CIP-2021 : C23C 18/50 : con aleaciones a base de hierro, cobalto o níquel (C23C 18/32 tiene prioridad).
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
Notas[g] desde C23C 16/00 hasta C23C 20/00: Deposición química o revestimiento por descomposición; Deposición por contacto
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 18/00 Revestimiento químico por descomposición ya sea de compuestos líquidos, o bien de soluciones de los compuestos que constituyen el revestimiento, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento; Deposición por contacto.
C23C 18/50 · · · con aleaciones a base de hierro, cobalto o níquel (C23C 18/32 tiene prioridad).
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Electrolito que comprende beta-aminoácidos y método para la deposición de una capa de metal.
(30/05/2019). Solicitante/s: MacDermid Enthone Inc. Inventor/es: STARK,FRANZ-JOSEF, WERNER,CHRISTOPH,DR.
Un método para la deposición no galvánica de una capa de metal sobre un sustrato, que comprende poner en contacto el sustrato a revestir con una formulación de revestimiento que comprende una fuente de iones metálicos del metal a depositar, un agente reductor, en donde el agente reductor es un compuesto del grupo que consiste de hipofosfito de sodio, formaldehído, dimetil aminoborano, aminoborano y otros boranos orgánicos; un agente formador de complejos, en donde el agente complejante es un compuesto del grupo que consiste en ácido 2- hidroxipropiónico, ácido propanodioico (ácido malónico), EDTA y ácido aminoacético; un acelerador, en donde el acelerador es un compuesto del grupo que consiste en sacarina, hidantoína, rodanina o carbamida y sus derivados; un ß-aminoácido y/o un derivado de ß-aminoácido como estabilizador, en donde la concentración equivalente total de ß-aminoácido en el baño de revestimiento está en el intervalo de 0,05 a 1,2 g/l.
PDF original: ES-2714824_T3.pdf
Uso de fosfa-adamantanos solubles en agua y estables en aire como estabilizadores en electrolitos para deposición no electrolítica de metal.
(16/05/2019). Solicitante/s: MacDermid Enthone Inc. Inventor/es: SCHAFER, STEFAN, KLEINFELD, MARLIES DR., SÖNTGERATH,KATRIN.
Una composición acuosa de electrolitos para la deposición no electrolítica de una capa de metal sobre un sustrato, que comprende una fuente de iones de metal para el metal que se va a depositar, un agente reductor para reducir los iones de metal, un agente complejante, un acelerador y un estabilizador, caracterizada por que el electrolito comprende como estabilizador un fosfa-adamantano de acuerdo con la fórmula general I**Fórmula**
en la que los átomos de hidrógeno en los átomos de carbono 1 a 6 pueden estar independientemente sustituidos entre sí con un resto del grupo que consiste en F, Cl, Br, un grupo alquilo que tiene de 1 a 6 átomos de carbono, un grupo alcoxi que tiene de 1 a 6 átomos de carbono y un grupo alcohol que tiene de 1 a 6 átomos de carbono.
PDF original: ES-2712858_T3.pdf
Procedimiento de pretratamiento para recubrimientos no electrolíticos.
(13/05/2019) Un procedimiento para el recubrimiento no electrolítico (autocatalítico) de metales y aleaciones metálicas, en este orden, las etapas de
i. Proporcionar un sustrato que comprende una superficie modelada de cobre,
ii. Poner en contacto dicho sustrato con una composición que contiene iones de un metal noble,
iii. Poner en contacto dicho sustrato con una composición acuosa de pretratamiento que comprende un ácido, una fuente de iones haluro y un aditivo seleccionado del grupo que consiste en tiourea, compuestos de acuerdo con la fórmula **Fórmula**
10 en donde R1, R2 y R3 se seleccionan independientemente del grupo que consiste en H, alquilo de C1 a C6 sustituido y alquilo…
Baño de chapado y método para la deposición no electrolítica de capas de níquel.
(25/03/2019). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: PICALEK,JAN, BEJAN,IULIA, BERA,HOLGER, AKHTAR,SHAKEEL, PINNAU,JENNIFER.
Una composición de baño de chapado acuosa para la deposición no electrolítica de níquel y aleaciones de níquel, comprendiendo la composición
(i) una fuente de iones níquel,
caracterizada por que la composición de baño de chapado acuosa comprende además
(ii) una mezcla de agentes estabilizantes que comprende
a) al menos un ion de metal seleccionado de ion indio e ion galio, y
b) al menos uno seleccionado de yodo elemental, compuestos que contienen iones yoduro, compuestos que contienen iones yodato y compuestos que contienen iones peryodato.
PDF original: ES-2705430_T3.pdf
Baño de recubrimiento para deposición no electrolítica de capas de níquel.
(05/11/2018). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: BRUNNER, HEIKO, PICALEK,JAN, BEJAN,IULIA, KRAUSE,CARSTEN, BERA,HOLGER, RÜCKBROD,SVEN.
Una composición para baño acuoso de recubrimiento para la deposición no electrolítica de níquel y de aleaciones níquel, comprendiendo el baño de recubrimiento:
(i) una fuente de iones de níquel,
(ii) al menos un agente complejante seleccionado del grupo que consiste en aminas, ácidos carboxílicos, ácidos hidroxicarboxílicos, ácidos aminocarboxílicos y sales de los compuestos mencionados anteriormente,
(iii) al menos un agente reductor seleccionado de hipofosfito, amina-boranos, borohidruros, hidrazina y formaldehído,
(iv) un agente estabilizante según la fórmula :
en donde X se selecciona de entre O y NR4 , n varía de 1 a 6, m varía de 1 a 8; R1 , R2 , R3 y R4 se seleccionan independientemente entre hidrógeno y alquilo C1 a C4; Y se selecciona entre -SO3R5 , -CO2R5 y -PO3R5 2, y R5 se
selecciona entre hidrógeno, alquilo C1-C4 y un contraión adecuado, y en donde la concentración del agente estabilizante según la fórmula oscila entre 0,02 y 5,0 mmol/l.
PDF original: ES-2688547_T3.pdf
Composiciones de baño de chapado para el chapado no electrolítico de metales y aleaciones metálicas.
(22/06/2016) Un baño de chapado no electrolítico para la deposición de cobre, níquel, cobalto o sus aleaciones que comprende por lo menos una fuente de iones metálicos y por lo menos un agente reductor, caracterizado por el hecho de que el baño de chapado no electrolítico comprende además un modificador de la velocidad de chapado según la fórmula (I)**Fórmula**
en la que los restos monovalentes de R1 a R2, el grupo terminal Y y un grupo separador divalente Z y un índice n se seleccionan de los siguientes grupos
- R1 se selecciona del grupo que consiste en -O-R3 y -NH-R4 en la que R3 se selecciona de hidrógeno, litio, sodio, potasio, rubidio, cesio, amonio, alquilo, arilo, y R4 se selecciona de hidrógeno, alquilo y arilo;
- R2 se selecciona del grupo que consiste en hidrógeno,…
Composición de electrolito y procedimiento para la deposición de una capa de aleación de zinc-níquel sobre un sustrato de hierro fundido o de acero fundido.
(11/12/2015) Composición de electrolito para la deposición de una capa de aleación de zinc-níquel con una proporción de níquel del 10 % al 18 % en masa sobre un sustrato, conteniendo la composición de electrolito iones zinc e iones níquel, caracterizada por que la composición de electrolito presenta ácido aminoacético y un acetato del grupo que está constituido por acetato de sodio, acetato de potasio, acetato de amonio o mezclas de estos en una proporción molar de acetato:ácido aminoacético de 0,35 a 0,91.
METODO DE NIQUELADO SIN CORRIENTE.
(01/08/2005). Solicitante/s: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH. Inventor/es: BRANDES, MARIOLA, MIDDEKE, HERMAN, DYRBUSCH, BRIGITTE.
Método para metalizar superficies sin corriente, el cual comprende las siguientes etapas: a. tratamiento de las superficies mediante un baño con una solución que contenga iones cromato; b. activación de las superficies así tratadas mediante un coloide de plata que contenga iones estannosos; c. tratamiento de las superficies activadas mediante una solución acelerante, a fin de eliminar los compuestos de estaño de las superficies; d. deposición, por medio de un baño de niquelado sin corriente, de una capa formada sustancialmente por níquel sobre las superficies tratadas con la solución acelerante, de manera que el baño de niquelado contenga, al menos, un agente reductor seleccionado del grupo constituido por compuestos de borano.