DISPOSITIVO Y METODO PARA APLICAR UN MEDIO A UN SUBSTRATO, SISTEMA DOTADO DE UNA PLURALIDAD DE DICHOS DISPOSITIVOS, Y USO DE UN TAL DISPOSITIVO METODO Y SISTEMA.
Un dispositivo para aplicar un medio (12) en forma líquida, en pasta o en polvo a un substrato (2) para formar un patrón sobre dicho substrato,
comprendiendo el dispositivo: - un dispositivo de transporte (1) para recoger el medio (12) y suministrarlo a una zona de entrega de manera distribuida; y - un dispositivo de entrega (3 a 6) para transferir el medio (12) de la zona de entrega al substrato (2), dicho dispositivo de entrega tiene un dispositivo propulsor con un propelente que está separado del medio, para impulsar el medio desde la zona de entrega, donde el dispositivo propulsor está adaptado para propulsar medio desde puntos seleccionables de la zona de entrega, y para esto se proporcionan medios de control para controlar el dispositivo propulsor para seleccionar dichos puntos, el dispositivo propulsor se caracteriza porque está provisto de boquillas (6) colocadas sobre todo el ancho del dispositivo de transporte (1), y válvulas (5) conectadas respectivamente corriente arriba de estas boquillas, y porque el propelente es un fluido.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: STORK TEXTILE PRINTING GROUP B.V.
Nacionalidad solicitante: Países Bajos.
Dirección: 43A, WIM DE KIRVERSTRAAT,5830 AA.
Inventor/es: JUFFINGER, JOSEF, WEFERS, LOTHAR.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 12 de Febrero de 1999.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41F15/08 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41F MAQUINAS O PRENSAS DE IMPRIMIR (dispositivos para copiar en varios ejemplares o aparatos para impresión de oficina B41L). › B41F 15/00 Máquinas de serigrafía. › Máquinas.
- B41F15/40 B41F 15/00 […] › Sistemas de entintado.
Países PCT: Austria, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Portugal, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Australia, Azerbayán, Bosnia y Herzegovina, Barbados, Bulgaria, Brasil, Bielorusia, Canadá, China, República Checa, Estonia, Granada, Georgia, Ghana, Gambia, Croacia, Hungría, Indonesia, Israel, India, Islandia, Japón, Kenya, Kirguistán, República de Corea, Kazajstán, Santa Lucía, Sri Lanka, Liberia, Lesotho, República del Moldova, Madagascar, Mongolia, Malawi, México, Noruega, Nueva Zelanda, Polonia, Federación de Rusia, Sudán, Singapur, Eslovaquia, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, Turquía, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Cuba, República Popular Democrática de Corea, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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