Aparato de tratamiento en vacío.

Un aparato de tratamiento en vacío que comprende:

• un recipiente de tratamiento en vacío (10),

que comprende un elemento (5) de bloqueo de carga entre uninterior (i) de dicho recipiente (10) y un exterior (e) de dicho recipiente (10), de tal manera que dichoelemento (5) de bloqueo de carga comprende una disposición de válvula externa (1a, 1b) entre uncompartimiento de dicho elemento de bloqueo de carga y dicho exterior (e), y una disposición de válvulainterna entre dicho compartimiento y el resto de dicho interior (i), de tal modo que dicho elemento (5) debloqueo de carga se ha concebido como un elemento de bloqueo de carga en ambos sentidos, obidireccional, para la transferencia de sustratos entre dicho interior (i) y dicho exterior (e);

• una disposición de transporte (100) en dicho exterior (e) para transportar bidireccionalmente, o en ambossentidos, sustratos hacia y desde dicho elemento (5) de bloqueo de carga, y que comprende:

- un primer manipulador (1) de sustrato, susceptible de hacerse girar alrededor de un primer eje(A1) por medio de un primer dispositivo de accionamiento controlado (9), y que comprende almenos dos primeros elementos portadores (1a, 1b) de sustrato, equidistantes con respecto a dichoprimer eje (A1),

- un segundo manipulador (20) de sustrato, susceptible de hacerse girar alrededor de un segundoeje (A20) por medio de un segundo dispositivo de accionamiento controlado (21), y que comprendeal menos cuatro segundos elementos portadores (20a, 20b, 20c, 20d) de sustrato que sonequidistantes con respecto a dicho segundo eje (A20);

- de tal manera que dichos primer y segundo elementos portadores de sustrato son mutuamentealineados, respectivamente, en una única posición (P1/20) de sus respectivos recorridos detrayectoria de giro conforme uno de dichos primeros elementos portadores de sustrato es alineadocon uno de dichos segundos elementos portadores de sustrato, siendo el otro de dichos primeroselementos portadores de sustrato alineado con dicho elemento (5) de bloqueo de carga;

- dichos primeros elementos portadores (1a, 1b) de sustrato son movibles hacia y desde dichorecipiente de tratamiento en vacío (10) una vez alineados con dicho elemento (5) de bloqueo decarga, por respectivos terceros dispositivos de accionamiento controlados (11a, 11b), con lo quese forma, respectivamente, dicha válvula externa.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/EP2010/053140.

Solicitante: Oerlikon Advanced Technologies AG.

Nacionalidad solicitante: Liechtensein.

Dirección: Iramali 18 9496 Balzers LIECHTENSTEIN.

Inventor/es: VOSER,STEPHAN, DOVIDS,GERHARD.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01L21/00 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas.

PDF original: ES-2450118_T3.pdf

 

Aparato de tratamiento en vacío.

Fragmento de la descripción:

Aparato de tratamiento en vacío La presente invención está dirigida a un aparato de tratamiento en vacío para el tratamiento de un sustrato individual. Para un aparato de tratamiento en vacío que funciona en un modo de tratamiento de un sustrato individual, en posición al modo de tratamiento por lotes, los criterios:

! espacio ocupado en planta o “huella” del aparato ! capacidad de producción ofrecida por el aparato ! accesibilidad a subconjuntos del aparato desde la atmósfera ambiental

! en conexión con el último criterio mencionado, los intervalos de tiempo durante los cuales el aparato no es productivo, por ejemplo, con vistas a trabajos de mantenimiento y de reemplazo, son de la mayor importancia.

El documento WO 2007/126289 A1 describe un aparato de tratamiento en vacío de la técnica anterior.

Es un propósito de la presente invención proporcionar un aparato de tratamiento en vacío que se haya optimizado para los criterios anteriormente mencionados. La materia objeto de la presente invención se describe en la reivindicación 1.

Esto se consigue por medio del aparato de tratamiento en vacío que comprende un recipiente de tratamiento en vacío. El recipiente de tratamiento en vacío comprende un elemento de bloqueo de carga situado entre un interior del recipiente y un exterior del recipiente, que es un ambiente regulable de forma personalizada. El elemento de bloqueo de carga comprende una disposición de válvula externa que funciona entre un compartimiento del elemento de bloqueo de carga y el exterior del recipiente de tratamiento. El elemento de bloqueo de carga comprende, adicionalmente, una disposición de válvula interna que funciona entre el compartimiento del elemento de bloqueo de carga y el resto del interior del recipiente de tratamiento en vacío. El elemento de bloqueo de carga se ha concebido como un elemento de bloqueo de carga bidireccional, o en ambos sentidos, para la transferencia del sustrato entre el interior y el exterior del recipiente de tratamiento en vacío.

El aparato de tratamiento de carga de acuerdo con la invención comprende, de manera adicional, un dispositivo de transporte que está situado en el exterior con el fin de transportar los sustratos en ambos sentidos, hacia y desde el elemento de bloqueo de carga. La disposición de transporte referida comprende

-un primer manipulador de sustrato, que es susceptible de hacerse girar alrededor de un primer eje por medio de un primer dispositivo de accionamiento controlado y que comprende al menos dos primeros elementos potadores de sustrato, dispuestos de forma equidistante con respecto al primer eje referido,

-un segundo manipulador de sustrato, que es susceptible de hacerse girar alrededor de un segundo eje por medio de un segundo dispositivo de accionamiento controlado y que comprende al menos cuatro segundos elementos portadores de sustrato, los cuales están dispuestos de forma equidistante con respecto al segundo eje.

El primer y el segundo elementos portadores de sustrato están mutuamente alineados, respectivamente, en una posición específica de sus respectivos recorridos de trayectoria de giro. De la misma manera que uno de los primeros elementos portadores de sustrato está alineado con uno de los segundos elementos portadores de sustrato, el otro de los primeros elementos portadores de sustrato está alineado con el elemento de bloqueo de carga. Los primeros elementos portadores de sustrato son movibles, de manera adicional, hacia y desde el recipiente de tratamiento en vacío una vez que uno de estos elementos portadores de sustrato se ha alineado con el elemento de bloqueo de carga. Estos son movibles, tal como se ha referido, por unos respectivos terceros dispositivos de accionamiento controlados, y, por ello, constituyen, respectivamente, la válvula externa del elemento de bloqueo de carga.

Gracias a esta disposición de transporte mencionada, se logra una capacidad de transporte bidireccional, o en ambos sentidos, en virtud de la cual los sustratos sin tratar pueden ser transportados desde una posición de fuente de suministro hacia, y al interior de, el recipiente de tratamiento en vacío, y viceversa, los sustratos tratados pueden transportarse desde el recipiente de tratamiento en vacío hacia, y hasta ocupar, una ubicación de destino. Con ello, debido a la combinación de estas capacidades de transporte bidireccionales hacia y desde el recipiente de tratamiento en vacío, se ahorra una considerable área de ocupación en planta, o “huella”. A pesar de esta combinación de recorridos de trayectoria hacia delante y hacia atrás para los sustratos con respecto al elemento de bloqueo de carga, dentro del recipiente de tratamiento en vacío, se consigue una elevada capacidad de transporte, y, por tanto, una alta capacidad de producción. Adicionalmente, toda la disposición de transporte está construida en el área exterior con respecto al recipiente de tratamiento en vacío, lo que permite una fácil accesibilidad.

En una realización del aparato de acuerdo con la presente invención, el elemento de bloqueo de carga tiene una abertura de servicio para los sustratos hacia el exterior del recipiente de vacío, la cual está situada en una porción de pared del lado superior del recipiente de tratamiento en vacío. Esto permite, dentro del recipiente de vacío, hacerque el sustrato se deposite justamente sobre cualquier tipo de instalación portadora de sustrato. Únicamente el primer manipulador de sustrato, con un número mínimo de elementos portadores de sustrato, ha de ser particularizado para sostener los sustratos en una posición suspendida, lo que necesita capacidades de retención de sustrato activas.

En una realización adicional del aparato de acuerdo con la invención, el primer manipulador de sustrato tiene tan solo dos de los primeros elementos portadores de sustrato, que están situados opuestamente el uno al otro con respecto al primer eje, esto es, el eje de giro del primer manipulador de sustrato. Esto permite controlar de forma giratoria el primer manipulador para que sirva, de una parte, al elemento de bloqueo de carga y, de otra parte, al segundo manipulador de sustrato, en etapas o pasos de igual giro angular.

Aún en una realización adicional del aparato de acuerdo con la invención, que puede ser combinada con cualquiera de las realizaciones ya referidas y que se refieren subsiguientemente de tal aparato, el segundo manipulador de sustrato comprende solo cuatro de los segundos elementos portadores de sustrato, dispuestos en pares, unos o opuestamente a los otros con respecto al segundo eje, es decir, el eje de giro del segundo manipulador de sustrato. Con ello, el segundo manipulador de sustrato hace posible la necesaria posición de almacenamiento intermedia para un sustrato sin tratar y uno tratado, a fin de permitir una capacidad de transporte bidireccional de la disposición de transporte, si bien, por otra parte, minimiza el área ocupada en planta sin que se reduzca la capacidad de producción.

En una realización adicional del aparato de acuerdo con la invención, que puede ser combinada con cualquiera de las realizaciones ya referidas y que se refieren subsiguientemente, los primer y segundo ejes, así como la dirección de la movilidad de los primeros elementos portadores de sustrato hacia y desde el recipiente de tratamiento en vacío, es decir, la movilidad para la acción de válvula del elemento de bloqueo de carga de los primeros elementos portadores de sustrato, son paralelos. Especialmente en combinación con la posición específica de la abertura de servicio del elemento de bloqueo de carga, esta realización conduce a una construcción global altamente eficiente y compacta en la que la transferencia de sustratos entre los manipuladores, por una parte, y entre el primer manipulador y el elemento de bloqueo de carga y, finalmente, el recipiente de tratamiento en vacío, por otra, puedellevarse a cabo con gastos mínimos. Únicamente necesitan particularizarse un número mínimo de los elementos portadores de sustrato para sostener en suspensión los sustratos, en tanto que los elementos portadores de sustrato restantes pueden soportar únicamente el sustrato depositado sobre ellos. Tan solo debe hacerse posible la fijación de los sustratos, en estos últimos elementos portadores de sustrato, por lo que respecta a las fuerzas centrífugas, a la vista de la alta velocidad de giro de los respectivos manipuladores de sustrato.

En una realización adicional del aparato de acuerdo con la invención, que de nuevo puede ser combinada con cualquiera de las realizaciones ya referidas y que se refieren subsiguientemente, el recipiente de tratamiento en vacío comprende al menos dos posiciones de montaje, cada una de ellas... [Seguir leyendo]

 


Reivindicaciones:

1. Un aparato de tratamiento en vacío que comprende:

! un recipiente de tratamiento en vacío (10) , que comprende un elemento (5) de bloqueo de carga entre un interior (i) de dicho recipiente (10) y un exterior (e) de dicho recipiente (10) , de tal manera que dicho elemento (5) de bloqueo de carga comprende una disposición de válvula externa (1a, 1b) entre un compartimiento de dicho elemento de bloqueo de carga y dicho exterior (e) , y una disposición de válvula interna entre dicho compartimiento y el resto de dicho interior (i) , de tal modo que dicho elemento (5) de bloqueo de carga se ha concebido como un elemento de bloqueo de carga en ambos sentidos, o bidireccional, para la transferencia de sustratos entre dicho interior (i) y dicho exterior (e) ;

! una disposición de transporte (100) en dicho exterior (e) para transportar bidireccionalmente, o en ambos sentidos, sustratos hacia y desde dicho elemento (5) de bloqueo de carga, y que comprende:

-un primer manipulador (1) de sustrato, susceptible de hacerse girar alrededor de un primer eje (A1) por medio de un primer dispositivo de accionamiento controlado (9) , y que comprende al menos dos primeros elementos portadores (1a, 1b) de sustrato, equidistantes con respecto a dicho

primer eje (A1) ,

-un segundo manipulador (20) de sustrato, susceptible de hacerse girar alrededor de un segundo eje (A20) por medio de un segundo dispositivo de accionamiento controlado (21) , y que comprende al menos cuatro segundos elementos portadores (20a, 20b, 20c, 20d) de sustrato que son equidistantes con respecto a dicho segundo eje (A20) ;

- de tal manera que dichos primer y segundo elementos portadores de sustrato son mutuamente alineados, respectivamente, en una única posición (P1/20) de sus respectivos recorridos de trayectoria de giro conforme uno de dichos primeros elementos portadores de sustrato es alineado con uno de dichos segundos elementos portadores de sustrato, siendo el otro de dichos primeros elementos portadores de sustrato alineado con dicho elemento (5) de bloqueo de carga;

- dichos primeros elementos portadores (1a, 1b) de sustrato son movibles hacia y desde dicho recipiente de tratamiento en vacío (10) una vez alineados con dicho elemento (5) de bloqueo de carga, por respectivos terceros dispositivos de accionamiento controlados (11a, 11b) , con lo que se forma, respectivamente, dicha válvula externa.

2. Un aparato de tratamiento en vacío de acuerdo con la reivindicación 1, en el cual dicho elemento (5, 35) de bloqueo de carga tiene una abertura de servicio hacia dicho exterior, que está situada en una porción de pared del lado superior de dicho recipiente de tratamiento en vacío (10) .

3. El aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 o 2, en el cual dicho primer manipulador (1) de sustrato comprende dos de dichos primeros elementos portadores (1a, 1b) de sustrato, situados en dicho primer manipulador de sustrato, opuestos el uno al otro con respecto a dicho primer eje (A1) .

4. El aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 3, en el cual dicho segundo manipulador de sustrato comprende cuatro de dichos segundos elementos portadores (20a, 20b, 20c, 20d) de sustrato, dispuestos en pares opuestos entre sí con respecto a dicho segundo eje (A20) .

5. El aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 4, en el cual dichos primer y segundo ejes y la dirección de movilidad de dichos primeros elementos portadores de sustrato hacia y desde dicho recipiente de tratamiento en vacío, son paralelos.

6. El aparato de tratamiento de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 5, en el cual dicho recipiente de tratamiento en vacío comprende al menos dos estaciones de montaje por estación de tratamiento, cada una de las cuales está destinada a tratar un único sustrato, de tal modo que dicho recipiente de tratamiento en vacío comprende, adicionalmente, una disposición de transporte adicional (30) , susceptible de hacerse girar alrededor de 45 un tercer eje (A30) por medio de un tercer dispositivo de accionamiento controlado, comprendiendo dicha disposición de transporte adicional (30) al menos tres soportes (34) de sustrato, equidistantes con respecto a dicho tercer eje y uniformemente distribuidos en dirección acimutal con respecto a dicho tercer eje, y en el cual dicha unidad de regulación de secuencia temporal controla en el tiempo dicho tercer dispositivo de accionamiento.

7. El aparato de tratamiento de acuerdo con la reivindicación 6, en el cual dicho tercer eje es paralelo a dicho 50 primer eje.

8. El aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 7, que comprende adicionalmente un transportador en un solo sentido, o unidireccional, (54) , que interactúa con respecto al transporte de sustratos con dicho segundo manipulador (20) de sustrato.

9. El aparato de acuerdo con la reivindicación 8, en el cual dicho transportador unidireccional (54) interactúa con dicho segundo manipulador (20) de sustrato por medio de un tercer manipulador de sustrato.

10. Un aparato de tratamiento en vacío ampliado, que comprende al menos dos de dichos aparatos de tratamiento en vacío de acuerdo con una de las reivindicaciones 8 o 9, a lo largo de dicho transportador unidireccional.

11. El aparato de tratamiento en vacío ampliado de acuerdo con la reivindicación 10, que comprende una estación de volteo entre dos de dichos aparatos de tratamiento en vacío, dispuesta a lo largo de dicho transportador unidireccional para volver bocarriba los sustratos dispuestos sobre dicho transportador unidireccional.

12. Uso del aparato de tratamiento en vacío de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 - 9, o del aparato de tratamiento en vacío ampliado de acuerdo con una de las reivindicaciones 10 u 11, para tratar sustratos de al menos 200 mm x 200 mm.

13. Uso del aparato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 -9, o del aparato ampliado de acuerdo con una de las reivindicaciones 10 u 11, para la fabricación de células solares.


 

Patentes similares o relacionadas:

Procedimiento y dispositivo para la realización del test de obleas de semiconductor por medio de un dispositivo de fijación atemperable, del 1 de Julio de 2020, de ERS ELECTRONIC GMBH: Procedimiento para la realización del test de obleas de semiconductor por medio de un dispositivo de fijación atemperable con las etapas: atemperado del dispositivo […]

Conjunto de sensores con zona(s) antidifusión para prolongar el periodo de caducidad, del 5 de Noviembre de 2019, de SIEMENS HEALTHCARE DIAGNOSTICS INC.: Un conjunto de sensores que comprende: un primer sustrato plano , teniendo el primer sustrato plano una primera superficie plana del primer […]

Procedimiento para fabricar piezas con superficie grabada por iones, del 8 de Marzo de 2019, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Un procedimiento para fabricar piezas, estando al menos una parte de la superficie de dichas piezas grabada, incluyendo el grabado por impacto de iones, que comprende: […]

Método mejorado para el grabado de microestructuras, del 3 de Octubre de 2018, de Memsstar Limited: Método para grabar una o más microestructuras ubicadas dentro de una cámara de proceso , comprendiendo el método las etapas siguientes: […]

MÉTODO Y SISTEMA PARA PRODUCIR GRAFENO SOBRE UN SUBSTRATO DE COBRE POR DEPOSICIÓN DE VAPORES QUÍMICOS (AP-CVD) MODIFICADO, del 25 de Enero de 2018, de UNIVERSIDAD TÉCNICA FEDERICO SANTA MARÍA: Un método y sistema para producir grafeno sobre un substrato de cobre por deposición de vapores químicos (AP-CVD) modificado; que, comprende: […]

Matrices de micropartículas y procedimientos de preparación de las mismas, del 19 de Julio de 2017, de BIOARRAY SOLUTIONS LTD: Un biochip, que comprende: un sustrato de oblea de semiconductor (L1) que tiene al menos una matriz de perlas dentro de regiones de chip delineadas […]

Fotodiodo PIN de alta velocidad con respuesta incrementada, del 30 de Noviembre de 2016, de PICOMETRIX, LLC: Un fotodiodo PIN que comprende: una primera capa semiconductora tipo p; una capa semiconductora tipo n; una segunda capa semiconductora […]

Instalación para el tratamiento en vacío de sustratos, del 12 de Octubre de 2016, de H.E.F: Instalación para el tratamiento en vacío de sustratos (S) compuesta de varios módulos, caracterizada por el hecho de que: - los diferentes […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .