Objeto con capa de recubrimiento superficial obtenida mediante deposición electrolítica, solución electrolítica utilizada para dicha deposición y método para fabricar dicho objeto.

Un accesorio de moda o un elemento de bisutería (1; 51) del tipo que comprende un material de base (2) y una capa de recubrimiento superficial (3) obtenida a través de deposición electrolítica,

adecuada para cubrir al menos parcialmente dicho material de base (2), caracterizado por que dicho material de base (2) consta de una aleación de zamak y dicha capa de recubrimiento superficial (3) está constituida por una aleación compuesta por cobre en un porcentaje que varía en peso del 90 al 95 %, estaño en un porcentaje que varía en peso del 10 al 5 % e impurezas en un porcentaje que varía en peso del 0 a 1 %, y por que el espesor de dicha capa de recubrimiento superficial (3) excede de 30 micras.

Tipo: Patente Europea. Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: E13005253.

Solicitante: Caoduro, Italo.

Nacionalidad solicitante: Italia.

Dirección: Via Saviabona, 21/B 36010 Monticello Conte Otto (VI) ITALIA.

Inventor/es: CAODURO,ITALO.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • C25D3/58 QUIMICA; METALURGIA.C25 PROCESOS ELECTROLITICOS O ELECTROFORETICOS; SUS APARATOS.C25D PROCESOS PARA LA PRODUCCION ELECTROLITICA O ELECTROFORETICA DE REVESTIMIENTOS; GALVANOPLASTIA (fabricación de circuitos impresos por deposición metálica H05K 3/18 ); UNION DE PIEZAS POR ELECTROLISIS; SUS APARATOS (protección anódica o catódica C23F 13/00; crecimiento de monocristales C30B). › C25D 3/00 Revestimientos electrolíticos; Baños utilizados. › que contienen más del 50% en peso de cobre.
  • C25D7/00 C25D […] › Deposiciones de metales por vía electrolítica caracterizadas por el objeto revestido.

PDF original: ES-2661493_T3.pdf

 

Patentes similares o relacionadas:

Baño de galvanoplastia para la deposición electroquímica de una aleación de Cu-Sn-Zn-Pd, procedimiento para la deposición electroquímica de dicha aleación, sustrato que comprende dicha aleación y usos del sustrato, del 11 de Marzo de 2020, de COVENTYA S.p.A: Baño de galvanoplastia para la deposición electroquímica de una aleación de Cu-Sn-Zn-Pd sobre un sustrato, que comprende o que consiste en […]

Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso y método para depositar electrolíticamente un revestimiento de cobre, del 18 de Septiembre de 2019, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Baño de galvanoplastia de cobre ácido acuoso que comprende: - iones cobre; - al menos un ácido; - iones haluro; - al menos un compuesto que contiene azufre […]

Solución alcalina, sin cianuro, para electrochapado de aleaciones de oro, un método para electrochapado y un sustrato que comprende un depósito brillante, sin corrosión, de una aleación de oro, del 8 de Octubre de 2018, de COVENTYA SAS: Solucion de electrochapado alcalina, sin cianuro para el electrochapado de una aleacion de oro y cobre, que comprende a) de 0,5 a 10 g/l de iones de oro; […]

Materiales metálicos con partículas luminiscentes incrustadas, del 11 de Octubre de 2017, de The Royal Mint Limited: Un método para depositar una capa metálica que tiene partículas luminiscentes incrustadas sobre un sustrato metálico, que comprende: mezclar las partículas luminiscentes […]

Aditivo de electrogalvanoplastia para la deposición de una aleación de un metal del grupo IB/binaria o ternaria del grupo IB-grupo IIIA/ternaria, cuaternaria o quinaria del grupo IB, el grupo IIIA-grupo VIA, del 22 de Febrero de 2017, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Una composición metálica de galvanoplastia que comprende una especie de galvanoplastia del grupo IB y una especie de galvanoplastia del grupo IIIA caracterizada […]

Baño de galvanoplastia de aleación de cobre-níquel y método de chapado, del 30 de Diciembre de 2015, de DIPSOL CHEMICALS CO., LTD.: Un baño de galvanoplastia de aleación de cobre-níquel que comprende: (a) una sal de cobre y una sal de níquel; (b) un agente de complejación […]

Compuesto de recubrimiento metálico y método para la deposición de cobre, zinc y estaño adecuado para la producción de una célula solar de película fina, del 1 de Julio de 2015, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Un método para producir una célula solar de película fina, que comprende: (a) proporcionar una película de sustrato, (b) proporcionar una capa de […]

COMPUESTO DE RECUBRIMIENTO METÁLICO Y MÉTODO PARA LA DEPOSICIÓN DE COBRE, ZINC Y ESTAÑO ADECUADO PARA LA PRODUCCIÓN DE UNA CÉLULA SOLAR DE PELÍCULA FINA, del 30 de Noviembre de 2011, de ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH: Un compuesto metálico libre de cianuro para la deposición de una aleación de cobre, zinc y estaño, y dicha aleación además contiene al menos dos […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .