CIP-2021 : C23C 14/35 : por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.
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Notas[t] desde C21 hasta C30: METALURGIA
C QUIMICA; METALURGIA.
C23 REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO QUIMICO DE LA SUPERFICIE; TRATAMIENTO DE DIFUSION DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL; MEDIOS PARA IMPEDIR LA CORROSION DE MATERIALES METALICOS, LAS INCRUSTACIONES, EN GENERAL.
C23C REVESTIMIENTO DE MATERIALES METALICOS; REVESTIMIENTO DE MATERIALES CON MATERIALES METALICOS; TRATAMIENTO DE MATERIALES METALICOS POR DIFUSION EN LA SUPERFICIE, POR CONVERSION QUIMICA O SUSTITUCION; REVESTIMIENTO POR EVAPORACION EN VACIO, POR PULVERIZACION CATODICA, POR IMPLANTACION DE IONES O POR DEPOSICION QUIMICA EN FASE VAPOR, EN GENERAL (fabricación de productos revestidos de metal por extrusión B21C 23/22; revestimiento metálico por unión de objetos con capas preexistentes, ver las clases apropiadas, p. ej. B21D 39/00, B23K; metalización del vidrio C03C; metalización de piedras artificiales, cerámicas o piedras naturales C04B 41/00; esmaltado o vidriado de metales C23D; tratamiento de superficies metálicas o revestimiento de metales mediante electrolisis o electroforesis C25D; crecimiento de monocristales C30B; mediante metalización de textiles D06M 11/83; decoración de textiles por metalización localizada D06Q 1/04).
C23C 14/00 Revestimiento por evaporación en vacío, pulverización catódica o implantación de iones del material que constituye el revestimiento.
C23C 14/35 · · · por aplicación de un campo magnético, p. ej. pulverización por medio de un magnetrón.
CIP2021: Invenciones publicadas en esta sección.
DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO.
(16/10/2002) LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA LA APLICACION DE CAPAS DELGADAS SOBRE UN SUBSTRATO , ABARCANDO UNA FUENTE DE CORRIENTE, QUE ESTA UNIDA CON UN CATODO , QUE SE DISPONE EN UNA CAMARA DE VACIO Y CON UN OBJETIVO ACTUANDO CONJUNTAMENTE, ASI COMO UNA FUENTE DE GAS DE PROCESO, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO. ENTRE LA CAMARA DE VACIO Y LA FUENTE DE GAS DE PROCESO SE CONECTA UNA VALVULA DOSIFICADORA CONTROLADA POR MEDIO DE UN REGULADOR Y SE UNE CON AL MENOS UNA BOMBA DE VACIO, CUYO LADO DE ASPIRACION SE CONECTA CON LA CAMARA DE VACIO. SE CARACTERIZA A TRAVES DE UN SENSOR DE MEDICION, EN PARTICULAR UN ELECTRODO DE MEDICION POTENCIOMETRICO, QUE COMPARA LA PORCION DE UN GAS EN LA CAMARA DE VACIO O UNA CONDUCCION DE AFLUENCIA, QUE SE UNE CON LA CAMARA DE VACIO…
METODO PARA EL RECUBRIMIENTO POR BOMBARDEO IONICO CON ALTA VELOCIDAD DE BARRIDO PARA PRODUCIR PLATOS DE PRENSA CON TENSIONES TERMICAS INTERNAS REDUCIDAS.
(01/08/2001). Solicitante/s: PREMARK RWP HOLDINGS, INC.. Inventor/es: MUYUAN,M.MA, JAY,T.OLIVER.
Un plato de prensa para obtener laminados decorativos a partir de papel impregnado con resina, con partículas de alúmina en su cara de presión, recubierto con diboruros seleccionados de entre un grupo comprendiendo diboruro de hafnio, diboruro de molibdeno, diboruro de tántalo, diboruro de titanio, diboruro de tungsteno, diboruro de vanadio, o diboruro de circonio, o mezclas de los mismos para hacer al plato de prensa resistente a los arañazos empleando un proceso en el que el plato de prensa y la cabeza de bombardeo iónico se mueven relativamente entre sí con una velocidad de barrido suficiente para proporcionar un gradiente térmico en el plato de prensa de 10°C o menos, para obtener tensiones internas reducidas y una distribución de calor más extendida en todo el plato de prensa.
REVESTIMIENTO DE MATERIAL DURO CON ITRIO Y METODO PARA SU DEPOSICION.
(01/04/2001). Solicitante/s: HAUZER INDUSTRIES B.V. Inventor/es: MUNZ, WOLF-DIETER, SMITH, IAN, DONOHUE, LEE, ADRIAN, BROOKS, JOHN, STUART.
SE PROPONEN CAPAS DE MATERIAL DURO TERNARIO A LAS QUE SE AÑADE UNA PEQUEÑA PROPORCION DE ITRIO CON EL PROPOSITO DE AUMENTAR LA RESISTENCIA AL DESGASTE A ALTAS TEMPERATURAS.
PROCEDIMIENTO PVD PARA LA DEPOSICION DE CAPAS DE MATERIAL DURO DE VARIOS COMPONENTES.
(01/03/2000). Solicitante/s: HAUZER HOLDING B.V. Inventor/es: MUNZ, WOLF-DIETER, TRINH, THUAN-THON, HURKMANS, ANTONIUS PETRUS ARNOLDUS.
SE DESCRIBE UN PROCESO DE RECUBRIMIENTO PVD, DONDE SE ELABORAN CAPAS DE SUSTANCIAS ENDURECIDAS, COMPUESTAS DE NITRUROS O CARBONITRUROS DE LOS METALES TI, ZR, HF O DE ALEACIONES DE TIAL, ZRAL, HFAL, TIZR, TIZRAL, CON UN MAGNETRON (UBM) NO EQUILIBRADO. DURANTE UN ESPACIO DE TIEMPO DETERMINADO DEL PROCESO DE RECUBRIMIENTO SE SEPARA EL MATERIAL DE RECUBRIMIENTO ADICIONAL A PARTIR DE UNA EVAPORACION (KBE) DE DESCARGA DE ARCO CATODICO SOBRE LOS SUBSTRATOS A SER RECUBIERTOS.
APARATO Y SISTEMAS MAGNETRON PARA DEPOSICIONES ELECTRONICAS.
(16/06/1999). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: HILL, RUSSEL, J., SIECK, PETER A., SCHULZ, STEPHEN C., VOSSEN, JOHN L.
SE PRESENTA UNA ESTRUCTURA ANODICA ALARGADA QUE TIENE MULTIPLES PUNTOS QUE ATRAEN ELECTRONES. EL ANODO SE PUEDE FORMAR A PARTIR DE MULTIPLES CEPILLOS DE ALAMBRE ACOPLADOS A UNA BARRA METALICA. EL USO DEL ANODO EN LOS SISTEMAS DE MAGNETRONES REDUCE DE FORMA SIGNIFICATIVA LA FORMACION DE MATERIALES DIELECTRICOS Y MEJORA LA UNIFORMIDAD DE LA PELICULA CUANDO SE LLEVA A CABO TANTO UNA PULVERIZACION NO REACTIVA COMO UNA REACTIVA DE CC. ADEMAS, EL ANODO REDUCE EL SOBRECALENTAMIENTO Y AUMENTA EL TIEMPO DE FUNCIONAMIENTO DE LOS SISTEMAS DE MAGNETRONES EN LOS QUE TIENE LUGAR UNA PULVERIZACION REACTIVA DE MATERIALES DIELECTRICOS. EN UN ASPECTO DE LA INVENCION, EL SISTEMA DE MAGNETRONES TIENE UN CATODO CILINDRICO Y UN PAR DE ANODOS ALARGADOS COLOCADOS EN PARALELO AL CATODO Y EQUIDISTANTES DEL MISMO. LA ESTRUCTURA ANODICA ES PARTICULARMENTE ADECUADA PARA PULVERIZAR PELICULAS UNIFORMES DE MATERIALES DIELECTRICOS, INCLUIDO EL DIOXIDO DE SILICIO Y EL NITRURO DE SILICIO.
MONTAJE EN VOLADIZO DE MAGNETRONES ROTATIVOS CILINDRICOS.
(01/06/1999). Solicitante/s: VIRATEC THIN FILMS, INC. Inventor/es: STEVENSON, DAVID, E., BJORNARD, ERIK, J., HUMBERSTONE, GEOFFREY, H.
UN APARATO PARA EL MONTAJE ROTABLE DE UN MAGNETRON CILINDRICO EN UNA CAMARA DE VACIO . EL APARATO INCLUYE UNA CAVIDAD DE APOYO QUE TIENE UN EXTREMO QUE SE EXTIENDE DENTRO DE LA CAMARA DE VACIO, CON EL OTRO EXTREMO SITUADO FUERA DE LA CAMARA. UN EJE CONDUCTOR ES MONTADO PARA QUE PUEDA GIRAR EN LA CAVIDAD DE APOYO. CADA EXTREMO (48A,48B) DEL EJE CONDUCTOR SE EXTIENDE FUERA DE LA CAVIDAD . EL MAGNETRON CILINDRICO ESTA PEGADO AL EXTREMO (48B) DEL EJE CONDUCTOR DENTRO DE LA CAMARA. UNA JUNTA HERMETICA ESTA SITUADA EN LA CAVIDAD DE APOYO PARA AJUSTAR HERMETICAMENTE EL EJE CONDUCTOR A LA CAVIDAD . EL EJE CONDUCTOR ESTA MONTADO EN LA CAVIDAD DE TAL MANERA QUE LA CARGA DEL MAGNETRON NO SE TRANSFIERA A LA JUNTA HERMETICA.
CONJUNTO DE IMANES DE CHISPORROTEO CON MAGNETRON PLANO MEJORADO.
(16/12/1998) UN MONTAJE DE IMANES DE EMISION INCLUYE UN POLO EN FORMA DE PLACA HECHA DE UN MATERIAL MAGNETICO PERMEABLE Y UN IMAN CENTRAL COLOCADO SUSTANCIALMENTE EN EL CENTRO DE LA PIEZA POLAR Y ORIENTADA DE MODO QUE SU ORIENTACION MAGNETICA NORTE-SUR ES SUSTANCIALMENTE PERPENDICULAR A LA PIEZA POLAR EN FORMA DE PLACA. UNA PLURALIDAD DE IMANES EXTERIORES ESTAN POSICIONADOS ALREDEDOR DEL IMAN CENTRAL , CADA UNO DE LOS CUALES TIENE SU ORIENTACION MAGNETICA NORTE-SUR TAMBIEN PERPENDICULAR A LA PIEZA POLAR, PERO OPUESTA A LA ORIENTACION DEL IMAN CENTRAL . UNA PLURALIDAD DE IMANES INTERIORES PRIMARIOS ESTAN DISPUESTOS ALREDEDOR…
ESTRUCTURA DE MAGNETRON CILINDRICO ROTATORIO PARA REVESTIMIENTO DE SUPERFICIES GRANDES.
(16/10/1997). Solicitante/s: THE BOC GROUP, INC.. Inventor/es: BOOZENNY, ALEX, HOOG, JOSEF, T.
MECANISMOS PARA SOPORTAR, GIRAR, ENFRIAR Y DAR ENERGIA A UNA ESTRUCTURA DEL BLANCO DE MAGNETRON CILINDRICA EN UN SOPORTE DE PASO EN CADA EXTREMO DE LA ESTRUCTURA DEL BLANCO. SE DESCRIBEN DOS CONFIGURACIONES ESPECIFICAS. SE PROPORCIONAN MONTAJES PARTICULARES DE IMANES DENTRO DEL CILINDRO-BLANCO. SE PUEDEN EMPLEAR OPCIONALMENTE DOS CILINDROS BLANCO GIRATORIOS ADYACENTES PARA INCREMENTAR LA VELOCIDAD DE DEPOSICION DE MATERIAL PULVERIZADO EN UN SUSTRATO. LAS VARIAS CARACTERISTICAS DE ESTA INVENCION ESTAN PARTICULARMENTE ADAPTADAS PARA UN MAGNETRON CILINDRICO DE GRAN ESCALA UTILIZADO PARA PULVERIZAR RECUBRIMIENTOS EN PANELES DE VIDRIO PARA ARQUITECTURA, PARABRISAS DE COCHES , Y SIMILARES, PERO TAMBIEN SON VENTAJOSOS PARA UTILIZAR EN EL RECUBRIMIENTO DE SUSTRATOS MUY PEQUEÑOS.
PROCESO Y DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO, EN PARTICULAR CON CAPAS NO CONDUCTORAS ELECTRICAS.
(01/03/1997). Solicitante/s: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: SZCZYRBOWSKI, JOACHIM, DR., BEISSWENGER, SIEGFRIED, TESCHNER, GOTZ, DIPL.-ING.
EN UN PROCESO Y UN DISPOSITIVO PARA EL RECUBRIMIENTO DE UN SUBSTRATO CON CAPAS NO CONDUCTORAS ELECTRICAMENTE DE UN OBJETIVO CAPAZ DE CONDUCCION ELECTRICA EN ATMOSFERA REACTIVA (POR EJEMPLO OXIDANTE), CON UN CATODO DISPUESTO EN UNA CAMARA DE RECUBRIMIENTO EVACUABLE, QUE ACTUA CONJUNTAMENTE DE FORMA ELECTRICA CON EL OBJETIVO , EL CATODO ESTA CONECTADO POR MOTIVOS DE UNA DEPRESION DEL ARCO EN UNA FUENTE DE CORRIENTE DC Y EQUIPADO CON LA AYUDA DE UN CIRCUITO (22 O 3 HASTA 15) ADICIONALMENTE ADAPTADO DE FORMA PERIODICA PARA TENSION DE TIEMPO CORTO APLICABLE SOBRE UN POTENCIAL POSITIVO, CON LO QUE LA FRECUENCIA DE ESTA INVERSION DE POLOS PERIODICA QUE DEPENDE DE LA CAPA DE SEPARACION ES AJUSTABLE.
INSTALACION DE PULVERIZACION CATODICA DE TASA ELEVADA.
(16/12/1994). Solicitante/s: SAINT GOBAIN VITRAGE INTERNATIONAL GLACERIES SAINT ROCH. Inventor/es: BEAUFAYS, JEAN-PIERRE, DEVIGNE, ROLAND.
LA INVENCION SE REFIERE A UNA INSTALACION DE REVESTIMIENTO DE SUSTRATOS POR PULVERIZACION EN VACIO. EL CATODO DE ESTA INSTALACION COMPRENDE EN PARTICULAR UN PAR DE ELECTRODOS DISPUESTOS A LA ALTURA DEL SUSTRATO Y PIEZAS POLARES ASIMETRICAS , CUYA CONFIGURACION FAVORECE LA EYECCION CONTROLADA DE ELECTRONES ENERGETICOS EN DIRECCION DE LOS SUSTRATOS , LO QUE FAVORECE LA CALIDAD DEL DEPOSITO, Y MAS ESPECIALMENTE LA FORMACION DE COMPUESTOS CUANDO SE TRABAJA EN ATMOSFERA REACTIVA. LA INVENCION SE ADAPTA MAS ESPECIALMENTE A LA FORMACION DE CAPAS FINAS DE SUSTANCIAS COMPUESTAS SOBRE SUSTRATOS DE GRANDES DIMENSIONES, TALES COMO LAMINAS DE VIDRIO.
PROCESO DE APLICACION DE CAPAS SOBRE SUSTRATOS E INSTALACIONES DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO PARA LA REALIZACION DEL PROCESO.
(16/12/1991). Solicitante/s: BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT. Inventor/es: BERGMANN, ERICH, DR..
PARA CONSEGUIR CAPAS MAS DENSAS Y COMPACTAS QUE HASTA AHORA EN EL REVESTIMIENTO EN CAPAS DE SUSTRATOS MEDIANTE PULVERIZACION CATODICA APOYADA EN CAMPOS MAGNETICOS, SE CONDENSA DURANTE LA FORMACION DE LA CAPA UNA CIERTA PARTE DE VAPOR METALICO (OBTENIDO POR EVAPORACION DEL ANODO O CATODO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO) SOBRE LAS SUPERFICIES DE FUNCION DE LOS SUSTRATOS JUNTO CON EL MATERIAL PULVERIZADO, CONCRETAMENTE UN MINIMO DE 5% DE ATOMOS DEL TOTAL DE COMPONENTE METALICO DE LA CAPA. UNA INSTALACION DE RECUBRIMIENTO EN CAPAS AL VACIO APROPIADA PARA LA EJECUCION DE ESTE PROCESO PRESENTA DENTRO DE UNA CAMARA DE VACIO UN DISPOSITIVO PARA LA EVAPORACION DE UNA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA POR MEDIO DE UNA DESCARGA DE ARCO VOLTAICO, ASI COMO OTRO DISPOSITIVO PARA LA PULVERIZACION APOYADA POR CAMPO MAGNETICO DE OTRA PARTE DEL MATERIAL QUE FORMARA LA CAPA.
PROCEDIMIENTO PARA LA FABRICACIÓN DE CONDENSADORES ELÉCTRICOS CON UN ELECTRODO FORMADO POR UNA PELÍCULA DE METAL.
(16/01/1960). Ver ilustración. Solicitante/s: WESTER ELECTRIC COMPANY, INCORPORATED.
Procedimiento para la fabricación de condensadores eléctricos con un electrodo formado por una película de metal, caracterizado por las fases de depositar por condensación sobre un substrato, una capa de metal que forma una película, anodizar electrolíticamente parte de esta capa metálica y aplicar sobre la parte anodizada una capa o película electro-conductiva.
