7 inventos, patentes y modelos de SICLOVAN, TIBERIU, MIRCEA
COMPOSICIONES Y PROCEDIMIENTOS PARA LA FORMACION DE IMAGENES NO INVASIVA DE BETA-AMILOIDE SOLUBLE.
(16/12/2010) Un agente de formación de imágenes que comprende un compuesto de benzofurano de fórmula (II): en la que R 1 es alquil hidroxi; y R 2 es un radical hidrocarburo seleccionado entre el grupo que consiste en las estructuras 1a a 53a; comprendiendo dicho compuesto, adicionalmente, un marcador seleccionado entre el grupo que consiste en radioisótopos, partículas paramagnéticas y partículas ópticas
COMPUESTOS Y KIT PARA LA PREPARACION DE FORMACION DE IMAGENES Y PROCEDIMIENTOS DE FORMACION DE IMAGENES.
Sección de la CIP Necesidades corrientes de la vida
(01/03/2009). Ver ilustración. Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: A61K51/04.
Un compuesto que comprende un resto dirigido unido a un grupo saliente, en el que el grupo saliente se selecciona entre: (i) grupos de fórmula: (Ver fórmula) en la que X es S, O y R puede ser igual o diferente cada vez que se presenta y se selecciona entre grupos alquilo C1 a C 20; (ii) grupos de fórmula: (Ver fórmula) en la que Y es N o CH; (iii) grupos de fórmula: (Ver fórmula) en la que cuando X es S, entonces Y es O o S, y en la que cuando X es O, entonces Y es S; (iv) grupos de fórmula: (Ver fórmula) en la que X se selecciona entre alquileno C 4 a C 10, -CN, -N + (CH 3) 3, o -(Q) nOCH 3, en la que Q es alcoxi C 2 a C 6 y n = 1 a 6; (v) grupos de fórmula: (Ver fórmula) en la que X se selecciona entre alquileno C4 a C10, -CN, -N + (CH3)3, o -(Q)nOCH3, en la que Q es alcoxi C2 a C6 y n = 1 a 6; y (vi) grupos de fórmula: -OSO yCF2.CH2X en la que X se selecciona entre alquileno C4 a C10, -CN, -N+(CH3)3, o -(Q)nOCH3, en la que Q es alcoxi C2 a C6 y n = 1 a 6.
ARTICULOS DE SOPORTE DE MICROESTRUCTURAS CURABLES POR RADIACION.
Secciones de la CIP Física Química y metalurgia
(16/12/2007). Ver ilustración. Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: G02B1/04, C08F222/10, G02B5/04, G02B3/00.
Un artículo que es curable por radiación en un artículo óptico resinoso que tiene una superficie con una microestructura replicada que comprende una pluralidad de discontinuidades utilitarias que tienen un propósito óptico, dicho artículo óptico resinoso tiene una temperatura de transición vítrea de al menos 35ºC; dicho artículo curable por radiación está libre de moléculas carbocíclicas y heterocíclicas polimerizables y comprende: (A) al menos un monómero acrílico monofuncional seleccionado entre el grupo constituido por: al menos un t-alquil (met)acrilato monomérico, al menos una (met)acrilamida monomérica N-sustituida o N, N-disustituida y al menos un alquil (met)acrilato C1-8 primario o secundario; (B) al menos un monómero de (met)acrilato o (met)acrilamida multifuncional; (C) opcionalmente, al menos un (met)acrilato oligomérico multifuncional; y (D) al menos un fotoiniciador.
COPOLIESTERCARBONATOS DE BLOQUE RESISTENTES A LA INTERPERIE, PROCEDIMIENTOS PARA SU PREPARACION Y MEZCLAS QUE LOS CONTIENEN.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(16/04/2006). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: C08L69/00, C08G63/64, C08L67/00.
Un copoliestercarbonato de bloque que está constituido por bloques de carbonato orgánicos que se alternan con bloques de arilato, comprendiendo dichos bloques de arilato unidades estructurales de arilato derivadas de al menos un resto 1, 3-dihidroxibenceno y al menos un ácido dicarboxílico aromático y que presentan un grado de polimerización de al menos aproximadamente 4.
COPOLIMEROS RESISTENTES A LA INTEMPERIE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/12/2004). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: C08G63/60, C08G63/19.
LA INVENCION SE REFIERE A COMPOSICIONES DE COPOLIMEROS DE BLOQUE BLANDOS DE POLIESTER, RESISTENTES A LA INTEMPERIE, QUE COMPRENDEN COPOLIMEROS DE RESORCINOL O, ALTERNATIVAMENTE, FENOL, ACIDO DICARBOXILICO AROMATICO Y UNIDADES ESTRUCTURALES A BASE DE ACIDO DICARBOXILICO ALIFATICO. DICHOS COPOLIMEROS COMPRENDEN UNA PROPORCION CONSIDERABLE DE ENLACES DIRECTOS ENTRE EL RESORCINOL O, ALTERNATIVAMENTE, EL FENOL, Y LAS UNIDADES ESTRUCTURALES A BASE DE ACIDO DICARBOXILICO AROMATICO. EL RESTO DE ENLACES DIRECTOS SE ESTABLECEN ENTRE EL RESORCINOL Y LAS UNIDADES ESTRUCTURALES A BASE DE ACIDO DICARBOXILICO ALIFATICO.
COPOLIESTERCARBONATOS DE BLOQUE RESISTENTES A LA INTEMPERIE Y MEZCLAS QUE LOS CONTIENEN.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/09/2004). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: C08G63/64.
Un copoliestercarbonato de bloque que comprende bloques de carbonato orgánico que se alternan con bloques de arilato, comprendiendo dichos bloques de arilato unidades estructurales de arilato provenientes de un 1, 3- dihidroxibenceno y al menos un ácido dicarboxílico aromático y que tiene un grado de polimerización de al menos 4.
MEZCLAS DE POLICARBONATOS CON POLIMEROS DE ARILATO RESISTENTES A LA EXPOSICION A LA INTEMPERIE.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/01/2004). Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Clasificación: C08L69/00.
Una composición resinosa que comprende un policarbonato en la cantidad de al menos un 30% en peso y una proporción inferior, eficaz para mejorar la estabilidad del color o la retención del brillo, de un polímero termoplástico de arilato constituido por primeras unidades estructurales derivadas de un isoftalato-tereftalato de resorcinol o o alquilresorcinol, opcionalmente junto con segundas unidades estructurales derivadas de un éster de resorcinol o alquilresorcinol de un ácido dicarboxílico alifático C4_12, alicíclico o mixto alifático- alicíclico.
