Una placa original de impresión flexográfica.

Una placa original de impresión flexográfica fotosensible y revelable por agua,

en la que están estratificados sucesivamente al menos un miembro de soporte, una capa de resina fotosensible, una capa protectora y una capa de máscara, caracterizada porque, la capa protectora contiene: (A) alcohol polivinílico, (B) plastificante y (C) látex dispersable en agua en la siguiente proporción:

alcohol polivinílico (A): 25 a 80 partes en peso

plastificante (B): 15 a 60 partes en peso y

látex dispersable en agua (C): 5 a 40 partes en peso,

en la que la capa de resina fotosensible comprende un látex, un compuesto insaturado fotopolimerizable y un iniciador de fotopolimerización; y

en el que el grado de saponificación del alcohol polivinílico (A) es del 60% al 90%.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2010/062493.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8230 JAPON.

Inventor/es: YOSHIMOTO,KAZUYA, KAWAKAMI,TETSUMA, YAWATA,YUKIMI.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F1/00 SECCION G — FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej., mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación.
  • G03F1/68 G03F […] › G03F 1/00 Originales para la producción por vía fotomecánica de superficies texturadas, p. ej., mascaras, foto-mascaras o reticulas; Máscara en blanco o películas para ello; Contenedores especialmente adaptados a este efecto; Su preparación. › Procesos de preparación no cubiertos por los grupos G03F 1/20 - G03F 1/50.
  • G03F7/00 G03F […] › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/09 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
  • G03F7/20 G03F 7/00 […] › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).

PDF original: ES-2644548_T3.pdf

 

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