Personalización de medios físicos revelando y ocultando selectivamente pixeles de color pre-impresos.

Un método para producir una imagen en un área de imagen en un medio físico,

que comprende:

imprimir un patrón de píxeles de impresión en una superficie de sustrato, en el que el patrón de píxeles de impresión comprende una pluralidad de píxeles de impresión, cada píxel de impresión compuesto por una pluralidad de sub-píixeles de diferentes colores;

cubrir el patrón de píxeles de impresión con al menos una capa sensible a fotones, en la que cada capa sensible a fotones se encuentra en uno de una pluralidad de estados en los que cada capa sensible a fotones es alterable en localizaciones seleccionadas de uno de dos estados a otro estado de dos estados;

alterar el estado de al menos una de las al menos una capa sensible a los fotones en un patrón seleccionado a través de los medios físicos, revelando así selectivamente un subconjunto seleccionado de sub-píxeles y porciones de capas sensibles a los fotones que corresponden a otros sub-píxeles, produciendo así una imagen compuesta por los sub-píxeles revelados y las porciones de capas sensibles a fotones correspondientes a otros sub-píxeles caracterizado porque una primera capa sensible a fotones es visualmente opaca y se transforma en visualmente transparente tras la exposición a fotones de una primera longitud e intensidad de onda seleccionadas; y porque una segunda capa sensible a fotones es visualmente transparente y se transforma visualmente opaca tras la exposición a fotones de una segunda longitud de onda e intensidad seleccionadas; en el que una primera porción seleccionada de la primera capa sensible a los fotones está expuesta para revelar sub-píxeles sobre la superficie o cualquier capa sensible a los fotones entre el patrón de los píxeles de impresión situado en la superficie y la primera capa sensible a los fotones; y en el que una segunda porción seleccionada de la segunda capa sensible a los fotones está expuesta para ocultar sub- píxeles sobre la superficie y cualquier capa sensible a los fotones entre la superficie de la segunda capa sensible a los fotones

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2010/064447.

Solicitante: GEMALTO SA.

Nacionalidad solicitante: Francia.

Dirección: 6, rue de la Verrerie 92197 Meudon Cedex FRANCIA.

Inventor/es: LESUR,JEAN-LUC, Bombay,Bart, Leibenguth,Joseph.

Fecha de Publicación: 12 de Julio de 2017.

Clasificación Internacional de Patentes:

B41J2/465 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41J MAQUINAS DE ESCRIBIR; MECANISMOS DE IMPRESION SELECTIVA, es decir, MECANISMOS QUE IMPRIMEN DE OTRA MANERA QUE NO SEA POR UTILIZACION DE FORMAS DE IMPRESION; CORRECCION DE ERRORES TIPOGRAFICOS (composición B41B; impresión sobre superficies especiales B41F; marcado para el lavado B41K; raspadores, gomas o dispositivos para borrar B43L 19/00; productos fluidos para corregir errores tipográficos por recubrimiento C09D 10/00; registro en materia de medidas G01; reconocimiento o presentación de datos, marcado de soportes de registro en forma numérica, p. ej. por punzonado, G06K; aparatos de franqueo o aparatos de impresión y entrega de tiquets G07B; conmutadores eléctricos para teclados, en general H01H 13/70, H03K 17/94; codificación en relación con teclados o dispositivos similares, en general H03M 11/00; emisores o receptores para transmisión de información numérica H04L; transmisión o reproducción de imágenes o de dibujos invariables en el tiempo, p. ej. transmisiones en facsímil, H04N 1/00; mecanismos de impresión especialmente adaptados para aparatos, p. ej. para cajas-registradoras, máquinas de pesar, produciendo un registro de su propio funcionamiento, ver las clases apropiadas). › B41J 2/00 Máquinas de escribir o mecanismos de impresión selectiva caracterizados por el procedimiento de impresión o de marcado para el cual son concebidas (montaje, arreglo o disposición de los tipos o de las matrices B41J 1/00; procedimientos de marcado B41M 5/00; estructura o fabricación de las cabezas, p. ej. cabezas de variación de inducción, para el registro por magnetización o desmagnetización de un soporte de registro G11B 5/127; cabezas para la reproducción de información capacitiva G11B 9/07). › que utilizan máscaras, p. ej. máscaras de conmutación de luz (composición fotográfica B41B).
B41M5/26 B41 […] › B41M PROCESOS DE IMPRESION, DE REPRODUCCION, DE MARCADO O COPIADO; IMPRESION EN COLOR (corrección de errores tipográficos B41J; procedimientos para aplicar imágenes transferencia o similares B44C 1/16; productos fluidos para corregir errores tipográficos C09D 10/00; impresión de textiles D06P). › B41M 5/00 Procesos de reproducción o de marcado; Materiales en hojas utilizadas con este fin (por empleo de materias fotosensibles G03; electrografía, magnetografía G03G). › Termografía (B41M 5/20, B41M 5/24 tienen prioridad; sistemas fototermográficos G03C 1/498).
B41M5/34 B41M 5/00 […] › Termografía con varios colores.
B41M5/36 B41M 5/00 […] › utilizando una película polimérica que puede ser de partículas y que está sometida a una modificación de forma o de estructura con modificación de sus características, p. ej. de sus características de hidrofobia o hidrofilia, de sus características de solubilidad o de permeabilidad.
G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

PDF original: ES-2651842_T3.pdf

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