VALVULA MAGNETICA DE CONTROL PARA UN LIMPIAFONDOS DE PISCINA ACCIONADO POR SUCCION.
En un limpiafondos (10) de piscinas, para su conexión a una fuente de succión,
incluyendo dicho limpiafondos un cabezal (30) del limpiafondos que define una entrada (34) de succión abierta para la entrada del flujo de agua y de los residuos contenidos en el agua desde una superficie sumergida de una piscina, una puerta (62) de succión acoplada en comunicación fluídica con dicha entrada de succión y adaptada para la conexión a una fuente de succión, y una válvula (16) de control que incluye un miembro (64) de válvula montado en dicho cabezal del limpiafondos para ejercer un movimiento de vaivén entre una posición abierta para permitir sustancialmente el flujo de agua sin obstrucciones desde dicha entrada de succión, y una posición sustancialmente cerrada para obstruir el flujo de agua desde dicha entrada de succión a dicha puerta de succión, caracterizada porque: dicha válvula (16) de control incluye al menos un imán(70) desplazable con dicho miembro (64) de válvula, durante al menos una parte del movimiento de dicho miembro de válvula entre dichas posiciones abierta y cerrada; y medios (76, 78) de imán de reacción para reaccionar con dicho al menos un imán (70) del miembro de válvula y generar una fuerza de repulsión al desplazarse dicho miembro (64) de válvula desde dicha posición abierta hasta dicha posición sustancialmente cerrada, para invertir la dirección del movimiento de dicho miembro de válvula.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: POLARIS POOL SYSTEMS, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 2620 COMMERCE WAY,VISTA, CA 92083-8438.
Inventor/es: VELOSKEY, THOMAS, E., FORBES, JUSTIN, A., WICHMANN, JEFFREY, A., SARGENT, RONALD, J.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 10 de Mayo de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- E04H4/16 CONSTRUCCIONES FIJAS. › E04 EDIFICIOS. › E04H EDIFICIOS O CONSTRUCCIONES SIMILARES PARA EMPLEOS PARTICULARES; PISCINAS PARA NADAR O PARA CHAPOTEAR; MASTILES; BARRERAS; TIENDAS O REFUGIOS PROVISIONALES, EN GENERAL (cimentaciones E02D). › E04H 4/00 Piscinas para nadar o para chapotear (generadores de olas en las bañeras A47K 3/10; separación de B01D; tratamiento del agua C02F; bombas que producen olas F04D 35/00). › especialmente adaptados para la limpieza de las piscinas para nadar o para chapotear (dispositivos de limpieza especiales para barcos B63B 59/00).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Zambia, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Guinea Ecuatorial, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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