SISTEMA DE GENERACION MICRO-TOPOGRAFICA POR PULVERIZACION CATODICA.
Sistema de generación micro-topográfica por pulverización catódica.
Consistente en un circuito eléctrico autorregulado que produce una emisión de iones controlada electro-magnéticamente por el propio flujo de iones. Mientras se autorregula mediante él, la corriente eléctrica que circula por él y el campo magnético que ésta genera, permitiendo con este sencillo método, controlar la deposición de iones y creando con ello topografías a nivel atómico, tanto por su posición tridimensional como por su composición. Todo ello realizado en los materiales y con las técnicas adecuados que favorezcan la micro-topografía en cada caso.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: UNIVERSIDAD DE ALICANTE.
Nacionalidad solicitante: España.
Provincia: ALICANTE.
Inventor/es: GUTIERREZ MIGUELEZ,ANGEL, MORALES BENAVENTE,JOSE LUIS, CORTES PLANA,JOSE JUAN.
Fecha de Solicitud: 3 de Junio de 2005.
Fecha de Publicación: .
Fecha de Concesión: 20 de Febrero de 2009.
Clasificación PCT:
- C23C14/34 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento. › Pulverización catódica.
- H01J37/30 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de haz electrónico o iónico para tratamientos localizados de objetos.
![SISTEMA DE GENERACION MICRO-TOPOGRAFICA POR PULVERIZACION CATODICA.](https://patentados.com/img/2009/03/sistema-de-generacion-micro-topografica-por-pulverizacion-catodica.jpg)
Patentes similares o relacionadas:
Diana de pulverización catódica basada en óxido de circonio, del 15 de Abril de 2020, de Materion Advanced Materials Germany GmbH: Diana de pulverización catódica, que comprende un óxido de circonio como material de pulverización catódica, en la que el óxido de circonio representa, como mínimo, el 75 % […]
Sustrato que lleva un recubrimiento funcional y una capa de protección temporal, del 1 de Abril de 2020, de SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE: Artículo que comprende un sustrato que comprende dos caras principales que definen dos superficies principales separadas por bordes, llevando dicho sustrato: - un recubrimiento […]
Paneles de baja emisividad con una capa dieléctrica de óxido metálico ternario y método para formar los mismos, del 4 de Diciembre de 2019, de Guardian Glass, LLC: Un método para formar un panel de baja emisividad que comprende: proporcionar un sustrato transparente; formar una capa de oxinitruro metálico sobre […]
Procedimiento de revestimiento de un substrato, instalación de aplicación del procedimiento y dispositivo metálico de alimentación de tal instalación, del 12 de Noviembre de 2019, de Arcelormittal: Procedimiento de revestimiento de al menos una cara de un substrato en deslizamiento, por evaporación en vacío mediante plasma de una capa metálica […]
Herramienta de corte con capa de detección de desgaste, del 5 de Noviembre de 2019, de WALTER AG: Herramienta, compuesta por - un cuerpo de sustrato de metal duro, cermet, cerámica, acero o acero de corte rápido, - un revestimiento […]
Artículo recubierto con capa(s) reflectora(s) de IR y método para su producción, del 21 de Agosto de 2019, de Guardian Glass, LLC: Un artículo recubierto que incluye un recubrimiento soportado por un sustrato de vidrio, comprendiendo el recubrimiento: una capa que comprende óxido […]
Método para la deposición de capas funcionales adecuadas para tubos receptores de calor, del 7 de Agosto de 2019, de Rioglass Solar Systems Ltd: Método para la deposición de al menos una capa funcional adecuada para un recubrimiento multicapa selectivo frente a la radiación solar, comprendiendo dicho método: a) proporcionar […]
Conjuntos de metalizador en línea y sistemas de transportador de recubrimiento de piezas que incorporan los mismos, del 24 de Julio de 2019, de Marca Machinery LLC: Un conjunto de metalizador en línea que comprende:
una pluralidad de portapiezas , cada uno adaptado para contener una pluralidad […]