Método de producción de polímero recubierto.
(10/08/2016) Un método de fabricación de un artículo de polímero que tiene un recubrimiento fino formado sobre al menos una de sus caras por plasma, consistiendo dicho recubrimiento en un primer recubrimiento y un segundo recubrimiento, caracterizado por que dicho método comprende sucesivamente:
- un tratamiento con plasma sobre dicho artículo de polímero;
- una deposición del primer recubrimiento de SiOxCyHz por generación de un plasma tanto de tetrametilsilano como de tetrametilsilano y un gas oxidante, estando la relación entre el gas oxidante y el tetrametilsilano comprendida entre cero y tres en una primera etapa para obtener dicho primer recubrimiento, de manera que el valor x…
Artículo de polímero que tiene un recubrimiento fino formado sobre al menos una de sus caras por plasma.
(24/12/2014) Artículo de polímero que tiene un recubrimiento fino sobre al menos una de sus caras, caracterizado porque dicho recubrimiento comprende un primer recubrimiento de SiOxCyHz que es tanto un tetrametilsilano polimerizado con plasma como un tetrametilsilano polimerizado con plasma y un gas oxidante, preferentemente oxígeno o dióxido de carbono, depositado sobre la superficie sobre dicho artículo de polímero, estando el valor x entre 0 y 1,7, estando el valor y entre 0,5 y 0,8, estando el valor z entre 0,35 y 0,6 para dicho primer recubrimiento de SiOxCyHz y un segundo recubrimiento de SiOxCyHz que es un tetrametilsilano polimerizado con plasma y un gas oxidante, preferentemente oxígeno o dióxido de carbono, depositado sobre la superficie sobre dicho primer recubrimiento, estando el valor…
Procedimiento de tratamiento de un material polímero, dispositivo para la puesta en práctica de este procedimiento y utilización de este dispositivo en el tratamiento de cuerpos huecos.
(21/05/2014) Procedimiento para el tratamiento de un artículo de material polímero para depositar sobre al menos una de sus caras un revestimiento con efecto barrera, caracterizado porque comprende la creación de un plasma de descarga en un gas precursor de 1,1,1,2-tetrafluoroetano o de pentafluoroetano, y porque comprende, antes de la creación de un plasma de descarga en un gas de 1,1,1,2-tetrafluroetano o de pentafluoroetano, la creación de un plasma de descarga en un gas de acetileno a baja presión.
DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE UN RECIPIENTE CON PLASMA DE MICROONDAS.
(01/04/2004) Dispositivo para el tratamiento superficial de un recipiente, del tipo en el que el tratamiento se realiza por medio de un plasma a baja presión por excitación de un fluido reactivo, merced a ondas electromagnéticas de tipo de microondas, y del tipo en el que el recipiente está colocado en un recinto de material conductor, en cuyo interior se introducen las microondas por intermedio de un dispositivo de acoplamiento, caracterizado porque el recinto es cilíndrico de revolución, alrededor de un eje principal (A1) del recipiente , porque el dispositivo de acoplamiento comprende un túnel para el guiado de las ondas que se…
RECIPIENTE CON UN REVESTIMIENTO DE MATERIAL CON EFECTO DE BARRERA Y PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA SU FABRICACION.
Secciones de la CIP Técnicas industriales diversas y transportes Química y metalurgia
(16/01/2003). Solicitante/s: SIDEL. Clasificación: B05D7/24, C23C16/26.
Recipiente, tal como una botella o frasco, de constitución heterogénea de un material con efecto de barrera y un material polímero, caracterizado porque el material con efecto de barrera comprende un material carbono amorfo con tendencia polímera, que reviste un substrato de material polímero.
Sección de la CIP Electricidad
(16/04/1994). Solicitante/s: CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS). Clasificación: H01J37/32, H05H1/46.
EL INVENTO CINCIERNE UN REACTOR DE PLASMA, COMPRENDIENDO: UN RECINTO SUSCEPTIBLE DE RECIBIR UN FLUJO GASEOSO ESCOGIDO, UN GENERADOR MICROONDAS , Y UNOS MEDIOS DE GUIA DE ONDAS PARA LLEVAR LAS MICROONDAS AL RECINTO , SEGUN UN ACOPLAMIENTO NO RESONANTE EN EL CUAL EL RECINTO NO DISIPA BAJO FORMA DE RADIACION ELECTROMAGNETICA LA ENERGIA DE HIPERFRECUENCIA QUE LE ES COMUNICADA EN PRESENCIA DEL GAS. SEGUN UNA DEFINICION GENERAL DEL INVENTO EL RECINTO ES DE GRAN TAMAÑO, LA PARTE TERMINAL DE LOS MEDIOS DE GUIA DE ONDAS ESTA PROGRESIVAMENTE REBAJADA EN UN SENTIDO Y ENSANCHADA EN EL OTRO, HASTA ALCANZAR UNA SECCION DERECHA RECTANGULAR PLANA RODEANDO COMPLETAMENTE DICHO RECINTO , Y PARA PROCURAR UN ACOPLAMIENTO NO RESONANTE CON ESTA.
DISPOSITIVO DE FABRICACION DE PREFORMAS PARA FIBRAS OPTICAS.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/01/1993). Solicitante/s: ETAT FRANCAIS REPRESENTE PAR LE MINISTRE DES POSTES, TELECOMMUNICATIONS ET DE L'ESPACE. Clasificación: C23C16/00, C03B37/018.
SE PONE EN MARCHA LA TECNICA DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR USANDO UN PLASMA MANTENIDO POR ONDAS DE SUPERFICIE EN UN TUBO DESTINADO A LA OBTENCION DE UNA PREFORMA Y COMPRENDE MEDIOS DE FOTODETECCION SENSIBLES A LA LUZ EMITIDA POR LA ZONA DE DEPOSITO DEL REVESTIMIENTO VIDRIADO RESULTANDO DE LA REACCION ENTRE COMPUESTOS GASEOSOS ADECUADOS, Y APTOS PARA PROPORCIONAR INFORMACIONES RELATIVAS A LA ZONA DE EMISION DE ESTA LUZ, Y MEDIOS DE REGULACION DEL DESPLAZAMIENTO DE LA ZONA DE DEPOSITO, SIENDO EL DESPLAZAMIENTO TAL QUE EL ESPESOR DEL REVESTIMIENTO SEA UNIFORME EN EL TUBO, PIDIENDO ESTOS MEDIOS DE REGULACION LA POTENCIA DEL GENERADOR DE MICROONDAS DEL DISPOSITIVO EN FUNCION DE DICHAS INFORMACIONES. APLICACION AL CAMPO DE LAS TELECOMUNICACIONES.