METODO MEJORADO PARA ENDURECER SELECTIVAMENTE UNA RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA MEDIANTE EXPOSICION DE ENMASCARAMIENTO.
SE SUMINISTRA UN METODO MEJORADO PARA ENDURECER SELECTIVAMENTE UNA RESINA FOTOSENSIBLE LIQUIDA MEDIANTE EXPOSICION ENMASCARADA EN EL CUAL SE SUMINISTRA UN CONTACTO ASPERO,
DESIGUAL O IRREGULAR DIRECTA O INDIRECTAMENTE ENTRE LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO Y EL SUBSTRATO. DEBIDO A ESTA CARACTERISTICA, SE EVITA LA COEXION INTERFACIAL ENTRE LA SUPERFICIE INFERIOR DE LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO QUE MIRA HACIA EL SUBSTRATO Y LA SUPERFICIE SUPERIOR DEL SUBSTRATO QUE MIRA A LA PELICULA DE ENMASCARAMIENTO. DE ESTA FORMA NO EXISTEN BOLSAS DE AIRE FORMADAS ENTRE LAS DOS SUPERFICIES. ADEMAS, NO HAY PELIGRO DE QUE EL SUBSTRATO PUDIERA SOBRESALIR DE LA CAPA DE RESINA DE TAL FORMA QUE LA PLANCHA DE IMPRESION PODRIA TENER UNA DISMINUCION LOCAL NO DESEABLE EN SU GROSOR. COMO RESULTADO MEDIANTE EL METODO DEL PRESENTE INVENTO, SE PUEDE OBTENER UNA LAMINA DE IMPRESION QUE TIENE UN ALTO GRADO DE UNIFORMIDAD EN SU GROSOR, CON BUENA REPRODUCTIBILIDAD.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: YAMASHITA, TAKASHI.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 2-6, DOJIMAHAMA 1-CHOME KITA-KU,OSAKA-SHI OSAKA 530.
Inventor/es: YAMASHITA, TAKASHI, KOJIMA, TSUTOMU.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 25 de Enero de 1995.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F1/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej. mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación.
- G03F7/02
- G03F7/20 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
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