Procedimiento de obtención de un recubrimiento de aluminiuro de níquel sobre un sustrato metálico y pieza provista de tal revestimiento.
Sección de la CIP Química y metalurgia
(01/01/2020). Inventor/es: JOSSO, PIERRE, BACOS, MARIE PIERRE, BILHE PASCAL. Clasificación: C23C10/52, C23C10/48.
Proceso para obtener un recubrimiento de aluminiuro de níquel sobre un sustrato metálico, caracterizado por que comprende las siguientes etapas:
a) recubrir el sustrato con un depósito de níquel;
b) aplicar una lámina de aluminio sobre el depósito de níquel de la etapa a) para formar un conjunto formado por el sustrato recubierto con el depósito de níquel y la lámina de aluminio; y
c) someter este conjunto a un tratamiento térmico a una temperatura de 550°C a 655°C, durante al menos 1 hora y bajo un vacío mejor que 10-4 Pa, para provocar una reacción entre el aluminio y el níquel y formar así una capa de aluminiuro de níquel β-NiAl que recubre una capa de níquel, sin el uso de gas halogenado.
PDF original: ES-2780391_T3.pdf
Sistema de formación de imagen de gran campo infrarrojo.
(05/12/2018) Sistema de formación de imagen de gran campo para el ámbito espectral infrarrojo que comprende un recinto de vacío abierto ópticamente por una ventanilla para el paso de los rayos de campo que provienen de la escena que hay que formar en imagen, una cámara oscura enfriada provista de un diafragma frío , un detector infrarrojo colocado en el interior de la cámara oscura enfriada y un dispositivo de conjugación óptica de los rayos de campo con el detector infrarrojo , comprendiendo el dispositivo de conjugación óptica al menos una lente fría convergente colocada en el interior de dicha cámara oscura enfriada para focalizar los rayos de campo sobre el detector infrarrojo y al menos una lente caliente convergente o divergente…
Procedimiento de estimación de por lo menos una deformación del frente de onda de un sistema óptico o de un objeto observado por el sistema óptico, y dispositivo asociado.
(30/08/2017) Procedimiento de estimación de por lo menos una deformación del frente de onda de un sistema de observación o de un objeto observado por dicho sistema de observación , que consiste en que: - se adquiere, cerca del plano focal del sistema de observación, por lo menos una imagen de diversidad en por lo menos un plano de diversidad, comprendiendo la imagen de diversidad una deformación de diversidad conocida; y
caracterizado por que en cada plano de diversidad:
- se determina un modelo de imagen basado en por lo menos
- una descomposición de la transmisión pupilar de la pupila física del sistema…
Dispositivo de control de la fase de un frente de onda óptico.
(04/01/2017) Dispositivo de control de la fase de un frente de onda óptico incidente de longitud de onda comprendida en una banda espectral de utilización dada, incluyendo un substrato al menos parcialmente transparente en dicha banda espectral y un conjunto de láminas (22i ,23i, 24i) dispuesta sensiblemente perpendicularmente a la superficie del substrato, caracterizado por que:
-dicho conjunto de láminas incluye una alternancia de láminas yuxtapuestas, respectivamente de material metálico (22i), de un primer material dieléctrico (23i) y en al menos un segundo material dieléctrico (24i) diferente del primer material dieléctrico, de tal forma que forme unas estructuras (Si) metal-multi dieléctrico-metal (MmultiDM) yuxtapuestas, de anchuras (wi) de sub-longitud de onda, cada estructura forma una cavidad que presenta uno o varios modos de propagación,…
Procedimiento de reparación local de barreras térmicas.
(12/10/2016) Procedimiento de reparación de barrera térmica de componente que comprende un sustrato revestido con dicha barrera térmica, estando realizado dicho sustrato con una aleación de alto rendimiento, siendo dicha barrera térmica adherente a la aleación y de conductividad térmica inferior a la aleación, comprendiendo dicha barrera térmica al menos una cerámica, estando una región de la barrera térmica para reparar, comprendiendo las siguientes etapas:
a) delimitar la región que se va a reparar mediante una máscara que protege las otras regiones de la barrera térmica;
b) inyectar un gas portador cargado de gotitas de precursor de cerámica en una descarga de plasma en el interior de una cámara de plasma de reactor de plasma que alberga el componente que se va a reparar efectuando…
Procedimiento y sistema para depositar óxido sobre un componente poroso.
(12/10/2016) Procedimiento para formar una capa de óxido sobre un componente permeable constituido por un material o un apilamiento de materiales estable a 400°C, comprendiendo dicho componente una superficie externa a revestir y al menos un poro de diámetro comprendido entre 50 y 1.000 μm que desemboca en dicha superficie externa, que comprende los pasos siguientes:
a) inyectar un gas portador cargado de gotitas de al menos un precursor del óxido en un plasma a baja presión dentro de un recinto de reactor de plasma que alberga el componente a revestir, e inyectar un fluido que pasa por el componente permeable y sale en estado gaseoso por dicho al menos un poro, con flujo opuesto al del gas portador en la cámara de plasma para evitar la obstrucción…
Actuador plano piezoeléctrico de gran desplazamiento a cizalladura.
(27/07/2016) Actuador piezoeléctrico de gran desplazamiento de cizalladura en una dirección escogida, que presenta una estructura de emparedado que incluye al menos una capa activa que incluye fibras piezoeléctricas paralelas entre sí e inclinadas con respecto a dicha dirección, estando dicha capa activa colocada entre al menos dos capas portadoras de electrodos dispuestos en orden a poder provocar, previo mando, una variación de longitud de dichas fibras , caracterizándose dicho actuador por que:
- el ángulo de inclinación de dichas fibras con respecto a dicha dirección escogida es superior a 2° e inferior a 40°;
- los espacios entre…
Elemento de superficie inductivo.
(08/06/2016) Elemento de superficie inductivo para una radiación electromagnética, comprendiendo dicho elemento:
- una placa de base conductora eléctricamente que se extiende en un plano no paralelo a un componente de campo eléctrico de la radiación electromagnética; y
- una serie de placas secundarias conductoras eléctricamente , extendiéndose las placas secundarias perpendicularmente a la placa de base, y en un mismo semiespacio en un lado de dicha placa de base, de manera simétrica con respecto a un plano perpendicular a dicha placa de base según una dirección llamada sensible,
teniendo dichas placas secundarias una misma altura…