(23/06/2010) Un procedimiento para formar una lámina delgada en un sustrato que comprende: proporcionar un sustrato en una cámara; formar una lámina de óxido en el sustrato en la cámara; insertar un material compuesto que comprende un soporte poroso y un material anfifílico de silsesquioxano poliédrico oligomérico en la cámara, en donde el soporte poroso comprende un metal y comprende poros de un tamaño de poros promedio alrededor de 1 micrómetro a alrededor de 1000 micrómetros; ajustar en la cámara al menos una temperatura del material compuesto de alrededor de 50 a alrededor de 300ºC y una presión de alrededor de 0.000001 a alrededor de 760 torr para inducir una vaporización del material anfifílico de silsesquioxano poliédrico oligomérico; y recuperar el sustrato con la lámina delgada encima, en dónde…