COMPOSICIONES LIQUIDAS DE PROTECCION SOLAR CON BUENA DEPOSICION Y FORMACION DE ESPUMA.
Una composición de limpieza para el lavado personal, que comprende:
(a) desde 5 % hasta 70 % en peso, de un tensioactivo o tensioactivos seleccionado entre el grupo formado por tensioactivos aniónico, no iónico, anfótero o zwitteriónico y catiónico, en el que al menos un tensioactivo es un tensioactivo aniónico que representa al menos el 3 % en peso de la composición total; (b) desde aproximadamente 0, 3 hasta aproximadamente 5 % en peso de un polímero catiónico; (c) desde 5 % hasta 35 % en peso de un protector solar o una mezcla de protectores solares; en la que la concentración del componente de protección solar (c) está por encima del límite de solubilidad del componente de protección solar en el sistema tensioactivo en el cual se usa dicho componente de protección solar; en la que la composición tiene un factor FPS de al menos 2; en la que la deposición del protector solar es de al menos 10 micrag/cm2; y en la que la composición tiene un volúmen de espuma superior a 70 ml usando un ensayo de embudo.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: UNILEVER PLC
UNILEVER N.V..
Nacionalidad solicitante: Reino Unido.
Dirección: UNILEVER HOUSE, BLACKFRIARS,LONDON EC4P 4BQ.
Inventor/es: TSAUR, LIANG SHENG, UNILEVER RESEARCH U.S. INC., MACAULAY, ERNEST W. UNILEVER RESEARCH U.S. INC., ARONSON, MICHAEL, PAUL UNILEVER RESEARCH U.S. INC., MORGAN, LESLIE JO, PUVVADA, SUDHAKAR, UNILEVER HOME & PERS. CARE USA, LAM, ANDREW CHOCK-SUN, UNILEVER RESEARCH U.S. INC., SHEN, SHIJI, UNILEVER RESEARCH U.S. INC.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 14 de Abril de 2000.
Fecha Concesión Europea: 20 de Noviembre de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- A61K7/42
- A61K7/48
- A61K7/50
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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