GEMAS DE DIAMANTE ARTIFICIALES FORMADAS DE NITRURO DE ALUMINIO Y ALEACIONES DE NITRURO DE ALUMINIO:CARBURO DE SILICIO.

Gema de diamante artificial que comprende un monocristal de AlN o aleación de AlN:

SiC, incoloro y sintético que tiene facetas pulidas hasta un grado de alisado característico de las gemas de diamante terminadas y suficiente para permitir la introducción de la luz en la gema para la reflexión interna desde el interior de la gema.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CREE RESEARCH, INC..

Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.

Dirección: 4600 SILICON DRIVE,DURHAM, NORTH CAROLINA 27703.

Inventor/es: HUNTER, CHARLES, ERIC.

Fecha de Publicación: .

Fecha Solicitud PCT: 8 de Octubre de 1999.

Fecha Concesión Europea: 31 de Marzo de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C30B23/00 QUIMICA; METALURGIA.C30 CRECIMIENTO DE CRISTALES.C30B CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES (por sobrepresión, p. ej. para la formación de diamantes B01J 3/06 ); SOLIDIFICACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTICOS O SEPARACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTOIDES; AFINAMIENTO DE MATERIALES POR FUSION DE ZONA (afinamiento por fusión de zona de metales o aleaciones C22B ); PRODUCCION DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (colada de metales, colada de otras sustancias por los mismos procedimientos o aparatos B22D; trabajo de materias plásticas B29; modificación de la estructura física de metales o aleaciones C21D, C22F ); MONOCRISTALES O MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA; TRATAMIENTO POSTERIOR DE MONOCRISTALES O DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (para la fabricación de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas H01L ); APARATOS PARA ESTOS EFECTOS. › Crecimiento de monocristales por condensación de un material evaporado o sublimado.
  • C30B25/00 C30B […] › Crecimiento de monocristales por reacción química de gases reactivos, p. ej. crecimiento por depósito químico en fase vapor.
  • C30B29/36 C30B […] › C30B 29/00 Monocristales o materiales policristalinos homogéneos de estructura determinada caracterizados por los materiales o por su forma. › Carburos.
  • C30B29/38 C30B 29/00 […] › Nitruros.
  • C30B29/40 C30B 29/00 […] › Compuestos A III B V.

Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.

GEMAS DE DIAMANTE ARTIFICIALES FORMADAS DE NITRURO DE ALUMINIO Y ALEACIONES DE NITRURO DE ALUMINIO:CARBURO DE SILICIO.

Patentes similares o relacionadas:

Preparación de material semiconductor de cristal individual usando una plantilla nanoestructural, del 3 de Julio de 2019, de Nanogan Limited: Un procedimiento para crear nanoestructuras de semiconductor, el cual comprende los pasos de: (a) proporcionar un material de plantilla que comprende una capa de […]

Método para fabricar un sustrato de SiC con película epitaxial de SiC, del 17 de Mayo de 2017, de DOW CORNING CORPORATION: Un método de fabricación de una oblea epitaxial de 4H-SiC que comprende una película epitaxial de SiC sobre un sustrato de 4H-SiC monocristalino, donde el método comprende: […]

Lingote de carburo de silicio monocristalino, y sustrato y oblea epitaxial obtenidos a partir del lingote de carburo de silicio monocristalino, del 12 de Octubre de 2016, de NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION: Un lingote de carburo de silicio monocristalino, que comprende carburo de silicio monocristalino que contiene una impureza del tipo donante en una concentración de 2 x 1018 […]

CARBURO DE SILICIO SEMIAISLANTE SIN DOMINIO DE VANADIO., del 1 de Mayo de 2007, de CREE, INC.: Monocristal volumétrico semiaislante de carburo de silicio que tiene una resistividad de al menos 5.000 O-cm a temperatura ambiente, una concentración de elementos […]

PROCEDIMIENTO DE FORMACIN DE UNA CAPA DE CARBURO DE SILICIO O DE NITRURO DE UN ELEMENTO DEL GRUPO III SOBRE UN SUSTRATO ADAPTADO., del 16 de Mayo de 2006, de CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS): Producto intermediario para la realización de componentes ópticos, electrónicos u optoeléctricos, que comprende una capa cristalina de carburo de silicio cúbico sobre un sustrato […]

METODO Y APARATO PARA HACER CRECER CRISTALES DE CARBURO DE SILICIO., del 16 de Junio de 2005, de CREE, INC.: Método de control y potenciación del crecimiento de cristales únicos de SiC de alta calidad en un sistema de crecimiento de cristales de SiC, comprendiendo el método dirigir […]

PROCEDIMIENTO DE CRECIMIENTO CRISTALINO SOBRE SUBSTRATO., del 1 de Mayo de 2004, de CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE: Procedimiento de crecimiento cristalino de un material sobre un primer material sólido , a partir de un material en fusión, sobre el primer material sólido […]

Imagen de 'Nanobarra de óxido de indio'Nanobarra de óxido de indio, del 11 de Febrero de 2019, de Hsu, Kuo-Ming: Un sustrato que porta nanobarras de óxido de indio, que comprende: un sustrato (SUB); y una pluralidad de nanobarras (R) de óxido de […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .