Nanopartículas de semiconductor.
Partículas nanométricas de semiconductor, en donde cada una de las partículas de semiconductor tienen unaestructura de núcleo / cubierta que comprende un núcleo y una cubierta y las partículas exhiben un tamañopromedio de partículas de no más de 100 nm y un tamaño de núcleo promedio desde 2 a 20 nm.
caracterizadas porque
el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños de núcleos es de no más del 30 %.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2007/050783.
Solicitante: Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 1 Sakura-machi, Hino-shi Tokyo 191-8511 JAPON.
Inventor/es: OKADA,HISATAKE, FURUSAWA,NAOKO, TSUKADA,KAZUYA.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- B82B1/00 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B82 NANOTECNOLOGIA. › B82B NANOESTRUCTURAS FORMADAS POR MANIPULACION DE ATOMOS O MOLECULAS INDIVIDUALES, O COLECCIONES LIMITADAS DE ATOMOS O MOLECULAS COMO UNIDADES DISCRETAS; SU FABRICACION O TRATAMIENTO. › Nanoestructuras formadas por manipulación de átomos o moléculas individuales, o colecciones limitadas de átomos o moléculas como unidades discretas.
- B82B3/00 B82B […] › Fabricación o tratamiento de nanoestructuras por manipulación de átomos o moléculas individuales, colecciones limitadas de átomos o moléculas como unidades discretas.
- C01B33/12 QUIMICA; METALURGIA. › C01 QUIMICA INORGANICA. › C01B ELEMENTOS NO METALICOS; SUS COMPUESTOS (procesos de fermentación o procesos que utilizan enzimas para la preparación de elementos o de compuestos inorgánicos excepto anhídrido carbónico C12P 3/00; producción de elementos no metálicos o de compuestos inorgánicos por electrólisis o electroforesis C25B). › C01B 33/00 Silicio; Sus compuestos (C01B 21/00, C01B 23/00 tienen prioridad; persilicatos C01B 15/14; carburos C01B 32/956). › Sílice; Sus hidratos, p. ej. ácido silícico lepidoico.
- C01B33/18 C01B 33/00 […] › Preparación de sílice finamente dividida ni bajo forma de sol ni bajo forma de gel; Tratamiento posterior de esta sílice (tratamiento para mejorar las propiedades de pigmentación o carga C09C).
- C09K11/02 C […] › C09 COLORANTES; PINTURAS; PULIMENTOS; RESINAS NATURALES; ADHESIVOS; COMPOSICIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE LOS MATERIALES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09K SUSTANCIAS PARA APLICACIONES NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR; APLICACIONES DE SUSTANCIAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › C09K 11/00 Sustancias luminiscentes, p. ej. electroluminiscentes, quimiluminiscentes. › Utilización de materiales particulares como ligantes, recubrimientos de partículas o su medio de suspensión.
- C09K11/59 C09K 11/00 […] › que contienen silicio.
PDF original: ES-2402812_T3.pdf
Fragmento de la descripción:
Nanopartículas de semiconductor
Campo técnico
La presente invención se refiere a partículas nanométricas de semiconductor que tienen una estructura de núcleo / cubierta, y en particular a partículas nanométricas de semiconductor de una estructura de núcleo / cubierta en las cuales el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños de partículas de núcleos y de la distribución de los tamaños de nanopartículas cubiertas cae respectivamente dentro del 30 % y a un procedimiento de fabricación de las mismas.
Antecedentes técnicos Se sabe que entre las ultra-micro-partículas de semiconductores o metales las partículas nanométricas tienen un tamaño de partículas menor que la longitud de onda de un electrón (ca. 10 nm) , sobre las cuales la influencia de finitud del tamaño sobre el movimiento de los electrones aumenta como un efecto cuántico de tamaño, exhiben una propiedad física específica diferente de las del cuerpo grueso (como se describe en el documento no de patente 1) . Las partículas nanométricas de semiconductor de una estructura de núcleo / cubierta que se cubre con un material diferente de la porción del núcleo de las nanopartículas se puede hacer funcionar sin variar el tamaño de la forma de las partículas del núcleo o se espera representar una diferente característica de las del material grueso del núcleo o la cubierta, por lo tanto se observa como un nuevo catalizador altamente activo, como un material foto funcional o como un material para elementos ópticos. Cuando se expone la superficie de las nanopartículas a emisión de luz, varios defectos existentes en la superficie de las nanopartículas se convierten en un destructor de la emisión, conduciendo a una disminución de la eficacia de la emisión. Para superar esto, la intensidad de la emisión se puede mejorar cubriendo las nanopartículas con material de revestimiento que exhibe un hueco de banda mayor que el hueco de banda correspondiente a la longitud de onda de la emisión, y por lo tanto forman una estructura de núcleo / cubierta.
Con respecto a las nanopartículas luminiscentes, se propusieron como un material óptico no lineal, ultra-micropartículas que tienen una capa de aislamiento principalmente compuesta de óxido de silicio sobre la superficie de los núcleos de silicio. Tal material se considera que es útil como un material de emisión de luz de alta intensidad que consigue una alta eficacia cuántica (como se describe el documento de patente 1) .
Las partículas de fósforo que tienen cristales nano-estructurados recubiertos con un componente de cristal pueden exhibir emisiones de excitación incluso con un voltaje relativamente bajo, conduciendo a una alta eficacia luminiscente (como se describe en el documento de patente 2) .
Se desveló una estructura de fósforo de núcleo / cubierta, que exhibe una alta eficacia de emisión (como se describe en el documento de patente 3) . Este fósforo se compone de un núcleo de fósforo en un tamaño de partícula de 10 nm o menor y que incluye un primer elemento de dopaje que forma un nivel de aceptador y un segundo componente de dopaje que forma un nivel de donante en un semiconductor que contiene ZnS como un primer constituyente principal y un compuesto semiconductor de los grupos II - VI como un segundo constituyente opcional, y estando el núcleo disperso en un material de recubrimiento que exhibe un hueco de banda mayor que el hueco de banda correspondiente a la longitud de onda de emisión del fósforo.
De este modo, se puede conseguir una mayor energía del hueco de banda disminuyendo el tamaño de la partícula del núcleo a nivel nanométrico para exhibir el efecto cuántico de tamaño y formando también una estructura de núcleo / cubierta, como se ha descrito anteriormente. Sin embargo no se han realizado estudios con respecto al efecto de la dispersión del tamaño en las partículas nanométricas de semiconductor sobre las propiedades ópticas. Además, no se puede conseguir fácilmente una producción a escala industrial de partículas nanométricas de semiconductores que exhiban una distribución uniforme del tamaño de las partículas.
El documento de patente 4 desvela nanopartículas de Si/SiO2 núcleo / cubierta (reivindicaciones 1, 5; párrafos [0068]; figura 8) con un diámetro del núcleo de Si cristalino de 4nm y una cubierta de dióxido de silicio de aproximadamente 1, 1 nm de grosor. Dichas nanopartículas de Si/SiO2 tienen un diámetro promedio de aproximadamente 5 - 20 nm (reivindicación 13) . Sin embargo, dicho documento no desvela que si el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños del núcleo es <= 30 % conduce a un semi-ancho disminuido del pico de emisión, para un solapamiento reducido con la emisión de partículas de otros tamaños de partículas y por lo tanto conduce a una detectabilidad mejorada y una luminancia aumentada.
El documento no de patente 2 (figura 2, página 3792, columna izquierda, tercer párrafo) desvela los efectos técnicos descritos para las partículas sin cubierta tales como agrupaciones de Si dispersos en una matriz de SiO2 (con un tamaño de núcleo (tamaño de agrupamiento) de 5nm (50 ) y distribuciones de tamaño de agrupamiento de 1 , 2, 5
y 10 ; el coeficiente de variación de la distribución del tamaño del núcleo de por ejemplo el 2 %) pero no para las partículas de núcleo / cubierta como en la presente invención.
Documento de patente 1: JP-A Nº 5-224261.
Documento de patente 2: JP-A Nº 2000-265166 Documento de patente 3: JP-A Nº 2005-120117 Documento de patente 4: US 2004/229447 A1 (SWIHART MARK T [US] Y OTROS) 18 de Noviembre de 2004 () Documento no de patente 1: Nikkei Sentan Gijutsu (Nikkei Advanced Technology) . 27 de Enero de 2003, páginas 1-4. Documento no de patente 2: TRWOGA P F Y OTROS : "Modeling the contribution of quantum confinement to luminiscence from silicom nanoclusters". DIARIO DE FISICA APLICADA, INSTITUTO AMERICANO DE FÍSICA, NUEVA YORK, US, vol. 83, Nº 7, 1 de Abril de 1998 () , páginas 3789 - 3794, XP012044949, ISSN: 0021-8979, DOI: 10.1063/1.366608
Revelación de la invención Problema a resolver
Como se ha descrito anteriormente, no se sabe nada con respecto al efecto de la dispersión en el tamaño de las partículas sobre las propiedades ópticas de las nanopartículas de una estructura de núcleo / cubierta. Los inventores descubrieron que cuando la distribución de los tamaños de partículas de las partículas nanométricas de semiconductor y de las partículas del núcleo caía cada una dentro de un cierto intervalo, se conseguía la mejora de las características de emisión y la eficacia de la emisión. La presente invención se ha realizado en base a tales descubrimientos. De este modo, es un objetivo de la invención proporcionar partículas nano-métricas de semiconductor (en adelante en este documento, también llamadas como partículas nanométricas de semiconductor) de una estructura de núcleo / cubierta, que exhiben una limitación apropiada en la dispersión con respecto a las propiedades ópticas superiores de un elemento óptico, y un procedimiento de preparación de las mismas.
Medios para resolver el problema Las partículas nanométricas de semiconductor de la invención tienen una estructura de núcleo / cubierta que comprende un núcleo y una cubierta, las partículas cubiertas exhiben un tamaño de partícula promedio de no más de 100 nm y un sitio de núcleo promedio de 2 a 20 nm, y se caracterizan en que el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños de núcleos es no más del 30 %.
Las partículas preferentemente exhiben un coeficiente de variación en la distribución de los tamaños de partículas de no más del 30 %.
El núcleo se compone preferentemente de una composición que incluye al menos un elemento seleccionado del grupo consistente en B, C, N, Al, Si, P, S, Zn, Ga, Ge, As, In, Sb y Te.
La cubierta se compone preferentemente de una composición que exhibe un mayor hueco de banda que el del núcleo.
El núcleo se compone preferentemente de silicio y la cubierta se compone preferentemente de óxido de silicio.
Efecto de la invención Las partículas nanométricas de semiconductor de una estructura de núcleo / cubierta se controlan de modo que el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños de núcleos y los tamaños de las partículas cubiertas caen respectivamente dentro de unos intervalos determinados, por lo que las características ópticas se optimizan. Una distribución de los tamaños de partículas que cae dentro de un intervalo relativamente estrecho efectivamente da como resultado efectos cuánticos de tamaño y efectos cuánticos de confinamiento. En consecuencia,... [Seguir leyendo]
Reivindicaciones:
1. Partículas nanométricas de semiconductor, en donde cada una de las partículas de semiconductor tienen una estructura de núcleo / cubierta que comprende un núcleo y una cubierta y las partículas exhiben un tamaño promedio de partículas de no más de 100 nm y un tamaño de núcleo promedio desde 2 a 20 nm.
caracterizadas porque el coeficiente de variación de la distribución de los tamaños de núcleos es de no más del 30 %.
2. Las partículas de semiconductor de acuerdo con la reivindicación 1, en donde las partículas exhiben un coeficiente de variación en la distribución de los tamaños de partículas de no más del 30 %.
3. Las partículas de semiconductor de acuerdo con la reivindicación 1 o 2, en donde el núcleo se compone de una
composición que incluye al menos un elemento seleccionado del grupo que consiste en B, C, N, Al, Si, P, S, Zn, Ga, Ge, As, Cd, In, Sb y Te.
4. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en donde la cubierta se compone de una composición que exhibe un mayor hueco de banda que el del núcleo.
5. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, en donde el núcleo 15 se compone de silicio y la cubierta se compone de óxido de silicio.
6. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, en donde el núcleo se compone de una única sustancia cristalina.
7. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en donde las
partículas exhiben un grosor promedio de la cubierta que no es menor de 0, 2 nm y no mayor de 1/2 del tamaño 20 promedio de los núcleos de partículas.
8. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en donde el núcleo se compone de silicio o de germanio.
9. Las partículas de semiconductor de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en donde la cubierta se compone de óxido de silicio.
Patentes similares o relacionadas:
Composición silícea y procedimiento de obtención, del 19 de Febrero de 2020, de FIB-SERVICES INTELLECTUAL S.A: Composición pulverulenta a base de sílice para soldadura cerámica, en particular por proyección, que comprende: a) del 10% al 90% en peso con respecto al […]
Extracción de productos a partir de minerales que contienen titanio, del 27 de Noviembre de 2019, de Avertana Limited: Un metodo para recuperar dioxido de titanio y sulfato de aluminio a partir de un material en particulas que comprende perovskita, dicho metodo comprende: a. […]
Microesferas de hidróxido doble con capa de SiO2 y métodos para fabricarlas, del 11 de Septiembre de 2019, de SCG Chemicals Co., Ltd: Un método para hacer microesferas de hidróxido doble con capa de sílice que tiene la fórmula I (SiO2)p@{[Mz+ (1-x)M'y+ x(OH)2]a+(Xn-)a/n•bH2O•c(solvente […]
Nuevo procedimiento de preparación de sílices precipitadas, del 17 de Julio de 2019, de RHODIA OPERATIONS: Procedimiento de preparación de una sílice precipitada, en el que: - se hace reaccionar al menos un silicato con al menos un agente acidificante, a fin de obtener una suspensión […]
Procedimiento de preparación del fluoruro de calcio a partir del ácido fluosilícico, del 10 de Abril de 2019, de OCP SA: Procedimiento de preparación del fluoruro de calcio sintético (CaF2) (mín. 90% de CaF2 en peso) a partir de ácido fluosilícico, que comprende […]
Procedimiento para la purificación de ácidos fuertes, o bien medios fuertemente ácidos de iones metálicos divalentes y de valencia superior, del 22 de Marzo de 2019, de EVONIK DEGUSSA GMBH: Procedimiento para la producción de dióxido de silicio altamente puro, que comprende los siguientes pasos de proceso citados a continuación a) […]
Composición mineral y su uso como aditivo para la fabricación de muebles de cartón embalajes y/o envases, del 21 de Noviembre de 2018, de PRIMLAB GLOBAL, S.L: Composición mineral de rocas ígneas que comprende una mezcla de magnesio (entre un 1 y un 25%), hierro (entre un 1 y un 23%), monóxido de calcio (entre un 1 y un 25%), […]
MÉTODO PARA LA SINTÉSIS DE NANOPARTÍCULAS, SU RECOGIDA Y GENERACIÓN DE RECUBRIMIENTOS ASISTIDO POR LÁSER Y CAMPOS ELÉCTRICOS DE ELEVADA INTENSIDAD, del 13 de Noviembre de 2018, de UNIVERSIDAD DE VIGO: Método para la síntesis de nanopartículas, su recogida y generación de recubrimientos asistido por láser y campos eléctricos de elevada intensidad. La […]