CABEZAL DE REGISTRO PARA INYECCION DE LIQUIDO.

UN CABEZAL DE REGISTRO PARA INYECCION DE LIQUIDO QUE TIENE UN CONDUCTO DE LIQUIDO COMUNICADO A LA SALIDA DE DESCARGA DEL LIQUIDO PROVISTO EN LA SUPERFICIE DEL SUSTRATO,

DICHO CONDUCTO ESTA FORMADO PARA RETENER UNA CAPA DE COMPOSICION RESINOSA CURABLE CON UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA PARA UN MODELO EXPUESTO PREDETERMINADO CON EL USO DE DICHO RAYO DE ENERGIA ACTIVA PARA ALLI FORMAR UNA REGION CURADA DE DICHA COMPOSICION RESISONA Y QUITAR LA REGION NO CURADA DE DICHA CAPA, DICHA COMPOSICION RESINOSA TIENE UN RAYO DE ENERGIA ACTIVA CURABLE DE UNA COMPOSICION RESINOSA QUE COMPRENDE, (A) UN INJERTO DE POLIMERO COPOLIMERIZADO COMPRENDE CADENAS ALINEADAS COMPUESTAS DE UNIDADES ESTRUCTURALES QUE COMPRENDEN UN MONOMERO QUE COMPRENDE EN LA MOLECULA UN GRUPO METACRILICO Y UN GRUPO DERIVADO DICICLOPENTENIL REPRESENTADO POR LA FORMULA GENERAL (I) EXPUESTA ABAJO, EN DONDE Z REPRESENTA UN ANILLO UNIDO-5 REPRESENTADO POR LA FORMULA (III). R1 Y R2 REPRESENTAN CADA UNO ATOMOS DE HIDROGENO O GRUPOS ANALQUILICOS QUE TIENEN DE UNO A TRES ATOMOS SE CARBONO Y AL MENOS UN MONOMERO ELEGIDO DEL GRUPO CONSISTENTE EN METACRILATOS ALQUILICOS, ACRILONITRILOS Y ESTIRENO QUE TIENE INJERTOS DE CADENAS COMPUESTOS PRINCIPALMENTE POR UNIDADES ESTRUCTURALES DERIVADAS DE, AL MENOS, UN MONOMERO ELEGIDO DEL GRUPO CONSISTENTE EN (A) HIDROXILO QUE CONTIENEN (META) MONOMEROS ACRILICOS (B) AMINOS O ALQUILAMINOS QUE CONTIENEN (META) MONOMEROS ACRILICOS O VINILICOS; (D) N-VINILICO PIRALIDON, (E) VINILICO PIRIDINA O SUS DERIVADOS Y (F) (META) ACRILAMIDAS DERIVADAS REPRESENTADOS POR LA SIGUIENTE FORMULA GENERAL (II): EN DONDE R1 ES HIDROGENO O GRUPO METIL Y R2 ES HIDROGENO O ALQUILO O GRUPO ACIL QUE TIENEN DE 1 A 4 ATOMOS DE CARBONO LOS CUALES PUEDEN TENER GRUPOS HIDROXI, SUMADOS A DICHOS INJERTOS DE CADENAS; Y (B) UN MONOMERO QUE TIENE UN MONOMERO QUE TIENE UN ENLACE INSATURADO ETILENICAMENTE.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: CANON KABUSHIKI KAISHA.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 30-2, 3-CHOME, SHIMOMARUKO, OHTA-KU, TOKYO.

Inventor/es: NOGUCHI, HIROMICHI, SATO, YASUFUMI, MUNAKATA, MEGUMI.

Fecha de Publicación: 1 de Julio de 1994.

Fecha Concesión Europea: 15 de Julio de 1992.

Clasificación Internacional de Patentes:

G03C1/72 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03C MATERIALES FOTOSENSIBLES PARA FOTOGRAFIA; PROCESOS FOTOGRAFICOS, p. ej. PROCESOS CINEMATOGRAFICOS, DE RAYOS X, EN COLORES o ESTEREOFOTOGRAFICOS; PROCESOS AUXILIARES EN FOTOGRAFIA (procesos fotográficos caracterizados por el uso o la manipulación de aparatos, pueden ser clasificados en sí en la subclase G03B o ver G03B). › G03C 1/00 Materiales fotosensibles (materiales fotosensibles para procesos multicolores G03C 7/00; para procesos de difusión por transferencia G03C 8/00). › Composiciones fotosensibles no cubiertas por los grupos G03C 1/005 - G03C 1/705.
G03F7/027 G03 […] › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos fotopolimerizables no macromoleculares que contienen dobles enlaces carbono-carbono, p. ej. compuestos etilénicos (G03F 7/075 tiene prioridad).

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