CIP-2021 : C30B 21/04 : por fusión de zona.
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C QUIMICA; METALURGIA.
C30 CRECIMIENTO DE CRISTALES.
C30B CRECIMIENTO DE MONOCRISTALES (por sobrepresión, p. ej. para la formación de diamantes B01J 3/06 ); SOLIDIFICACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTICOS O SEPARACION UNIDIRECCIONAL DE MATERIALES EUTECTOIDES; AFINAMIENTO DE MATERIALES POR FUSION DE ZONA (afinamiento por fusión de zona de metales o aleaciones C22B ); PRODUCCION DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (colada de metales, colada de otras sustancias por los mismos procedimientos o aparatos B22D; trabajo de materias plásticas B29; modificación de la estructura física de metales o aleaciones C21D, C22F ); MONOCRISTALES O MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA; TRATAMIENTO POSTERIOR DE MONOCRISTALES O DE MATERIALES POLICRISTALINOS HOMOGENEOS DE ESTRUCTURA DETERMINADA (para la fabricación de dispositivos semiconductores o de sus partes constitutivas H01L ); APARATOS PARA ESTOS EFECTOS.
C30B 21/00 Solidificación unidireccional de materiales eutécticos.
C30B 21/04 · por fusión de zona.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y MATERIALES CONFORMADOS BASADOS EN COMPUESTOS AUTECTICOS BINARIOS O TERNARIOS DE CIRCONIA.
(16/08/1998). Ver ilustración. Solicitante/s: CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIENTIFICAS. Inventor/es: ORERA CLEMENTE,VICTOR MANUEL, FUENTE LEIS, GERMAN DE LA, MERINO RUBIO, ROSA ISABEL, PEÑA TORRE, JOSE IGNACIO.
PROCEDIMIENTO DE PREPARACION Y MATERIALES CONFORMADOS BASADOS EN COMPUESTOS EUTECTICOS BINARIOS O TERNARIOS DE CIRCONIA.LA INVENCION ESTA RELACIONADA CON LA PREPARACION DE MATERIALES CON ESTRUCTURAS EUTECTICAS MICROMETRICAS BASADOS EN MEZCLAS DE OXIDOS. CONFORMADOS CON DIMENSIONES MILI Y SUBMILIMETRICAS MEDIANTE FUSION ZONAL POR LASER CON DIFERENTES SISTEMAS OPTICOS DE FOCALIZACION Y CONTROL DE LOS HACES DE LOS LASERES. SU UTILIZACION ES EN EL SECTOR DE LA PRODUCCION Y CONSERVACION DE ENERGIA, COMO ELEMENTOS CALEFACTORES, REFRACTARIOS, CATODOS PARA PLASMAS DE AIRE, ELECTRODOS, EN COMPONENTES PARA CELDAS DE COMBUSTION, MICROSENSORES DE GAS OXIGENO, ETC.
