Dispositivo para eliminar impurezas de un líquido, así como método para la limpieza de un dispositivo correspondiente.

1. Dispositivo para eliminar impurezas de un líquido, preferiblemente de aguas residuales,

- con un filtro de tambor (2) montado de forma giratoria y una superficie filtrante (1) ,

- con un mecanismo de accionamiento (3) del tambor conectado operativamente con el filtro de tambor (2) para girar el filtro de tambor (2) alrededor de un eje de rotación (4) , y

- con un sistema de limpieza (5) para la limpieza de la superficie filtrante (1) ,

- en donde el sistema de limpieza (5) tiene una guía (6) , configurada preferiblemente como una guía lineal, así como una disposición (8) de boquillas de pulverización a lo largo de la guía (6) que se puede mover de un lado a otro por medio de un mecanismo de accionamiento (7) , a través de la cual se puede pulverizar un líquido de limpieza (14) sobre la superficie filtrante (1) ,

caracterizado por que la disposición (8) de boquillas de pulverización comprende al menos un soporte (9) que se puede mover de un lado a otro a lo largo de la guía (6) , así como al menos una boquilla de pulverización (10) montada sobre el soporte (9) , en donde la boquilla de pulverización (10) está montada de tal manera sobre el soporte (9) que se puede mover alrededor del eje (11) y girarse varias veces en círculo con respecto al eje (11) , mientras que el soporte (9) se mueve una vez de un lado a otro entre los puntos finales que delimitan la guía (6) .

2. Dispositivo según la reivindicación anterior caracterizado por que la disposición (8) de boquillas de pulverización comprende al menos dos boquillas de pulverización (10) montadas en brazos (12) de boquillas de pulverización, en donde los brazos (12) de boquillas de pulverización están orientados hacia diferentes direcciones con respecto al eje (11) .

3. Dispositivo según la reivindicación anterior caracterizado por que las boquillas de pulverización (10) están dispuestas concéntricamente alrededor del eje (11) .

4. Dispositivo según una de las reivindicaciones anteriores caracterizado por que la o las boquillas de pulverización (10) están configuradas de tal manera con respecto al eje (11) , que el líquido de limpieza (14) que sale de la o las boquillas de pulverización (10) durante el funcionamiento de la disposición (8) de boquillas de pulverización provoca, mediante el retroceso, una rotación de la o las boquillas de pulverización alrededor del eje (11) , de modo que las boquillas de pulverización (10) rotan sin una unidad de accionamiento adicional.

5. Dispositivo según una de las reivindicaciones anteriores caracterizado por que el mecanismo de accionamiento (3) del tambor y el mecanismo de accionamiento (7) de la disposición (8) de boquillas de pulverización son complementarios, en donde con un cambio del número de revoluciones del filtro de tambor (2) también se realiza un cambio de la velocidad de movimiento de la disposición (8) de boquillas de pulverización y/o viceversa.

6. Dispositivo según una de las reivindicaciones anteriores caracterizado por que el mecanismo de accionamiento (7) de la disposición (8) de boquillas de pulverización está configurado para mover el soporte (9) a lo largo de la guía (6) durante el funcionamiento del sistema de limpieza (5) , al menos por secciones, con una velocidad de, como máximo, 10 m/s, preferiblemente con una velocidad de, como máximo, 7 m/s.

7. Dispositivo según una de las reivindicaciones anteriores caracterizado por que la boquilla de pulverización (10) tiene una abertura de salida (13) para la salida del líquido de limpieza (14) , en donde la distancia más pequeña entre la abertura de salida (13) y la superficie filtrante (1) es una cantidad entre 1 cm y 20 cm, preferiblemente entre 5 cm y 15 cm.

8. Dispositivo según una de las reivindicaciones anteriores caracterizado porque la distancia más pequeña entre la abertura de salida (13) de la boquilla de pulverización (10) y el eje (11) de la boquilla de pulverización (10) es una cantidad de entre 5 cm y 30 cm, preferiblemente entre 10 cm y 25 cm.

9. Método para la limpieza de la superficie filtrante (1) de un filtro de tambor (2) montado de manera giratoria que sirve para eliminar impurezas de un líquido, preferiblemente de aguas residuales,

- en donde el filtro de tambor (2) gira alrededor de un eje de rotación (4) por medio de un mecanismo (3) de accionamiento del tambor,

- en donde una disposición (8) de boquillas de pulverización se mueve con respecto a la superficie filtrante (1) de un lado a otro sobre una trayectoria de movimiento predeterminada, y

- en donde, por medio de al menos un boquilla de pulverización (10) de una disposición (8) de boquillas de pulverización, se pulveriza un líquido de limpieza (14) sobre la superficie filtrante (1) para eliminar de la superficie filtrante (1) los residuos existentes en la superficie filtrante (1) ,

caracterizado por que la boquilla de pulverización (10) se mueve, al menos parcialmente, alrededor de un eje (11) , mientras se mueve a lo largo de dicha trayectoria de movimiento de un lado a otro y gira en círculos varias veces con respecto al eje (11) , mientras que el soporte (9) se mueve una vez de un lado a otro entre los puntos finales que delimitan la guía (6) .

10. Método según la reivindicación anterior caracterizado por que el líquido de limpieza (14) sale de tal manera de la boquilla de pulverización (10) que, a través del retroceso, provoca un movimiento, preferiblemente una rotación, de la boquilla de pulverización (10) alrededor del eje (11) .

11. Método según la reivindicación 9 o 10 caracterizado por que la boquilla de pulverización (10) rota alrededor del eje (11) a un número de revoluciones cuya cantidad está comprendida entre 0, 1 revoluciones por segundo y 100 revoluciones por segundo, preferiblemente, entre una revolución por segundo y 30 revoluciones por segundo.

12. Método según cualquiera de las reivindicaciones 9 a 11 caracterizado por que el filtro de tambor (2) es accionado durante la limpieza a un número de revoluciones cuya cantidad está comprendida entre 0, 1 revoluciones por minuto y 10 revoluciones por minuto, preferiblemente, entre una revolución por minuto y 8 revoluciones por minuto.

13. Método según cualquiera de las reivindicaciones 9 a 12 caracterizado por que la disposición (8) de boquillas de pulverización durante la limpieza se mueve, al menos por secciones, a una velocidad de, como máximo, 10 m/s, preferiblemente a una velocidad de, como máximo, 7 m/s a lo largo de la trayectoria de movimiento.

14. Método según cualquiera de las reivindicaciones 9 a 13 caracterizado por que con un cambio del número de revoluciones del filtro de tambor (2) también se produce un cambio en el número de revoluciones de la disposición (8) de boquillas de pulverización y/o viceversa.

15. Método según cualquiera de las reivindicaciones 9 a 14 caracterizado por que la velocidad de movimiento de la disposición (8) de boquillas de pulverización y el número de revoluciones del filtro de tambor (2) son complementarias de tal manera que toda la superficie filtrante (1) , después de 20 vueltas como máximo del filtro de tambor (2) , preferiblemente después de tres vueltas como máximo del filtro de tambor (2) , se ha rociado al menos una vez con el líquido de limpieza (14) .

16. Método según cualquiera de las reivindicaciones 9 a 15 caracterizado por que el líquido de limpieza (14) , inmediatamente antes de salir de la boquilla de pulverización (10) , se somete a una presión que asciende a entre 3 bar y 200 bar, preferiblemente entre 100 bar y 200 bar.