Sistema integrado de exposición y deformación en línea.
Un sistema integrado de deformación y de exposición en línea para placas de impresión (100,
102) u otros sustratos que tienen una capa foto sensible, comprendiendo el sistema:
una fuente de iluminación lineal (110, 140) para deformar el material foto sensible con una banda lineal de iluminación de deformación para consumir cualquier oxígeno disuelto dentro de la capa foto sensible;
un módulo de exposición (142) para la formación de imágenes del material foto sensible con radiación electromagnética localizada directamente curso abajo de la banda lineal de iluminación de deformación (104, 130) configurado para proporcionar movimiento relativo entre una placa de impresión y la banda lineal de iluminación de deformación; y
un mecanismo de transporte (104, 130) configurado para proporcionar movimiento relativo entre una placa de impresión y la banda lineal de iluminación de deformación, de tal manera que se forma la imagen continuamente de una porción de deformación de la placa de impresión, mientras la porción adyacente siguiente de la placa de impresión está siendo deformada.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/US2004/016840.
Solicitante: PERKINELMER, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 45 WILLIAM STREET WELLESLEY, MASSACHUSETTS 02481-4078 ESTADOS UNIDOS DE AMERICA.
Inventor/es: DONAHUE,Joseph,P, SHAVER,NORMAN L.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41C1/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41C PROCESOS DE FABRICACION O DE REPRODUCCION DE SUPERFICIES DE IMPRESION (procesos fotomecánicos para producir superficies de impresión G03F; procesos fotoeléctricos para producir superficies de impresión G03G). › Preparación de la forma o del cliché.
- G03B27/04 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03B APARATOS O DISPOSITIVOS PARA HACER FOTOGRAFIAS, PARA PROYECTARLAS O VERLAS; APARATOS O DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN TECNICAS ANALOGAS UTILIZANDO ONDAS DIFERENTES DE LAS ONDAS OPTICAS; SUS ACCESORIOS (partes ópticas de estos aparatos G02B; materiales fotosensibles para la fotografía o procedimientos fotográficos G03C; aparellaje para el tratamiento de materiales fotosensibles después de la exposición G03D). › G03B 27/00 Dispositivos de reproducción fotográfica. › Aparatos de reproducción sin movimiento relativo entre el original y la fuente de iluminación durante la exposición, p. ej. chasis prensa, caja de reproducción.
- G03F7/20 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
PDF original: ES-2625104_T3.pdf
Patentes similares o relacionadas:
Proceso de elaboración de placas con polímeros líquidos, del 3 de Junio de 2020, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para fabricar un elemento de impresión en relieve en un proceso de elaboración de placas de fotopolímero líquido, en donde una capa de […]
Método para elaborar placas de impresión de imágenes en relieve, del 25 de Marzo de 2020, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método para exponer selectivamente un blanco de impresión de fotopolímero líquido a radiación actínica para crear una placa de impresión […]
Mecanismo de sujeción de cilindro de huecograbado accionado por un único motor, del 26 de Febrero de 2020, de Think Laboratory Co., Ltd: Un mecanismo de sujeción de cilindro de huecograbado accionado por un único motor que se usa para una unidad de procesamiento de un sistema de procesamiento de elaboración de […]
Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica mediante exposición múltiple con LED de UV, del 5 de Febrero de 2020, de FLINT GROUP GERMANY GMBH: Procedimiento para fabricar formas de impresión flexográfica, en el cual se emplea como material de partida un elemento fotopolimerizable para impresión flexográfica que comprende […]
Placa de impresión flexográfica capaz de ser ilustrada digitalmente con capa de barrera integral, del 1 de Enero de 2020, de FLINT GROUP GERMANY GMBH: Elemento para la impresión flexográfica fotopolimerizable y capaz de ser ilustrado digitalmente para la producción de moldes de impresión flexográfica, […]
Método de exposición láser, del 4 de Diciembre de 2019, de Think Laboratory Co., Ltd: Un método de exposición láser para una superficie de plancha de una plancha cilíndrica , que usa un aparato de exposición láser que incluye una porción […]
Composición resistente de soldadura y placa de circuito impreso cubierta, del 27 de Noviembre de 2019, de GOO CHEMICAL CO., LTD.: Una composición resistente de soldadura que comprende: (A) una resina que contiene un grupo carboxilo; (B) un compuesto epoxídico; […]
Método para mejorar el rendimiento de impresión en placas de impresión flexográfica, del 21 de Agosto de 2019, de Macdermid Graphics Solutions, LLC: Un método de adaptación de la forma de una pluralidad de puntos de impresión en relieve creados en una preforma de impresión fotosensible durante un proceso de producción de […]