MATERIAL ELASTOMERO DE SILICONA HIDROFILA UTILIZABLE EN PARTICULAR PARA LA TOMA DE IMPRESIONES DENTALES.
Material de silicona que comprende los siguientes constituyentes:
I. una composición POS reticulable por reacciones de poliadición que comprende: (1) al menos un POS portador de funciones Si-alquenilos aptas para reaccionar por reacciones de adición con las funciones reticulantes Si-H de un POS (2), (2) al menos un POS portador de funciones Si-H aptas para reaccionar con las funciones Si-alquenilos del POS (1), (3) eventualmente al menos un POS no reactivo, diferente de los POS (1) y (2), utilizable como diluyente, (4) un catalizador de las reacciones de poliadición, (5) una carga mineral reforzante de partículas; II. un agente humectante que consiste en uno o varios agente(s) tensioactivos que permiten conferir un carácter hidrófilo marcado en la superficie del material de silicona, tanto antes como después de reticulación; siendo dicho material de silicona caracterizado porque el agente humectante II se elige en el grupo constituido por: - (a) al menos un agente tensioactivo no iónico que consiste en un éster obtenido por esterificación de un monoácido carboxílico saturado de cadena lineal o ramificada en C10-C14 por un poli-(oxialquilenglicol) que contiene un número de restos alcoxilados tal que la masa molar Mw del éster se sitúa en el intervalo que va de 400 a 800 g/mol, yendo el HLB de dicho agente tensioactivo o de la mezcla de agentes tensioactivos de 6 a 14; - una asociación sinérgica (a) + (b) donde (b) designa al menos un agente tensioactivo no iónico que consiste en un alcohol alifático saturado de cadena lineal o ramificada en C5-C15, polialcoxilado que contiene un número de restos alcoxilados tal que la masa molar Mw del alcohol polialcoxilado se sitúa en el intervalo que va de 200 a 1400 g/mol, yendo el HLB de dicho agente tensioactivo (b) o de la mezcla de agentes tensioactivos (b) de 6 a 16; - una asociación sinérgica (b1) + (b2) donde: (b1) designa al menos un agente tensioactivo no iónico que consiste en un alcohol alifático saturado de cadena lineal o ramificada en C10-C16, polietoxilado que contiene de 6 a 10 restos oxietileno (OE), yendo el HLB de dicho agente tensioactivo (b1) o de la mezcla de agentes tensioactivos (b1) de 12 a 16; (b2) designa al menos un agente tensioactivo no iónico que consiste en un alcohol alifático saturado de cadena lineal o ramificada en C6- C13, polialcoxilado que contiene un número de restos oxietileno (OE) y oxipropileno (OP) tal que la masa molar Mw del alcohol polialcoxilado se sitúa en el intervalo que va de 500 a 1200 g/mol, yendo el HLB de dicho agente tensioactivo (b2) o de la mezcla de agentes tensioactivos (b2) de 6 a 16.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: RHODIA CHIMIE.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 26, QUAI ALPHONSE LE GALLO,92512 BOULOGNE BILLANCOURT CED.
Inventor/es: DEL TORTO, MARCO, LEONARD, YOAN, PUSINERI, CHRISTIAN.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 13 de Junio de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K6/10
- C08L83/04 QUIMICA; METALURGIA. › C08 COMPUESTOS MACROMOLECULARES ORGANICOS; SU PREPARACION O PRODUCCION QUIMICA; COMPOSICIONES BASADAS EN COMPUESTOS MACROMOLECULARES. › C08L COMPOSICIONES DE COMPUESTOS MACROMOLECULARES (composiciones basadas en monómeros polimerizables C08F, C08G; pinturas, tintas, barnices, colorantes, pulimentos, adhesivos D01F; filamentos o fibras artificiales D06). › C08L 83/00 Composiciones de compuestos macromoleculares obtenido por reacciones que forman un enlace que contiene silicio con o sin azufre, nitrógeno, oxígeno o carbono, solamente en la cadena principal; Composiciones de los derivados de tales polímeros. › Polisiloxanos.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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