Un método para proporcionar una lente oftálmica para gafas calculando o seleccionando un diseño.
Un método, implementado por medios informáticos, para proporcionar una lente oftálmica de adición progresiva para gafas a un usuario,
comprendiendo el método las siguientes operaciones:
- medir las aberraciones de orden más elevado en al menos un ojo del usuario;
- calcular un diseño de la lente oftálmica de adición progresiva para gafas o seleccionar un diseño en una base de datos de diseños de lente oftálmica de adicción progresiva para gafas adaptando la gestión del astigmatismo residual basado en la medición de aberraciones de orden más elevado en el ojo del usuario, en que el cálculo o la selección del diseño para el usuario es realizado de acuerdo con un parámetro de dureza de la lente de adición progresiva y en que el parámetro de aberración de orden más elevado es el valor de HOA RMS y en el que el cálculo o la selección del diseño 10 para el usuario es realizado de modo que cuanto menor es el valor de HOA RMS, más duro es el diseño para el usuario y por consiguiente cuanto mayor es el valor de HOA RMS, más blando es el diseño para el usuario.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2008/063355.
Solicitante: ESSILOR INTERNATIONAL COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: 147, RUE DE PARIS 94220 CHARENTON-LE-PONT FRANCIA.
Inventor/es: HERNANDEZ,MARTHA, MARIN,GILDAS.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- G02C7/02 FISICA. › G02 OPTICA. › G02C GAFAS; GAFAS DE SOL O GAFAS PROTECTORAS EN LA MEDIDA EN QUE SUS CARACTERISTICAS SON LAS MISMAS QUE LAS DE LAS GAFAS; LENTES DE CONTACTO. › G02C 7/00 Piezas ópticas (caracterizadas por el material de que están hechas G02B 1/00). › Cristales; Sistemas de cristales.
PDF original: ES-2565244_T3.pdf
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