COMPOSICIONES ALCALINAS QUE CONTIENEN SILICATO PARA LIMPIAR SUSTRATOS MICROELECTRONICOS.
Una composición para decapar o limpiar sustratos de circuitos integrados,
que comprende:
(a) una o más bases exentas de iones metálicos seleccionadas de hidróxidos de amonio cuaternario, hidróxido de amonio y aminas orgánicas en una cantidad suficiente para producir una solución de pH aproximadamente 11 o mayor;
(b) desde 0,01% a 5% en peso de un silicato, exento de iones metálicos y soluble en agua seleccionado de silicato de amonio y silicatos de amonio cuaternario;
(c) al menos un componente que comprende uno o ambos de: desde 0,01% a 10% en peso de al menos uno de uno o más agentes quelantes en donde el agente quelante se selecciona del grupo que consiste en ácido (etilendinitrilo)tetraacético, ácido dietilentriaminpentaacético, ácido trietilentetraminhexaacético, ácido 1,3-diamino-2-hidroxipropano-N,N,N'',N''-tetraacético, N,N,N'',N''etilendiamintetra(ácido metilenfosfónico) y ácido (1,2-ciclohexilendinitrilo)tetraacético, y 1% a 50% en peso de uno o más agentes potenciadores de la eliminación de residuos de titanio seleccionados del grupo que consiste en hidroxilamina, sales de hidroxilamina, peróxidos, ozono y un fluoruro; y (d) agua
Tipo: Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: W9910875US.
Solicitante: MALLINCKRODT INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 675 MCDONNELL BLVD, P.O. BOX 5840,ST. LOUIS, MO 63134.
Inventor/es: SKEE, DAVID, C.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 8 de Julio de 2009.
Clasificación PCT:
- G03F7/42 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
Clasificación antigua:
- G03F7/42 G03F 7/00 […] › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
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