MÉTODO DE PULIDO EN SECO DE SUPERFICIES METÁLICAS.

Método de pulido en seco de superficies metálicas que comprende una etapa de acción galvánica y disolutiva (1) mediante partículas sólidas que contienen un líquido y son capaces de transmitir la electricidad desde una fuente eléctrica a la superficie metálica a pulir y una etapa de oxidación química (2) mediante un medio oxidante.

Las etapas de acción galvánica y disolutiva (1) y oxidación química (2) se pueden realizar alternativamente, con o sin una etapa de secado, o de manera simultánea. El medio oxidante es un gas o bien un líquido preferentemente con un agente complejante. Las partículas disolutivas están preferentemente fabricadas con un gel con una solución acuosa ácida y opcionalmente un agente complejante. El método comprende, preferentemente, un elemento que aumenta la velocidad de la etapa oxidante, seleccionado de entre los siguientes: sistema calefactor para aumentar la temperatura, agitación, fuente de microondas, ultrasonidos.

Tipo: Patente de Invención. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: P201930718.

Solicitante: DRYLYTE, S.L.

Nacionalidad solicitante: España.

Inventor/es: SARSANEDAS GIMPERA,MARC, SOTO HERNÁNDEZ,Marc.

Fecha de Publicación: 27 de Marzo de 2020.

Clasificación Internacional de Patentes:

C09G1/02 QUIMICA; METALURGIA. › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09G COMPOSICIONES DE PULIMENTO (Pulimento francés C09F 11/00 ); CERAS PARA ESQUIES. › C09G 1/00 Composiciones de pulimento (pulimento francés C09F 11/00; detergentes C11D). › que contienen agentes abrasivos o pulimentadores.
C09K13/00 C09 […] › C09K SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › Composiciones para el ataque químico, el grabado, el abrillantado de superficie o el decapado.
C25F3/16 C […] › C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS. › C25F PROCESOS PARA LA ELIMINACION ELECTROLITICA DE MATERIA EN OBJETOS; SUS APARATOS (tratamiento del agua, agua residual o de alcantarilla por procesos electroquímicos C02F 1/46; protección anódica o catódica C23F 13/00). › C25F 3/00 Grabado o pulido electrolítico. › Pulido.

PDF original: ES-2750923_A1.pdf

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