APARATO PARA LA DEPOSICION PECDV DE UNA CAPA DE BARRERA INTERNA EN UN RECIPIENTE.
Máquina (1) para la deposición en fase vapor activada por plasma (PECVD) de una capa delgada de un material con efecto barrera en una pared interna de un recipiente (2),
comprendiendo esta máquina (1): #- una unidad (4) de tratamiento que aloja el recipiente (2) y equipada con un generador (11) de ondas electromagnéticas para la activación del plasma a partir de un gas precursor; #- una entrada (17) de gas precursor; #- un inyector (13) para la introducción de dicho gas precursor en el recipiente (2), presentando este inyector (13) un extremo (14) inferior que desemboca en el recipiente (2) y un extremo (15) superior opuesto; #- un conducto (20) de alimentación de gas precursor, que pone en conexión de fluidos la entrada (17) de gas precursor con el extremo (15) superior del inyector (13); #- una electroválvula (25) interpuesta en el conducto (20) de alimentación entre la entrada (17) de gas precursor y el inyector (13), inmediatamente aguas arriba del extremo (15) superior del inyector (13), teniendo esta electroválvula (25) una configuración abierta en la que deja pasar el gas precursor desde el conducto (20) de alimentación hacia el inyector (13), y una configuración cerrada en la que bloquea el paso del gas precursor; estando dicha máquina (1) caracterizada porque comprende: #- un caudalímetro (22) regulador de presión, interpuesto entre el conducto (20) de alimentación y la entrada (17) de gas precursor, teniendo el caudalímetro (22) regulador de presión una función de cierre al igual que la electroválvula (25) y estando dispuesto para funcionar en sincronismo con la electroválvula (25), de manera que, en su configuración abierta, la electroválvula (25) deja pasar el gas precursor desde el conducto (20) de alimentación a través del caudalímetro (22) regulador en configuración abierta hacia el inyector (13) y, en su configuración cerrada, bloquea el paso del gas precursor, estando el caudalímetro regulador a su vez en configuración cerrada.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: SIDEL PARTICIPATIONS.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: AVENUE DE LA PATROUILLE DE FRANCE,76930 OCTEVILLE SUR MER.
Inventor/es: RIUS,JEAN-MICHEL,C/O SIDEL PARTICIPATIONS.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 25 de Marzo de 2009.
Clasificación PCT:
- B05D7/22 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B05 PULVERIZACION O ATOMIZACION EN GENERAL; APLICACION DE MATERIALES FLUIDOS A SUPERFICIES, EN GENERAL. › B05D PROCEDIMIENTOS PARA APLICAR MATERIALES FLUIDOS A SUPERFICIES, EN GENERAL (transporte de objetos en los baños de líquidos B65G, p. ej.. B65G 49/02). › B05D 7/00 Procedimientos, distintos al "flocage", especialmente adaptados para aplicar líquidos u otros materiales fluidos, a superficies especiales, o para aplicar líquidos u otros materiales fluidos, particulares. › a superficies internas, p. ej. al interior de tubos.
- C23C16/455 QUIMICA; METALURGIA. › C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL. › C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04). › C23C 16/00 Revestimiento químico por descomposición de compuestos gaseosos, no quedando productos de reacción del material de la superficie en el revestimiento, es decir, procesos de deposición química en fase vapor (pulverización catódica reactiva o evaporación reactiva en vacío C23C 14/00). › caracterizado por el proceso utilizado para introducir gases en la cámara de reacción o para modificar las corrientes de gas en la cámara de reacción.
- C23C16/511 C23C 16/00 […] › utilizando descargas con microondas.
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