CIP-2021 : C23C 14/10 : Vidrio o sílice.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/10 · · Vidrio o sílice.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
Proceso y planta para obtener un acristalamiento de color.
(22/04/2020) Proceso para depositar un revestimiento en un sustrato de vidrio, dicho proceso estando caracterizado porque comprende las siguientes etapas sucesivas:
a) pasar dicho sustrato a través de un dispositivo para deposición al vacío por pulverización catódica,
b) introducir un gas en dicho dispositivo para deposición al vacío y generar un plasma a partir de dicho gas,
c) co-pulverización simultáneamente, en una y la misma cámara del dispositivo para deposición al vacío,
- de un primer componente hecho de un material que consiste en un óxido, un nitruro o un oxinitruro de un primer elemento y
- de un segundo componente que consiste en la forma…
Procedimiento de fabricación de un acristalamiento que comprende una capa porosa.
(27/11/2019) Procedimiento de fabricación de un acristalamiento que comprende un sustrato, en particular vidrio, provisto de un revestimiento que comprende al menos una capa constituida por un material poroso, particularmente cuyo índice de refracción resulta así disminuido, que comprende las etapas siguientes:
- depósito sobre el sustrato, mediante un procedimiento de depósito físico en fase de vapor PVD en un recinto bajo vacío, de un revestimiento que comprende una capa de un material que comprende al menos un elemento escogido entre Si, Ti, Sn, Al, Zr, In o una mezcla de al menos dos de estos elementos, oxígeno, carbono, comprendiendo dicha capa además ocasionalmente hidrógeno,
- tratamiento térmico de la capa así depositada, en condiciones que permitan…
Método para la deposición de capas funcionales adecuadas para tubos receptores de calor.
(07/08/2019). Solicitante/s: Rioglass Solar Systems Ltd. Inventor/es: BARKAI,MENASHE.
Método para la deposición de al menos una capa funcional adecuada para un recubrimiento multicapa selectivo frente a la radiación solar, comprendiendo dicho método:
a) proporcionar un sustrato;
b) depositar material conductor sobre dicho sustrato en una cámara de deposición para obtener un sustrato recubierto con la al menos una capa conductora;
caracterizado por que el método además comprende:
c) transferir el sustrato recubierto obtenido en b) a una cámara de transformación ;
d) transformar el recubrimiento del sustrato introduciendo un gas reactivo en la cámara de transformación de modo que al menos una capa conductora externa de la al menos una capa conductora se transforme parcialmente o totalmente en al menos una capa dieléctrica;
y
e) opcionalmente, transferir el sustrato obtenido en d) a la cámara de deposición y repetir el método desde la etapa b) varias veces.
PDF original: ES-2748667_T3.pdf
Película protectora, miembro reflectante, y procedimiento de producción para película protectora.
(23/03/2016). Ver ilustración. Solicitante/s: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED. Inventor/es: OKADA, NAOKO, AOMINE,NOBUTAKA, HANEKAWA,HIROSHI, KAWAHARA,HIROTOMO.
Película protectora situada sobre una parte superior de una película metálica para proteger la película metálica que está situada sobre un sustrato de vidrio, comprendiendo la película protectora:
una película de sílice;
en la que la película de sílice tiene un coeficiente de extinción "k" menor o igual de 1 x 10-4 y un índice de refracción "n" menor o igual de 1,466 a una longitud de onda de 632 nm, y un contenido de carbono menor o igual de un 3 % atómico.
PDF original: ES-2658046_T3.pdf
PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE UN SENSOR DE DETECCIÓN DE HIDRÓGENO Y SENSOR ASÍ FABRICADO.
(02/04/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: ABENGOA SOLAR NEW TECHNOLOGIES, S.A. Inventor/es: GARCIA GARCIA,FRANCISCO, BARRANCO QUERO,ANGEL, YUBERO VALENCIA,FRANCISCO, COTRINO BAUTISTA,JOSE, ESPINOS MANZORRO,JUAN PEDRO, RODRIGUEZ GONZALEZ-ELIPE,AGUSTIN, ESPINOSA RUEDA,Guillermo, MARTINEZ SANZ,Noella, CASTILLERO DURÁN,Pedro.
Procedimiento de fabricación de un sensor visual de hidrógeno y sensor así fabricado que permite detectar a simple vista la presencia de gas hidrógeno en el medio debido a un cambio de color en dicho sensor. El procedimiento comprende la deposición de capas finas y porosas de óxidos que no absorben la luz visible en su estado totalmente oxidado que se colorean cuando se reducen parcialmente. Esta deposición se realiza mediante deposición en fase vapor (PVD) en una configuración de ángulo rasante (GLAD). El procedimiento incluye también la preparación de una disolución de un precursor de metal activo capaz de disociar la molécula de hidrógeno y un vector de arrastre y la deposición de esta disolución sobre la capa de óxido con objeto de incorporar dentro de los poros de la capa de óxido una cantidad mínima de metal activo en forma de nanopartículas.
PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACIÓN DE UNA CAPA O MULTICAPA BARRERA Y/O DIELÉCTRICA SOBRE UN SUSTRATO Y DISPOSITIVO PARA SU REALIZACIÓN.
(05/06/2014) Procedimiento para la preparación de una capa o multicapa barrera y/o dieléctrica sobre un sustrato y dispositivo para su realización.
La presente invención se refiere a un procedimiento para la preparación de capas barrera y/o dieléctricas sobre un sustrato caracterizado por que comprende las siguientes etapas: (a) limpieza de sustratos, (b) colocación del sustrato en un portamuestras e introducción del mismo en el interior de una cámara de vacío, (c) dosificación en dicha cámara de vacío de un gas inerte y un gas reactivo, (d) inyección en la cámara de vacío de un precursor volátil que tenga al menos un catión del compuesto a depositar, (e) activación de una fuente de radiofrecuencia y activación de al menos un magnetrón, (f) descomposición del precursor volátil por plasma, produciéndose…
Método para la fabricación de un sistema de capas reflectantes para espejos traseros.
(28/05/2013) Método para la fabricación de un sistema de capas reflectantes para espejos traseros.
La invención describe un método para la fabricación de un sistema de capas reflectantes sobre un sustrato S con al menos una capa dieléctrica transparente y al menos con una capa metálica reflectante. Según el método, la capa dieléctrica, transparente se deposita sobre un sustrato S como capa que contiene óxido de silicio SiOS utilizando un método PVD adecuado, el sustrato S revestido se expulsa posteriormente del vacío y al menos una capa reflectante metálica R se deposita por un método químico en húmedo.
ENVASES Y ACCESORIOS DE ENVASES.
(16/09/2004) Material de envase o accesorios de envase con garantía integrada de primera apertura o de originalidad, que contiene un substrato con una superficie de metal, que refleja la luz visible, caracterizado porque sobre la superficie reflectante está presenta una o varias veces la secuencia de capas, que está constituida por una o varias capas cerámicas , que contienen o están constituidas por un compuesto de la fórmula SiOx, donde x significa un número de 1, 5 a 2, 0, respectivamente, en un espesor en el intervalo de 50 a 2000 nm (nanómetros), y sobre la capa cerámica o sobre capas cerámicas está dispuesta una capa de metal reflectante, semitransparente para la luz…
RECIPIENTES DE PLASTICO CON UN REVESTIMIENTO EXTERNO DE BARRERA FRENTE A LOS GASES.
(16/03/2004) Un sistema para fabricar un recipiente de plástico recubierto que posee una barrera frente a los gases, comprendiendo el sistema: una celda de vacío capaz de mantener un vacío en su interior; un alimentador de recipientes para suministrar cuerpos de recipientes de plástico a la celda de vacío y para retirar recipientes de plástico recubiertos de ella, teniendo cada uno de los cuerpos de recipiente de plástico una superficie externa y una superficie interna que define un espacio interior; un transportador dentro de la celda de vacío para trasladar los cuerpos de los recipientes de plástico a través de la celda de vacío; y al menos una fuente dispuesta en la celda de vacío, para suministrar un vapor de recubrimiento a la superficie externa de los cuerpos de los…
(01/07/2003) La invención se refiere a envasado o a dispositivos de envasado con una garantía integrada de primera apertura o de autenticidad, que consiste en un sustrato y en una serie única o múltiple de revestimientos aplicados a él. Se puede usar como un sustrato un envasado moldeado hecho de material remetido profundo, o de material a modo de lámina, tal como lámina de metal, estratificado de plástico, papel o similar. Dicho sustrato tiene una superficie que refleja la luz visible. Esta superficie de reflexión está cubierta con una serie única o múltiple de uno o más revestimientos , por ejemplo, de un compuesto con fórmula…
DEPOSITO DE DIOXIDO DE SILICIO POR UN PROCEDIMIENTO DE EVAPORACION ACTIVADA CON PLASMA.
(01/11/2000). Ver ilustración. Solicitante/s: GENERAL ELECTRIC COMPANY. Inventor/es: IACOVANGELO, CHARLES DOMINIC.
LA INVENCION SE REFIERE A UN PROCESO DE DEPOSICION REACTIVA ACTIVADO POR PLASMA, UTILIZADO PARA DEPOSITAR REVESTIMIENTOS DE DIOXIDO DE SILICIO RESISTENTES A LA RAYADURA, SOBRE DIVERSOS SUSTRATOS. DICHO PROCEDIMIENTO CONSISTE EN EVAPORAR SILICIO U OXIDO DE SILICIO HACIA EL INTERIOR DE UN PLASMA DE OXIDO NITROSO Y ARGON, EL CUAL SE DIRIGE HACIA LA SUPERFICIE A REVESTIR.
BANDA A BASE DE ALUMINIO REVESTIDA, RESISTENTE A LA CORROSION Y DEFORMABLE.
(01/07/1999). Solicitante/s: SOCIETE ANONYME DE TRAITEMENT DES METAUX ET ALLIAGES (SATMA). Inventor/es: BENMALEK, MOHAMED, ALLEGRET, FRANCIS.
BANDA BRILLANTE O DECORATIVA A BASE DE ALUMINIO, O DE SUS ALEACIONES, REVESTIDA CON UNA PROTECCION ANTICORROSION MEJORADA QUE PERMITE CONSERVAR EL ASPECTO DE SUPERFICIE Y LA PROTECCION TRAS LA FORMACION DE DICHA BANDA, CARACTERIZADA POR QUE EL REVESTIMIENTO ESTA CONSTITUIDO POR UNA CAPA DE OXIDO DE SILICIO.
APARATO Y SISTEMAS MAGNETRON PARA DEPOSICIONES ELECTRONICAS.
(16/06/1999). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: HILL, RUSSEL, J., SIECK, PETER A., SCHULZ, STEPHEN C., VOSSEN, JOHN L.
SE PRESENTA UNA ESTRUCTURA ANODICA ALARGADA QUE TIENE MULTIPLES PUNTOS QUE ATRAEN ELECTRONES. EL ANODO SE PUEDE FORMAR A PARTIR DE MULTIPLES CEPILLOS DE ALAMBRE ACOPLADOS A UNA BARRA METALICA. EL USO DEL ANODO EN LOS SISTEMAS DE MAGNETRONES REDUCE DE FORMA SIGNIFICATIVA LA FORMACION DE MATERIALES DIELECTRICOS Y MEJORA LA UNIFORMIDAD DE LA PELICULA CUANDO SE LLEVA A CABO TANTO UNA PULVERIZACION NO REACTIVA COMO UNA REACTIVA DE CC. ADEMAS, EL ANODO REDUCE EL SOBRECALENTAMIENTO Y AUMENTA EL TIEMPO DE FUNCIONAMIENTO DE LOS SISTEMAS DE MAGNETRONES EN LOS QUE TIENE LUGAR UNA PULVERIZACION REACTIVA DE MATERIALES DIELECTRICOS. EN UN ASPECTO DE LA INVENCION, EL SISTEMA DE MAGNETRONES TIENE UN CATODO CILINDRICO Y UN PAR DE ANODOS ALARGADOS COLOCADOS EN PARALELO AL CATODO Y EQUIDISTANTES DEL MISMO. LA ESTRUCTURA ANODICA ES PARTICULARMENTE ADECUADA PARA PULVERIZAR PELICULAS UNIFORMES DE MATERIALES DIELECTRICOS, INCLUIDO EL DIOXIDO DE SILICIO Y EL NITRURO DE SILICIO.
PROCEDIMIENTO PARA PROTEGER O ENCAPSULAR ELEMENTOS DE CIRCUITOS ELÉCTRICOS.
(01/12/1959). Ver ilustración. Solicitante/s: WESTERN ELECTRIC COMPANY INCORPORATED.
Resumen no disponible.