BASES DE OXIDACION CATIONICAS SU UTILIZACION PARA EL TEÑIDO POR OXIDACION DE LAS FIBRAS QUERATINICAS, COMPOSICIONES TINTORIALES Y PROCEDIMIENTOS DE TEÑIDO.

Compuestos de la fórmula (I) siguiente, sus sales de adición con un ácido o con una base y sus posibles formas tautoméricas:

donde: R1 representa un átomo de hidrógeno; un grupo Z tal como se define a continuación; un radical alquilo C1-C6; un radical trifluoroalquilo C1-C6; un radical monohidroxialquilo C1-C6; un radical polihidroxialquilo C2-C6; un radical arilalquilo C1-C6 en el que el radical arilo es un radical fenilo o un heteroanillo aromático de cinco o seis eslabones; un radical alcoxi(C1-C6)alquilo(C1-C6); un radical alquil(C1-C6) tioalquilo (C1-C6); un radical aminoalquil(C1-C6)carbo-nilalquilo (C1-C6); un radical N-alquil(C1-C6)aminoalquil(C1-C6) carbonilalquilo(C1-C6); un radical N, N-dialquil(C1-C6) aminoalquil(C1-C6)carbonilalquilo(C1-C6); un radical aminosulfonilalquilo (C1-C6); un radical N-alquil(C1-C6)aminosulfonilalquilo(C1-C6); o un radical N, N-dialquil(C1-C6)aminosul-fonilalquilo(C1-C6); R2 y R3, idénticos o diferentes, representan un grupo -NHR4, un radical hidroxilo, un átomo de halógeno, un radical nitro, un radical ciano, un radical carboxi, un radical carboxialquilo C1-C6, un radical carbamilo, un radical N-alquil (C1-C6)carbamilo, un radical N, N-dialquil(C1-C6)carbamilo , un radical alcoxi C1-C6, un radical tioalquilo C1-C6 o uno de los significados dados antes para R1, entendiéndose que al menos uno de los radicales R2 y R3 representa un grupo -NHR4 o un radical hidroxilo; R4 representa un átomo de hidrógeno; un grupo Z tal como se define a continuación; n radical alquilo C1-C6; un radical monohidroxialquilo C1-C6; un radical polihidroxialquilo C2-C6; un radical alcoxi(C1-C6) alquilo (C1-C6); un radical bencilo; un radical cianoalquilo C1-C6; un radical carbamilalquilo C1-C6; un radical N-alquil(C1-C6)carbamilalquilo (C1-C6); un radical N;N-dialquil(C1-C6)carbamilalquilo(C1-C6); un radical tiocarbamilalquilo C1-C6; un radical trifluoroalquilo C1-C6; un radical sulfoalquilo C1-C6; un radical alquil(C1-C6)-carboxialquilo (C1-C6); un radical alquil(C1-C6)sulfinilalquilo(C1-C6); un radical aminosulfonilalquilo C1-C6; un radical N-alquil(C1-C6)aminosulfonilalquilo(C1-C6); un radical N, N-dialquil(C1-C6) aminosulfonilalquilo(C1-C6); un radical aminoalquilo C1-C6; un radical aminoalquilo C1-C6 cuya amina está substituida por uno o dos radicales idénticos o diferentes seleccionados entre los radicales alquilo C1C6, monohidroxialquilo C1-C6, polihidroxi-alquilo C C2-C6, alquil(C1-C6)carbonilo , alquil-(C1-C6)sulfonilo , formilo o trifluoroalquil-(C1-C6)carbonilo; la amina del radical aminoalquilo C1-C6 puede también estar substituida por dos radicales que forman, conjuntamente con el átomo de nitrógeno de dicha amina, un anillo saturado o insaturado de cinco o seis eslabones y que puede contener uno o varios heteroátomos seleccionados entre nitrógeno, oxígeno y azufre.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: L'OREAL.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 14, RUE ROYALE,75008 PARIS.

Inventor/es: LAGRANGE, ALAIN, TERRANOVA, ERIC.

Fecha de Publicación: 16 de Junio de 2006.

Fecha Solicitud PCT: 14 de Enero de 2000.

Fecha Concesión Europea: 23 de Noviembre de 2005.

Clasificación Internacional de Patentes:

A61K7/13
C07D231/38 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 231/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de diazol-1,2 o diazol-1,2 hidrogenado. › Atomos de nitrógeno (radicales nitro C07D 231/16).
C07D403/12 C07D […] › C07D 403/00 Compuestos heterocíclicos que contienen dos o más heterociclos, que tienen átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo, no previstos por el grupo C07D 401/00. › unidos por una cadena que contiene heteroátomos como enlaces de cadena.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

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