Procedimiento para producir un compuesto de éter.

Procedimiento para producir un compuesto de éter, que comprende la etapa de hacer reaccionar un compuesto que contiene grupo hidroxilo con un compuesto epoxi en presencia de un óxido de un metal del grupo 4 de la tabla periódica sobre el que se soporta un ion sulfato,

en el que el compuesto que contiene grupo hidroxilo está representado por la siguiente fórmula general (1):

R1-(OA1)n-(OA2)m-OH (1)

en la que R1 es un grupo hidrocarburo que tiene de 1 a 36 átomos de carbono; A1 es un grupo alcanodiilo que tiene de 2 a 4 átomos de carbono; A2 es un grupo alcanodiilo que contiene grupo hidroxilo que tiene de 2 a 4 átomos de carbono; y n y m representan grados de polimerización promedio del grupo OA1 y el grupo OA2, respectivamente, en la que n es un número de 0 hasta 20 y m es un número de 0 hasta 2,

el compuesto epoxi es una α-epihalohidrina y/o un compuesto 1,2-epoxi representado por la siguiente fórmula general (2):**Fórmula**

en la que R2 es un grupo hidrocarburo que tiene de 1 a 36 átomos de carbono; A3 es un grupo alcanodiilo que tiene de 2 a 4 átomos de carbono; p es un número de 0 hasta 20; y q es un número 0 ó 1, y el metal del grupo 4 de la tabla periódica es zirconio,

caracterizado porque

la suma de las intensidades de difracción Itotal ≥ (I28,3 + I30,3 + I31,5) del óxido de metal es de 2000 cps (conteos por segundo) o más tal como se mide sometiendo el óxido de metal a análisis de difracción de rayos X de polvo,

en el que I28,3 representa la intensidad de difracción del plano reticular monoclínico (-111) de la zircona a un ángulo de difracción 2θ ≥ 28,3º, I30,3 representa la intensidad de difracción del plano reticular tetragonal (111) de la zircona a un ángulo de difracción 2θ ≥ 30,3º, e I31,5 representa la intensidad de difracción del plano reticular monoclínico (111) de la zircona a un ángulo de difracción 2θ ≥ 31,5º, en el que el valor de Itotal se obtiene con el procedimiento y las condiciones de medición siguientes: (i) condiciones de medición:

aparato de medición: "difractómetro de rayos X RINT 2500VC de Rigaku" disponible de Rigaku Corp., fuente de rayos X: radicación Cu/Kα,

voltaje del tubo: 40 kV;

corriente del tubo: 120 mA,

intervalo de medición: 2θ ≥ de 10 a 80º,

muestra que va a medirse: la muestra se prepara comprimiendo un agregado que tiene un área de 320 mm2 y un grosor de 1 mm en un orificio o ranura de llenado con muestra de la placa de muestreo según el siguiente procedimiento de preparación de la muestra,

velocidad de barrido de rayos X: 10º/min,

(ii) procedimiento:

la muestra que va a medirse se pulveriza completamente y se reduce a polvo para dar 10 μm de diámetro 60 usando un mortero de ágata, la placa de muestreo se sitúa sobre una placa de vidrio plana que tiene un tamaño de 10 cm cuadrados y un grosor de 5 mm, y la muestra se introduce de manera uniforme y homogénea en un orificio o ranura de llenado con muestra de la placa de muestreo de manera que la superficie de la muestra se pone en alineación a ras con la superficie de la placa de muestreo.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2010/052397.

Solicitante: KAO CORPORATION.

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 14-10, NIHONBASHI-KAYABACHO, 1-CHOME CHUO-KU TOKYO 103-8210 JAPON.

Inventor/es: UNO, MITSURU, NISHI,TAKAFUMI, MATSUMOTO TOMOTAKA.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • B01J27/053 SECCION B — TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES.B01 PROCEDIMIENTOS O APARATOS FISICOS O QUIMICOS EN GENERAL.B01J PROCEDIMIENTOS QUIMICOS O FISICOS, p. ej. CATALISIS, QUIMICA DE LOS COLOIDES; APARATOS ADECUADOS (procedimientos o aparatos para usos específicos, ver las clases correspondientes a los procedimientos o al equipo, p. ej. F26B 3/08). › B01J 27/00 Catalizadores que contienen los elementos o compuestos de halógenos, azufre, selenio, teluro, fósforo, o nitrógeno; Catalizadores que comprenden compuestos de carbono. › Sulfatos.
  • C07B61/00 SECCION C — QUIMICA; METALURGIA.C07 QUIMICA ORGANICA.C07B PROCESOS GENERALES DE QUIMICA ORGANICA; SUS APARATOS (preparación de ésteres de ácidos carboxílicos por telomerización C07C 67/47; procesos para la preparación de compuestos macromoleculares, p.ej. telomerzación C08F, C08G). › Otros procesos generales.
  • C07C41/03 C07 […] › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisis   o electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 41/00 Preparación de éteres; Preparación de compuestos que tienen grupos, grupos o grupos. › por reacción de un ciclo oxirano con un grupo hidroxilo.
  • C07C43/13 C07C […] › C07C 43/00 Eteres; Compuestos que tienen grupos, grupos o grupos. › conteniendo grupos hidroxilo u O-metal (C07C 43/11 tiene prioridad).

PDF original: ES-2658165_T3.pdf

 

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