PRODUCCION CONTINUA DE IMAGENES EN RELIEVE DE RESINA RETICULADA PARA PLACAS DE IMPRESION.
LAS PLANCHAS ESTAN FORMADAS A PARTIR DE UNA CAPA DE RESINA FOTOPOLIMERIZABLE (8) MEDIANTE UN PROCESO Y UN ENSAMBLAJE QUE CONSISTE EN PASAR UNA CAPA DE RESINA (10) POR DELANTE DE UNA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE (12) PARA RETICULAR LA CAPA DE RESINA (10) SECUENCIAL Y SELECTIVAMENTE.
LA FUENTE DE LUZ DE INTENSIDAD VARIABLE (12) SE PUEDE OBTENER MEDIANTE UNA BATERIA DE LUCES (34) QUE SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE CONMUTADORES CONTROLADOS POR ORDENADOR PARA QUE LAS LUCES INDIVIDUALES DE LA BATERIA SE PUEDAN ENCENDER Y APAGAR, SEGUN SEA PRECISO, Y FORMAR UN MOTIVO RETICULADO PRESELECCIONADO EN LA CAPA DE RESINA (10) QUE PRODUCIRA LAS PLANCHAS DESEADAS. LA VELOCIDAD DE MOVIMIENTO DE LA CAPA DE RESINA (10) ANTE LA BATERIA DE LUCES SE PUEDE CONTROLAR MEDIANTE EL ORDENADOR PARA QUE LAS LAMINAS INDIVIDUALES DE LA CAPA DE RESINA (10) ESTEN EXPUESTAS A LA BATERIA DURANTE PERIODOS DE TIEMPO ADECUADOS NECESARIOS PARA PRODUCIR EL MOTIVO DESEADO.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MACDERMID IMAGING TECHNOLOGY INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 245 FREIGHT STREET,WATERBURY, CT 06702.
Inventor/es: GILLETTE, PAUL C., WALSH, ROBERT, M.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 23 de Febrero de 1998.
Fecha Concesión Europea: 25 de Enero de 2006.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/095 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
- G03F7/16 G03F 7/00 […] › Procesos de recubrimiento; Aparellaje con este fin (aplicación de capas sobre los materiales soporte en general B05; aplicación de capas fotosensibles sobre el soporte para la fotografía G03C 1/74).
- G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Oficina Europea de Patentes.
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