pieza (W), incluyendo la carcasa un cuerpo de carcasa que tiene una abertura de lado inferior, y una base de carcasa que cierra la abertura de lado inferior del cuerpo de carcasa ; una unidad de calentamiento que está dispuesta dentro de la carcasa de manera que forme una zona caliente alrededor de la pieza (W), haciendo por ello posible realizar procesamiento de compactación isostática en caliente en la pieza (W) usando un medio gaseoso de presión en la zona…

(04/10/2017) Un sistema integrado de replicación electroquímica de patrones, ECPR (por sus siglas en inglés) para realizar la impresión electroquímica de nano o microestructuras utilizando un elemento maestro, sobre una superficie conductora de un sustrato, que comprende: - una carcasa ; - una unidad de llenado y una unidad de limpieza , en el que el elemento maestro es un electrodo con una capa de aislamiento con patrones que forma cavidades, en el que la unidad de llenado está configurada para depositar un material en las cavidades del elemento maestro y la unidad de limpieza está configurada para limpiar al menos una superficie seleccionada entre la superficie del sustrato y/o una superficie del elemento maestro; - una unidad de impresión…

(06/09/2017) Un soporte para aguantar un electrodo maestro o un sustrato durante un proceso de ECPR, comprendiendo dicho soporte una superficie de interacción distal para la disposición del electrodo maestro o del sustrato en la misma, y un medio de unión para fijar dicho electrodo maestro o dicho sustrato en dicha superficie de interacción , de tal manera que dicho electrodo maestro o dicho sustrato se amolda sustancialmente a la forma de dicha superficie de interacción en una posición de descanso de la superficie de interacción y el electrodo maestro o el sustrato dispuesto en la misma, en el que dicha superficie de interacción tiene una…

(12/07/2017) Un método para modificar una estructura superficial de un sustrato de silicio o una capa de silicio depositada a una textura deseada, adecuado para fabricar dispositivos fotovoltaicos, comprendiendo el método las etapas de: disponer el sustrato de silicio o capa de silicio depositada sobre un soporte móvil; precalentar el sustrato de silicio o capa de silicio depositada en una zona de precalentamiento; mover continuamente el sustrato de silicio o capa de silicio depositada para atacar a partir de un entorno ambiental externo a través de una cortina de contención de gas de purga y en una cámara caliente abierta de ataque a presión atmosférica; mover…

(07/03/2016) Un método para realizar radiosíntesis con un radiosintetizador automatizado, teniendo el radiosintetizador un número de detectores de actividad individuales asociados operativamente con este, que comprende las etapas de: proporcionar un patrón de calibración que comprende una fuente de radiación gamma que tiene tanto una actividad conocida como un factor de correlación de desintegración con el tiempo conocido en las proximidades de cada detector de actividad del radiosintetizador a intervalos de tiempo definidos; registrar los datos de actividad de cada detector de actividad puesto que dicho patrón de calibración está en las proximidades de los mismos; determinar el factor de correlación…

(11/04/2013) Instalación de producción para la fabricación de células solares en el procedimiento continuo,con un dispositivo de transporte para el transporte de células individuales en varias pistas paralelas (18.1 -18.n), un dispositivo de cambio continuo-discontinuo , que está diseñado para cargar células desde las pistasparalelas (18.1. - 18.n) simultáneamente en un soporte y apilar las células en cada caso de una pista una sobre otra en este soporte , y un dispositivo de cambio discontinuo-continuo , que está diseñado para descargar las células desde estesoporte y guiarlas sobre al menos una pista de un dispositivo de transporte .

(06/02/2013) Aparato de sujeción rotatorio de oblea que comprende: un disco rotatorio en el que se forma una trayectoria de flujo de fluido; un orificio pasante formado en una sección central del disco rotatorio; y palas en la superficie superior de dicho disco rotatorio ; una placa deflectora prevista en la superficie superior de dicho disco rotatorio y por encima del orificiopasante formado en una sección central del disco rotatorio de tal manera que un fluido (A)suministrado sobre la superficie superior del disco rotatorio que pasa a través del orificio pasante se guía en la dirección de pala con la placa deflectora ; y una pluralidad de apoyos de oblea previstos…

(01/08/2012) Un sistema de revestidora por centrifugado que comprende: una cuba de revestimiento por centrifugado adaptada para recibir una pieza de trabajo que va aser recubierta en la misma, estando montada la pieza de trabajo que va a ser recubierta para surotación dentro de la cuba de revestimiento por centrifugado; caracterizado porquela cuba de revestimiento por centrifugado incluye una parte superior sustancialmente cerrada yporciones laterales y una abertura para el acceso de la pieza de trabajo en una porción orientadahacia la parte inferior de la cuba de revestimiento por centrifugado

(25/04/2012) Un procedimiento para transferir circuitos integrados a un sustrato, comprendiendo el procedimiento: (a) hacer girar de manera continua una unidad giratoria por etapas entre una base de oblea y el sustrato , incluyendo la base de oblea una membrana que soporta los circuitos integrados ; (b) representar los circuitos integrados sobre la base de oblea tanto los circuitos integrados deseados como los circuitos integrados no deseados; (c) seleccionar uno de los circuitos integrados deseados; (d) alinear el circuito integrado seleccionado con la unidad giratoria que presenta elementos de recogida colocados externamente alrededor de la unidad giratoria ; (e) coger el circuito integrado seleccionado con…

(25/04/2012) Herramienta de manipulación para componentes, particularmente componentes electrónicos, con un orificio de retención que se puede someter a un vacío, en el cual se pueden sujetar mediante vacío los componentes a manipular, caracterizada porque en el orificio de retención se encuentra dispuesto, al menos, un contrasoporte que en una posición de funcionamiento sobresale hacia el exterior del plano del orificio , y que es atravesado por, al menos, un canal de suministro de vacío , y en donde sobre el contrasoporte se encuentra alojado de manera que se pueda desplazar axialmente, un casquillo que presenta el orificio de retención .

(04/04/2012) Procedimiento para el tratamiento térmico de obleas moldeadas con las etapas: sujeción de una oblea moldeada que se encuentra a una primera temperatura (T1) en un primer dispositivo de sujeción , situándose la primera temperatura (T1) por debajo de la temperatura de endurecimiento (TH) del plástico de la oblea moldeada ; calentamiento de la oblea moldeada sujeta en el primer dispositivo de sujeción a una segunda temperatura (T2) que es superior a la primera temperatura (T1) y que se sitúa por encima de la temperatura de endurecimiento (TH); finalización de la sujeción en el primer dispositivo de sujeción y transporte fundamentalmente sin contacto…

(28/03/2012) Procedimiento de liberación de obleas en el cual se libera la oblea más superior de un laminado de oblea obtenido por laminado de muchas o una pluralidad de obleas, que comprende las etapas de: presionar la oblea más superior a lo largo de una dirección de un eje desplazado un ángulo en el intervalo de 15 a 75 grados desde un eje de la línea de hábito del cristal de la oblea más superior en sentido horario o antihorario; doblar hacia arriba la parte periférica de la oblea posición más superior para producir un esfuerzo de flexión en la oblea más superior en la dirección del eje desplazado por el ángulo; introducir un fluido en un espacio entre la superficie inferior de la oblea más superior y la superficie superior…