CIP-2021 : G02B 1/11 : Revestimientos antirreflejantes.

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G FISICA.

G02 OPTICA.

G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84).

G02B 1/00 Elementos ópticos caracterizados por la sustancia de la que están hechos (composiciones de vidrios ópticos C03C 3/00 ); Revestimientos ópticos para elementos ópticos.

G02B 1/11 · · Revestimientos antirreflejantes.

CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.

Lente oftálmica que comprende una base de material polimérico con un recubrimiento con una estructura multicapa interferencial antireflejante, antiiridiscente y con filtro IR.

(28/05/2015) Lente oftálmica que comprende una base de material polimérico con un recubrimiento con una estructura multicapa interferencial antireflejante, antiiridiscente y con filtro IR. Lente oftálmica con una estructura multicapa que comprende una interfase, una primera capa (de 91-169nm) con un índice de refracción superior a 1,8, una segunda capa (de 128-248nm) con un índice de refracción inferior a 1,65, una tercera capa (de 73-159nm) con un índice de refracción superior a 1,8 y una cuarta capa (de 40-138nm) con un índice de refracción inferior a 1,8. El espesor total de la estructura multicapa es menor de 600nm. La estructura puede tener capas intermedias con índices de refracción intermedios,…

Método para producir una imagen fotográfica.

(20/05/2015) Método para la producción de una imagen fotográfica que comprende una fotografía unida con su cara a un soporte transparente, comprendiendo el método las siguientes etapas: a) proporcionar un soporte transparente hecho de vidrio anti-reflectante, b) aplicar una cantidad apropiada de adhesivo de silicona al soporte de la etapa (a), c) formar un sándwich mediante la aplicación al soporte de la etapa (a) una fotografía con su cara hacia la cara del soporte al que se había aplicado el adhesivo, d) aplicar presión al sándwich de soporte, adhesivo y fotografía, y, en caso apropiado, e) unir el dorso de la fotografía…

LENTE ANTIRREFLECTANTE PARA GAFAS Y PROCEDIMIENTO DE FABRICACIÓN DE DICHA LENTE.

(09/04/2015). Ver ilustración. Solicitante/s: SGENIA SOLUCIONES. Inventor/es: LAMA OCHOA DE RETANA,Jesús, ROMÁN PÉREZ,Guillermo, GONZÁLEZ SOLAR,Alejandro.

Lente con propiedades antirreflectantes para gafas, caracterizada por que al menos una superficie de dicha lente comprende una pluralidad de agujeros de tamaño nanométrico, estando los agujeros dispuestos entre sí con una separación nanométrica y distribuidos según al menos un patrón periódico , y en la que los agujeros están grabados mediante interferencia láser. La invención también se refiere a un procedimiento de fabricación de una lente con propiedades antirreflectantes para gafas.

Artículo de óptica que incluye un revestimiento anti-vaho temporal que tiene una durabilidad mejorada.

(01/04/2015) Cristal de gafas, que comprende un sustrato revestido con un revestimiento que incluye en su superficie grupos silanoles y, en contacto directo con este revestimiento, un revestimiento precursor de un revestimiento anti-vaho, siendo obtenido el revestimiento precursor del revestimiento anti-vaho por injerto de al menos un compuesto organosilano que posee: • un grupo polioxialquileno, que comprende menos de 80 átomos de carbono, y • al menos un átomo de silicio portador de al menos un grupo hidrolizable, caracterizado por que el revestimiento precursor del revestimiento anti-vaho: - posee un ángulo de contacto estático…

Revestimiento de óxido inorgánico.

(18/03/2015) Una composición de revestimiento, que comprende: un precursor de óxido inorgánico AMOx basado en al menos un elemento inorgánico A seleccionado del grupo que consiste en aluminio, silicio, titanio, zirconio, niobio, indio, estaño, antimonio, tántalo, y bismuto; y un precursor de óxido inorgánico BMOx basado en al menos un elemento inorgánico B seleccionado del grupo que consiste en escandio, itrio, lantano, y los lantánidos; en donde AMOx y BMOx son capaces de formar un óxido inorgánico mixto, y en donde la composición de revestimiento comprende 80 a 99,5 partes en peso de AMOx y 0,5 a 20 partes en peso de BMOx (basado en 100 partes en peso de AMOx y BMOx).

Dispositivos fotovoltaicos que constan de una capa antirreflectante a base de objetos dispersados que presentan unos dominios de índices de refracción distintos.

(18/03/2015) Dispositivo fotovoltaico que comprende: - un material semiconductor apropiado para garantizar un efecto fotovoltaico cuando está sometido a una radiación electromagnética; - una capa antirreflectante, transparente con respecto a dicha radiación electromagnética garantizando el efecto fotovoltaico, conteniendo esta capa antirreflectante, en el estado dispersado, unos objetos de dimensiones inferiores a 5 micrones, preferentemente inferiores a 2 micrones, comprendiendo dichos objetos al menos dos zonas constituidas por dos sustratos diferentes, transparentes con respecto a dicha radiación electromagnética y que tienen unos índices de refracción distintos, a saber: - un núcleo que tiene un primer índice de refracción nC; y - una capa que…

Procedimiento de limpieza de un sustrato que tiene una superficie ultrahidrófila y fotocatalítica.

(11/03/2015) Un procedimiento de limpieza de un sustrato, que comprende las etapas de: preparar un sustrato recubierto con una capa comprendida de un material semiconductor fotocatalítico; y someter dicho material fotocatalítico a fotoexcitación para volver de este modo la superficie de dicha capa hidrófila; y aclarar dicho sustrato con agua con lo que los depósitos y/o contaminantes orgánicos que están adheridos a la superficie de dicha capa se liberan de la misma y se eliminan por lavado con agua, en el que dicha capa comprende titania mezclada con sílice.

ESTRUCTURA ANTIREFLEJANTE CUASI-OMNIDIRECCIONAL BASADA EN MULTICAPAS DIELÉCTRICAS DE SILICIO POROSO PARA LA REGIÓN ULTRAVIOLETA MEDIA, VISIBLE E INFRARROJA CERCANA DEL ESPECTRO ELECTROMAGNÉTICO.

(20/11/2014). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSIDAD AUTÓNOMA DEL ESTADO DE MORELOS. Inventor/es: AGARWAL,Vivechana, ARIZA FLORES,Augusto David, PEREZ HUERTA,José Samuel, KUMAR,Yogesh.

Estructura antireflejante basada en multicapas de silicio poroso apiladas en forma unidimensional. Esta capa tiene la capacidad de reflejar menos del 4% de la luz incidente en cualquier ángulo, es decir esta propiedad no depende de la posición en la cual se le oriente. Ello se cumple para un rango de longitudes de onda que van desde 200 nm a 2000 nm y tan sólo con un espesor físico total de 510 nm. La estructura consta de 51 capas con porosidades graduales que van del 92 al 38 %. La longitud de cada capa es constante e igual a 10 nm y el perfil del índice de refracción varía por medio de una función envolvente que crece monótonamente de la forma f(z)=n 0 +(n F -n 0 )(z/L) k, con z la profundidad de la capa. El dispositivo se fabricó con el método de anodizado electroquímico en una solución electrolítica de ácido fluorhídrico y etanol, atacando obleas de silicio de forma galvanostatíca en una interfaz controlada.

Lente para gafas y gafas.

(08/01/2014) Lente para gafas , caracterizada porque un material base de lente se tiñe con un color dentro de un área de un cuadrilátero rodeado por un grupo de líneas rectas de las siguientes ecuaciones en un diagrama de cromaticidad de sistema de color XYZ del sistema de color CIE: y ≥ 0,922x + 0,020 y ≥ 0,922x + 0,044 y ≥ -5,000x + 1,915 y ≥ -5,000x + 2,217 y sobre una superficie interior y una superficie exterior del material base de lente se dispone una película antirreflectante , y porque la luz de una fuente luminosa D65 reflejada por la película antirreflectante presenta bajo un ángulo…

Producto óptico y lentes de plástico para gafas.

(13/11/2013) Producto óptico que tiene: una película anti-suciedad que se forma sobre una base del producto óptico, una película de revestimiento resistente y una película óptica multicapa, donde la película derevestimiento resistente y la película óptica multicapa se forman secuencialmente sobre la base del productoóptico, la película anti-suciedad se forma sobre la película óptica multicapa llevando a cabo el recubrimientocon un compuesto silano que tiene un grupo perfluoropoliéter, teniendo la película anti-suciedad una resistenciaal desprendimiento superficial de 0,10 N/19 mm o inferior y donde la película óptica es una película multicapade un óxido inorgánico, caracterizado porque el valor absoluto del potencial electroestático de carga en dicha…

Sistema de captación de imágenes óptico de doble campo de visión con una lente focal doble.

(23/09/2013) Un sistema de captación de imágenes óptico de doble campo de visión que comprende: - una lente focal doble, teniendo dicha lente un zona central de distancia focal f1 y una zona periférica dedistancia focal f2, en la que f2 es superior a f1, en la que dicha zona central está adaptada para produciruna imagen de campo de visión amplio y dicha zona periférica está adaptada para producir una imagen decampo de visión estrecho, estando dicha lente montada en un soporte; y - un detector montado de manera móvil en dicho soporte, para detectar y capturar dos imágenes de campode visión, estando dicho detector alineado con dicha lente a lo largo…

Sustrato transparente que comprende un revestimiento antirreflejos.

(14/08/2013) Sustrato transparente , en especial hecho de vidrio, que tiene sobre al menos una de sus caras unrevestimiento antirreflejos, hecho de un apilamiento (A) de capas delgadas de material dieléctrico de índices derefracción alternativamente altos y bajos, caracterizado porque el apilamiento tiene sucesivamente: - una primera capa de índice alto, de índice de refracción n1 comprendido entre 1,9 y 2,1 y con unespesor geométrico e1 comprendido entre 5 y 50 nm; - una segunda capa , de índice bajo, de índice de refracción n2 comprendido entre 1,35 y 1,65, y deespesor geométrico e2 comprendido entre 5 y 50 nm; - una tercera capa de índice alto, de índice de refracción n3 comprendido entre 1,90 y 2,10, y de espesorgeométrico e3 de al menos 70 nm e inferior o igual a 110 nm; - una…

Lente óptica con capa antirreflectante resistente al rayado.

(09/04/2013) Lente óptica con un elemento de lente fabricado de plástico, particularmente transparente en un intervaloespectral visible, y con un revestimiento que presenta varias capas , en la que las varias capas presentan al menos una capa de alta refracción , caracterizada por que de manera contigua al elemento delento está configurada una capa de laca dura , por que una capa superhidrófoba termina elrevestimiento , por que el revestimiento presenta en total un espesor superior a aproximadamente 380 nm,y por que en el caso de exactamente una capa de alta refracción , la exactamente una capa de alta refracción presenta un espesor inferior a 40 nm, y en el caso de más…

Sustrato transparente que comprende un revestimiento antirreflectante.

(19/03/2013) Sustrato transparente vítreo, que comprende sobre al menos una de sus caras un revestimientoantirreflectante, adaptado para células solares al menos en el visible y en el infrarrojo cercano tal que dichosustrato tiene una transmisión integrada sobre una gama de longitudes de onda comprendida entre 400 y1100 nm de al menos 90%, estando hecho dicho revestimiento de un apilamiento (A) de capas delgadas dematerial dieléctrico de índices de refracción alternativamente fuertes y débiles, caracterizado por que elapilamiento comprende sucesivamente: - una primera capa , de alto índice, de índice de refracción n1 comprendido entre 1,85 y 2,15 y de unespesor geométrico e1 comprendido entre 5 y 50 nm, - una segunda capa , de bajo índice, de…

Uso de una superficie convertida en superhidrófila fotocatalíticamente con propiedades antiempañantes.

(25/02/2013) Uso de un compuesto que comprende un sustrato y una capa fotocatalizadora recubierta sobre el mismo, dicha capa fotocatalizadora comprende un material semiconductor fotocatalizador que tiene una superficie que se ha vuelto hidrófila mediante fotoexcitación con la luz solar, para antiempañar dichas superficies.

Método para fabricar un recubrimiento antirreflectante de dióxido de silicio, un producto resultante y un dispositivo fotovoltaico comprendiendo el mismo.

(30/05/2012) Un procedimiento para fabricar un recubrimiento de bajo índice basado en dióxido de silicio, comprendiendoel procedimiento: formar un precursor de dióxido de silicio que comprende un sol de dióxido de silicio que comprende un silanoy/o una dióxido de silicio coloidal; depositar el precursor de dióxido de silicio sobre un sustrato de cristal para formar una capa de recubrimiento;curar y/o hornear la capa de recubrimiento en un horno a una temperatura de aproximadamente 550 a 700 °C durante aproximadamente entre 1 a 10 minutos; formar una composición de tratamiento superficial que comprende ácido octadecilo fosfónico; depositar la composición de tratamiento superficial sobre la capa…

PROCESO DE REVESTIMIENTO DE SUPERFICIE NANO-ESTRUCTURADA, REVESTIMIENTOS NANO-ESTRUCTURADOS Y ARTICULOS QUE COMPRENDEN EL REVESTIMIENTO.

(05/11/2009). Solicitante/s: DSM IP ASSETS B.V.. Inventor/es: NIJENHUIS, ATZE, JAN, THIES,JENS CHRISTOPH, CURRIE,EDWIN, MEIJERS,GUIDO JOZEFINA WILHELMUS, SOUTHWELL,JOHN EDMOND, TRONCHE,CHRISTOPHER FREDERIC.

Un proceso para la preparación de un revestimiento de superficie nano-estructurada y/o nano-porosa que comprende los pasos de a. aplicar una mezcla a un substrato cuya mezcla comprende (i) nano-partículas reactivas, que tienen grupos orgánicos reactivos sobre su superficie, donde las nano-partículas reactivas son alargadas, (ii) al menos un solvente. b. polimerizar la mezcla sobre el substrato.

SUSTRATO TRANSPARENTE CON REVESTIMIENTO ANTIRREFLEJOS DE BAJA EMISIVIDAD O ANTISOLAR.

(16/06/2007). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Inventor/es: NADAUD, NICOLAS, ANDERSON, CHARLES.

Sustrato transparente que incluye sobre al menos una de sus caras un revestimiento antirreflejos hecho de un apilamiento de capas finas, de índices de refracción alternativamente altos y bajos, a base de material dieléctrico, caracterizado porque al menos una de las capas finas de alto índice de dicho revestimiento antirreflejos comprende óxido de titanio depositado por pulverización catódica que se modifica químicamente por incorporación de nitrógeno de tal modo que reduzca su índice de refracción hasta un valor de a lo sumo 2, 40, en particular, 2, 38 y preferentemente hasta valores comprendidos entre 2, 25 y 2, 38 de una longitud de onda de 580 nm.

SUSTRATO CON REVESTIMIENTO FOTOCATALITICO.

(01/03/2007). Solicitante/s: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE. Inventor/es: NADAUD, NICOLAS, TALPAERT, XAVIER, RONDEAU, VERONIQUE.

Procedimiento de deposición por pulverización catódica de un revestimiento con propiedades fotocatalíticas que comprende óxido de titanio al menos parcialmente cristalizado, en particular, bajo forma anatasa sobre un substrato portador transparente o semitransparente del tipo vidrio, vitrocerámico, plástico en el cual se realiza la pulverización bajo una presión de deposición P de al menos 2 Pa, caracterizado porque se realiza la pulverización a temperatura ambiente y porque la deposición del revestimiento es seguida por un tratamiento de tipo recocido con el fin de obtener la cristalización del revestimiento.

PELICULAS POCO REFLECTANTES.

(16/04/2006). Ver ilustración. Solicitante/s: CPFILMS INC. Inventor/es: PORTER, SIMON, J., PORT, ANTHONY B., PACKER, ELIZABETH J., PARNANDI, ARAVINDA, WARD, RICHARD J., BARTH, STEVEN A., ENNISS, JAMES P.

Un método según la reivindicación 10, en el que la capa interna es una mezcla de reacción de un alcóxido metálico y un polímero modificado con silano, la cual se cura a 180ºC durante al menos un minuto, y la segunda capa es un polímero que contiene flúor revestida sobre la primera capa directamente.

AGENTE ANTI-SUCIEDAD, PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR UNA CAPA ANTI-SUCIEDAD, ELEMENTO OPTICO ANTIRREFLECTANTE Y DISPOSITIVO DE VISUALIZACION.

(01/06/2005). Ver ilustración. Solicitante/s: TOPPAN PRINTING CO., LTD. DAIKIN INDUSTRIES, LIMITED. Inventor/es: OHATA, KOICHI, WATANABE,NIRO, OKUBO,TORU, MIIDA,ATSUSHI.

LA INVENCION SE REFIERE A UN AGENTE ANTIMACULADOR CARACTERIZADO PORQUE CONTIENE UN COMPUESTO DE ORGANOSILICIO REPRESENTADO POR LA SIGUIENTE FORMULA GENERAL : DONDE R F2 ES UN GRUPO PERFLUOROALQUILO LINEAL O RAMIFICADO CON 1 A 16 ATOMOS DE CARBONO; R 2 ES UN GRUPO HIDROLITICO; Z ES - OOCNH - O - O -; N2 ES UN ENTERO DE 1 A 50; M2 ES UN ENTERO DE 0 A 3; 12 ES UN ENTERO DE 0 A 3; Y S2 ES UN ENTERO DE 1 A 6; CON LA CONDICION DE QUE DICHOS M2 Y 12 CUMPLAN LA SIGUIENTE RELACION: 6 >= M2 + 12 > 0.

PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION MEDIANTE LA TECNICA SOL-GEL, SIGUIENDO LA RUTA POLIMERICA, DE RECUBRIMIENTOS POROSOS.

(01/02/2005) Procedimiento para la preparación mediante la técnica sol-gel, siguiendo la ruta polimérica, de recubrimientos porosos. El procedimiento, ejecutable mediante técnicas de inmersión o pulverización, permite preparar recubrimientos vítreos o policristalinos de composiciones variables y elevada porosidad, que presentan una excelente homogeneidad, adherencia y propiedades mecánicas, reduciendo las pérdidas por reflexión de la radiación incidente sobre sustratos tan diversos como vidrio, metales, materiales cerámicos y células solares térmicas y fotovoltaicas. La porosidad y, en consecuencia las propiedades antirreflectantes, se controla mediante un aditivo que comprende compuestos derivados del Teroctilfenileter de polietilénglicol (Tritón) en elevadas concentraciones,…

VIDRIO ANTI-REFLECTANTE CON SUPRESION DE COLOR.

(01/07/2004). Solicitante/s: LIBBEY-OWENS-FORD CO.. Inventor/es: NELSON, DOUGLAS.

Una pila de películas finas aplicada sobre una superficie de un sustrato de vidrio. La pila de películas finas incluye una capa intermedia de supresión de irisación y una pila de películas finas anti-reflejos aplicada sobre la capa intermedia supresora de irisación. El artículo de vidrio revestido resultante exhibe un factor de reflexión total bajo y un color estéticamente neutro en el factor de reflexión del lado de la película.

MATERIAL POLIMERO INORGANICO A BASE DE OXIDO DE TANTALO, EN PARTICULARCON ALTO INDICE DE REFRACCION MECANICAMENTE RESISTENTE A LA ABRASION, SU PROCESO DE FABRICACION, Y MATERIAL OPTICO QUE COMPRENDE DICHO MATERIAL.

(01/04/2004). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE. Inventor/es: BELLEVILLE, PHILIPPE, FLOCH, HERVE, PRENE, PHILIPPE.

LA INVENCION SE REFIERE A UN MATERIAL POLIMERICO INORGANICO CON BASE DE OXIDO DE TANTALIO, PARTICULARMENTE CON INDICE DE REFRACCION ELEVADO Y MECANICAMENTE RESISTENTE A LA ABRASION, PONIENDO SU PROCEDIMIENTO DE FABRICACION EN PARTICULAR EN JUEGO PRECURSORES CON BASE DE DERIVADOS CLORADOS DE TANTALIO, ASI COMO A LOS MATERIALES OPTICOS TALES COMO MATERIALES ANTIRREFLEJO Y MATERIALES REFLECTANTES FABRICADOS A PARTIR DE ESTE MATERIAL.

PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE CAPAS ANTIRREFLEJO.

(01/12/2003). Ver ilustración. Solicitante/s: UNIVERSITAT KONSTANZ. Inventor/es: STEINER, ULLRICH, WALHEIM, STEFAN, SCHIFFER, ERIK, EGGERT, STEFAN, MLYNEK, JURGEN.

Procedimiento para la producción de un elemento que comprende un sustrato y por lo menos una capa antirreflejante, que presenta poros cuyas dimensiones están por debajo de la longitud de onda de la luz visible o regiones espectrales contiguas, comprendiendo los pasos de: preparar un sustrato, aplicar una solución de por lo menos dos polímeros incompatibles entre sí, que se disuelven en un disolvente común, de manera que se produzca una fase mezclada común, sobre el sustrato, obteniéndose por separación de fase sobre su superficie una capa con fases polímeras que se alternan en sentido sensiblemente lateral, y exponer esta capa a otro disolvente que disuelve selectivamente uno o varios de los polímeros empleados, de forma que al menos un polímero permanezca sin disolver.

SUPERFICIE ANTIRREFLECTANTE DOTADA DE UNA RUGOSIDAD PREDETERMINADA, PARTICULARMRNTE PARA SALPICADORES DE VEHICULOS AUTOMOVILES.

(16/11/2003). Solicitante/s: C.R.F. SOCIETA CONSORTILE PER AZIONI. Inventor/es: PERLO, PIERO, SINESI, SABINO, SARDI, LUCA.

SE DESCRIBE UNA SUPERFICIE ANTIRREFLEJOS QUE TIENE UNA ASPEREZA PREDETERMINADA PARA MANTENER BAJA LA REFLECTIVIDAD DE LA RADICACION INCIDENTE. UN PERFIL CON PROYECCIONES, QUE TIENE UNA ALTURA (H) QUE ES UN MULTIPLO ENTERO DE LA LONGITUD DE ONDA DE LA RADIACION, PUEDE ALMACENAR LA RADIACION CON INDEPENDENCIA DE SU POLARIZACION Y, ADEMAS, EN UNOS ANGULOS GRANDES DE LUZ INCIDENTE.

PROCEDIMIENTO PARA LA FORMACION DE UNA PELICULA ANTIREFLECTANTE Y NIVELADORA SOBRE SUBSTRATOS DE VIDRIO/OCT.

(01/10/2003). Solicitante/s: CENTRO E INVESTIGACIONES ENERGETICAS, MEDIOAMBIEN TALES Y TECNOLOGICAS (C.I.E.M.A.T.). Inventor/es: MORALES SABIO,ANGEL, HERRERO RUEDA,JOSE, GUILLEN ARQUEROS,CECILIA.

Procedimiento para la formación de una película antireflectante y niveladora sobre substratos de vidrio/OCT. Comprende las etapas de: formulación y preparación del baño de recubrimiento mediante la disolución de mezclas de tetraetilortosilicato (TEOS) con metiltrieloxisilano (MTES) en alcohol en presencia de un catalizador, formándose a continuación el gel sobre el substrato por inmersión y retirada controlada del mismo en el baño de recubrimiento que contiene la disolución anterior para, a continuación, proceder al secado del gel formado por evaporación del disolvente y a su sintetizado mediante tratamiento térmico en un horno de atmósfera controlada a temperaturas de entre 300 y 400ºC.

PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN SISTEMA OPTICO DE VARIAS CAPAS.

(01/09/2003) Procedimiento para la fabricación de sistemas ópticos de varias capas, que se caracteriza por las etapas siguientes: a) Aplicación de una partícula de sólido inorgánico a escala n con grupos superficiales orgánicos polimerizables y/o policondensables que contienen una composición fluida a un sustrato de vidrio; b) Polimerización y/o policondensación de los grupos superficiales de las partículas de sólidos con la formación de una capa reticulada orgánica; c) Aplicación de otra composición conforme a a) que aporte otro índice de refracción que el de la composición indicada, sobre la capa orgánica reticulada; d) Polimerización y/o policondensación…

RECUBRIMIENTO ANTIRREFLECTANTE MULTICAPA CON UNA CAPA BASE GRADUADA.

(16/03/2003) SE PRESENTA UN REVESTIMIENTO ANTIRREFLEJANTE QUE COMPRENDE UNA PRIMERA CAPA GRADUADA EN DONDE LA COMPOSICION CAMBIA A LO LARGO DEL GROSOR DE LA CAPA DE MODO QUE EL INDICE DE REFRACCION DE LA CAPA GRADUADA VARIA DE UN INDICE DE REFRACCION BAJO QUE COINCIDE APROXIMADAMENTE CON EL INDICE DE REFRACCION DEL SUSTRATO EN LA INTERFAZ DE LA CAPA GRADUADA Y EL SUSTRATO A UN INDICE DE REFRACCION MAYOR EN LA SUPERFICIE DE LA CAPA GRADUADA OPUESTA A LA INTERFAZ CON EL SUSTRATO, Y UNA SEGUNDA CAPA SUSTANCIALMENTE HOMOGENEA DE UNA COMPOSICION SELECCIONADA DE MODO QUE TENGA UN INDICE DE REFRACCION QUE SEA APROXIMADAMENTE LA RAIZ CUADRADA DEL PRODUCTO DEL INDICE DE REFRACCION MAS ALTO DE LA CAPA GRADUADA Y EL INDICE DE REFRACCION DEL MEDIO INCIDENTE EN LA SUPERFICIE DE LA SEGUNDA CAPA OPUESTA A LA INTERFAZ DE LA SEGUNDA CAPA CON LA CAPA GRADUADA, QUE TIENE UN GROSOR…

ARTICULOS REVESTIDOS QUE PRESENTAN UNA TRANSMISION ELEVADA Y UNA BAJA EMISION.

(01/02/2003). Solicitante/s: PPG INDUSTRIES OHIO, INC.. Inventor/es: ARBAB, MEHRAN, MILLER, LARRY, A., CRISS, RUSSELL C.

REVESTIMIENTOS DE MULTIPLES CAPAS DE ALTA TRANSMITANCIA Y BAJA EMISIVIDAD DISPUESTOS SOBRE SUSTRATOS TRANSPARENTES QUE SE CARACTERIZAN PORQUE SE COLOCA UNA PELICULA BASE ANTIRREFLECTORA ESPECIAL DE AL MENOS DOS PARTES SOBRE LA PARTE CERCANA AL SUSTRATO DE UNA PELICULA METALICA REFLECTORA. UNA PRIMERA PARTE DE LAS DOS ESTA EN CONTACTO CON LA PELICULA METALICA. LA PRIMERA PARTE DE LA PELICULA TIENE PROPIEDADES CRISTALINAS PARA HACER QUE LA PELICULA METALICA SE DEPOSITE SEGUN UNA CONFIGURACION DE BAJA RESISTIVIDAD. LA SEGUNDA PARTE DE LAS DOS PARTES DE LA PELICULA SOPORTA A LA PRIMERA PARTE Y ES PREFERENTEMENTE AMORFA. LOS ARTICULOS REVESTIDOS DE LA INVENCION TAMBIEN SE CARACTERIZAN, ADEMAS DE LA PELICULA DE BASE ANTEDICHA O INDEPENDIENTEMENTE DE ELLA, POR UNA SUBGAMA, PARTICULARMENTE VENTAJOSA Y RECIENTEMENTE DESCUBIERTA, DE PELICULAS IMPRIMADORAS MAS GRUESAS PARA VIDRIO REVESTIDO QUE SE PUEDEN TRATAR PARA TEMPLAR, REFORZAR CON CALOR O DOBLAR.

METODO Y COMPOSICION DE REVESTIMIENTO PARA LA PRODUCCION DE UN REVESTIMIENTO ANTIRREFLECTANTE.

(16/12/2001) LA PRESENTE INVENCION SE REFIERE A UN PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACION DE UN RECUBRIMIENTO ANTIRREFLEJANTE ALTAMENTE POROSO, AL RECUBRIMIENTO FABRICADO MEDIANTE ESTE PROCEDIMIENTO Y A LAS FORMULAS PARA LA REALIZACION DEL PROCEDIMIENTO. EL PROCEDIMIENTO SEGUN LA INVENCION SE CARACTERIZA PORQUE UNA SOLUCION COLOIDAL DISPERSA SE COLOCA SOBRE UN SUSTRATO Y SE SECA, EN DONDE DICHA SOLUCION SE HA CONSEGUIDO MEDIANTE LA CONDENSACION HIDROLITICA DE UNO O MAS COMPUESTOS DE SILICEO DE LA FORMULA GENERAL I, EN LA QUE LOS RESTOS SON IGUALES O DIFERENTES, R ES UN RESTO ORGANICO QUE TIENE DE 1 A 10 ATOMOS DE CARBONO, QUE PUEDE INTERRUMPIRSE CON ATOMOS DE OXIGENO…

PROCEDIMIENTO PARA LA PREPARACION DE UN MATERIAL OPTICO MULTICAPA CON DENSIFICACION POR RETICULACION POR RADIACION ULTRAVIOLETA Y MATERIAL OPTICO RESULTANTE.

(01/12/2001). Solicitante/s: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE. Inventor/es: BELLEVILLE, PHILIPPE, PRENE, PHILIPPE.

La invención se refiere a un procedimiento para la preparación de un material óptico mediante el depósito sobre un sustrato de al menos dos películas de un material polimérico inorgánico, teniendo cada una de estas películas una base de al menos un metal u óxido met lico, y estando densificadas las películas por reticulación por radiación ultravioleta. La invención se refiere también al material óptico que puede obtenerse mediante este procedimiento. La invención se refiere también a materiales ópticos que pueden obtenerse mediante dicho procedimiento, en particular a materiales multicapa tales como materiales antideslumbramiento y reflectantes.

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