Polímeros de organosilicio-poliurea, elastómeros fabricados con ellos y utilización de los mismos.

Un método de obtención de un polímero base de organosilicio-poliurea capaz de autorreticularse en presencia de humedad,

que se caracteriza por la fórmula siguiente:

en la que:

m, n son en cada caso un número entero de 1 a 750; Q'= CO-NR-Q-NR-CO, en el que: Q es un resto divalente elegido entre un resto arileno C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alquileno C1-C20, un resto cicloalquileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R es hidrógeno o un resto alquilo C1-C12; R1 se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; Y se ajusta a una estructura:

en las que:

Ra y Rb se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C16, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y es un número de 0 a 3; Rc es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; Rd es un enlace directo, o un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y Re se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto alquilo C1-C12 que contiene imino, un resto arilo C6-C20

que contiene imino, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; D se ajusta a la estructura:

en la que:

x es un número comprendido entre 1 y 2000; U es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto iminoalquilo C1-C12 o poliiminoalquilo, un resto cicloalquileno C6-C20, un resto iminocicloalquilo C6-C20, un resto arileno o arilenoamino C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno o iminoarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R2 y R3 se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C16 y combinaciones de los mismos; X se elige entre H, OCN-Q-NRCO-, HNR1D-NR1-Q'- y E-Q'-, en los que R, D, R1, Q y Q' tienen los significados definidos anteriormente; Z se elige entre -Y-X, -NR1-D-NR1X y E, en los que Y, X, R1 y D tienen los significados definidos anteriormente;

45 en los que el anterior E es un resto de monómero de monoamina o un resto de un agente de bloqueo terminal de monoimino-silano, el resto del monómero de monoamina tiene la fórmula general: -N (Re) Rf, y el resto de un agente de bloqueo terminal de monoimino-silano tiene la fórmula general: -N (Re) -Rg-Si (Ra) y (ORb) 3-y, en la que Re, Ra, Rb e "y" tienen los significados definidos antes; Rf se elige entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; Rg es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto cicloalquileno C6-C20, un resto arileno C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos, dicho método consiste en los pasos siguientes:

(1) hacer reaccionar un componente poliisocianato A que tiene dos o más grupos funcionales isocianato con un componente polisiloxano B que tiene dos grupos amino o imino, para obtener un prepolímero con los grupos isocianato bloqueados; y (2) añadir un componente silano C, que tiene dos o más grupos amino, imino, hidrazino, y/o alquilhidrazino y de 0 a 3 grupos alcoxi, y seguir la reacción para obtener los polímeros basados en organosilicio-poliurea.

Polímeros de organosilicio-poliurea, elastómeros fabricados con ellos y utilización de los mismos Ímbito técnico La presente invención se refiere a polímeros autorreticulantes basados en organosilicio-poliurea, a elastómeros fabricados con ellos, a la obtención y la utilización de los mismos. Los elastómeros fabricados con los polímeros base pueden destinarse a múltiples usos en los ámbitos de los adhesivos, selladores, juntas de estanqueidad, capas intermedias y recubrimientos (pinturas) , en particular el uso como selladores para la automoción.

Tecnología anterior Con la continua evolución de la industria moderna del automóvil se han intensificado en gran manera las exigencias planteadas a los materiales funcionales de altas prestaciones. Por ejemplo, los selladores empleados para piezas de automóvil, como son las los conductos de aceite y las capotas, no solo han de tener buenas propiedades sellantes, sino que tienen que ser resistentes a temperaturas bajas y elevadas, resistentes a los disolventes, estirables y reticulables a temperatura ambiente. Y las exigencias sobre el contenido de materiales orgánicos volátiles (VOC) de los materiales empleados como selladores se han recrudecido y se han vuelto más complejas debido a regulaciones que tienen que cumplirse, ya que varios países están prestando más atención a la protección medioambiental. Aunque muchas organizaciones están estudiando los materiales selladores autorreticulantes, continúa habiendo demanda de materiales selladores de este tipo y la mayoría de métodos para fabricarlos son actualmente muy complicados.

Hay muchas publicaciones sobre la utilización de materiales de poliuretano y poliurea como selladores y adhesivos, por ejemplo, (1) R.H. Banoy, M. Itoh, A. Sakakibara y T. Suzuki, Chem. Rev. 95, 1409, 1995; (2) Zhang, T., Xi, K., Chen, H. y col., J. APPL. POLYM. SCI. 91 (1) , 190-195, 5 enero 2004; y (3) X.H. Yu, M.R. Nagarajan, T.G. Grasel, P.E. Gibson y S.L. Cooper, J. Polym. Sci., Polym. Phys. Ed. 23, 2319. Sin embargo, aquellos materiales que utilizan poliéteres como segmentos blandos no tienen valores satisfactorios de resistente a temperaturas elevadas y bajas y se deforman fácilmente por hinchamiento en disolventes orgánicos. Aunque se han empleado agentes de condensación de silanos en materiales reticulables a temperatura ambiente, estos materiales después de la reticulación tienen una resistencia demasiado elevada, lo cual se traduce en que tengan muy poca elasticidad y se rompan y fracturen fácilmente. Lo mismo ocurre con las resinas epoxi, que no tienen resistencia suficiente a temperaturas elevadas y bajas para ser idóneas en el ámbito del montaje de automóviles. También las poliimidas, que tienen propiedades físicas interesantes, pero la industria las considera simplemente demasiado caras para poder sacar de ellas un beneficio práctico.

Los métodos de síntesis de los copolímeros de bloques de polisiloxano/poliurea se han descrito por ejemplo en (1) la patente US-6, 407, 195; y (2) Copolímeros segmentados de siloxano-urea, I. Yilgor, J.E. McGrath, Polymer Bulletin 8, 535-550, 1982. Sin embargo, los polímeros de bloques obtenidos según estas publicaciones tienen solamente grupos reticulables terminales, que restringen su capacidad para reticularse y dar lugar a una estructura polimérica.

Además, en el documento WO 2006/010486 A1 se describe copolímeros de polisiloxano-urea reticulables, un método para la producción de estos materiales, su vulcanización, por ejemplo por acción de la humedad y su utilización en diversas aplicaciones.

En el documento WO 2006/021371 A1 se describen copolímeros de bloques de organopolisiloxano-poliurea reticulables por radiación, métodos de obtención de estos polímeros y modo de utilización de los mismos.

Resumen de la invención La presente invención proporciona un método de obtención de un polímero basado en organosilicio-poliurea, capaz de autorreticular en condiciones de humedad, que puede presentarse en forma de sol con un disolvente orgánico y que puede reticular a temperatura ambiente (en torno a 25º C) .

La presente invención proporciona también un elastómero obtenido por reticulación del polímero basado en organosilicio-poliurea, que se obtiene por el método de la invención, que cumple los requisitos del uso práctico con respecto a la resistencia a temperaturas elevadas y bajas, resistencia a los disolventes y propiedades mecánicas (resistencia a la tracción) .

La presente invención proporciona también el uso de los polímeros basados en organosilicio-poliurea obtenidos por el método de la invención y los elastómeros obtenidos a partir de ellos en los ámbitos de los adhesivos, selladores, juntas de estanqueidad, capas intermedias y recubrimientos (pinturas) .

El término “autorreticulante” se emplea aquí para indicar que el polímero en cuestión es capaz de reticular en 2

presencia de la humedad ambiental, sin necesidad de añadirle un agente reticulante adicional.

El término “polímero base” se emplea aquí para indicar el polímero que puede someterse a una reticulación posterior para formar un producto polimérico final.

El término “elástico” se emplea aquí para que el polímero en cuestión puede deformarse en consonancia (puede someterse a cizallamiento, compresión o alargamiento) por acción de una fuerza externa y puede recuperar rápidamente la longitud o la forma originales en casi su totalidad después de que la fuerza externa deja de actuar.

El término “componentes reactivos para formar el polímero base” indica todas las sustancias reactivas que intervienen en la obtención de los polímeros basados en organosilicio-poliurea, incluido el componente catalizador (si lo hubiera) .

Con la presente invención se proporciona un método de obtención de un polímero base de organosilicio-poliurea 15 capaz de reticular en condiciones de humedad, que se caracteriza por la fórmula siguiente:

en la que:

m, n son en cada caso un número entero de 1 a 750; Q'= CO-NR-Q-NR-CO, en el que: Q es un resto divalente elegido entre un resto arileno C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alquileno C1-C20, un resto cicloalquileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R es hidrógeno o un resto alquilo C1-C12; R1 se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; Y se ajusta a una estructura:

en las que:

Ra y Rb se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C16, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y es un número de 0 a 3; Rc es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; Rd es un enlace directo, o un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y Re se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto alquilo C1-C12 que contiene imino, un resto arilo C6-C20

que contiene imino, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; D se ajusta a la estructura:

en la que:

x es un número comprendido entre 1 y 2000; U es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto iminoalquilo C1-C12 o poliiminoalquilo, un resto cicloalquileno C6-C20, un resto iminocicloalquilo C6-C20, un resto arileno o arilenoamino C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno o iminoarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R2 y R3 se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C16 y combinaciones de los mismos; X se elige entre H, OCN-Q-NRCO-, HNR1D-NR1-Q'- y E-Q'-, en los que R, D, R1, Q y Q' tienen los significados definidos anteriormente; Z se elige entre -Y-X, -NR1-D-NR1X y E, en los que Y, X, R1 y D tienen los significados definidos anteriormente; en los que el anterior E es un resto de monómero de monoamina o un resto de un agente de bloqueo terminal de monoimino-silano, el resto del... [Seguir leyendo]

1. Un método de obtención de un polímero base de organosilicio-poliurea capaz de autorreticularse en presencia de humedad, que se caracteriza por la fórmula siguiente:

en la que:

m, n son en cada caso un número entero de 1 a 750; Q'= CO-NR-Q-NR-CO, en el que: Q es un resto divalente elegido entre un resto arileno C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alquileno C1-C20, un resto cicloalquileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R es hidrógeno o un resto alquilo C1-C12; R1 se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; Y se ajusta a una estructura:

en las que:

Ra y Rb se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C16, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y es un número de 0 a 3; Rc es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; Rd es un enlace directo, o un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto alquileno C1-C12 que contiene imino, un resto arileno C6-C20 que contiene imino, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos; y Re se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto alquilo C1-C12 que contiene imino, un resto arilo C6-C20

que contiene imino, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; D se ajusta a la estructura:

en la que:

x es un número comprendido entre 1 y 2000; U es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto iminoalquilo C1-C12 o poliiminoalquilo, un resto cicloalquileno C6-C20, un resto iminocicloalquilo C6-C20, un resto arileno o arilenoamino C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno o iminoarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R2 y R3 se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C16 y combinaciones de los mismos; X se elige entre H, OCN-Q-NRCO-, HNR1D-NR1-Q'- y E-Q'-, en los que R, D, R1, Q y Q' tienen los significados definidos anteriormente; Z se elige entre -Y-X, -NR1-D-NR1X y E, en los que Y, X, R1 y D tienen los significados definidos anteriormente;

45 en los que el anterior E es un resto de monómero de monoamina o un resto de un agente de bloqueo terminal de monoimino-silano, el resto del monómero de monoamina tiene la fórmula general: -N (Re) Rf, y el resto de un agente de bloqueo terminal de monoimino-silano tiene la fórmula general: -N (Re) -Rg-Si (Ra) y (ORb) 3-y, en la que Re, Ra, Rb e “y” tienen los significados definidos antes; Rf se elige entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; Rg es un resto divalente elegido entre un resto alquileno C1-C12, un resto cicloalquileno C6-C20, un resto arileno C6-C20, un resto aralquileno C6-C20, un resto alcarileno C6-C20 y combinaciones de los mismos, dicho método consiste en los pasos siguientes:

(1) hacer reaccionar un componente poliisocianato A que tiene dos o más grupos funcionales isocianato con un componente polisiloxano B que tiene dos grupos amino o imino, para obtener un prepolímero con los grupos isocianato bloqueados; y

(2) añadir un componente silano C, que tiene dos o más grupos amino, imino, hidrazino, y/o alquilhidrazino y de 0 a 3 grupos alcoxi, y seguir la reacción para obtener los polímeros basados en organosilicio-poliurea.

2. El método reivindicado en la reivindicación 1, en el que el prepolímero obtenido por reacción de los componentes A y B tiene un peso molecular ponderal medio de 2, 9 x 102 a 2, 0 x 105 y un índice de distribución de pesos moleculares de 1 a 3.

3. El método reivindicado en la reivindicación 1, en el que dicho componente poliisocianato A tiene de dos a cuatro grupos funcionales isocianato; y/o dicho componente silano C tiene de dos a cuatro grupos amino, imino, hidrazino, y/o alquilhidrazino y de 0 a 3 grupos alcoxi.

4. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que la reacción se lleva a cabo en solución o en el que la reacción es una reacción en masa sin disolvente.

5. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que el componente poliisocianato A se elige entre los siguientes monómeros, sus oligómeros, sus derivados y mezclas de los mismos, dichos monómeros se eligen entre: diisocianato de difenilmetano, diisocianato de isoforona, diisocianato de hexametileno, diisocianato de diciclohexilmetano, diisocianato de naftaleno, diisocianato de p-fenileno, diisocianato de ciclohexileno, diisocianato de xilileno, diisocianato de tetrametil-m-xilileno, 2, 5 (2, 6) -di (isocianatometil) -biciclo[2.2.1]heptano, diisocianato de norbornano, diisocianato de 4, 4'-metileno-bis-fenilo, diisocianato de tolileno, diisocianato de 1, 6-hexametileno, diisocianato de tetrametil-fenildimetileno, diisocianato de trifenilmetano, diisocianato de metilciclohexilo, triisocianatos y tetraisocianatos y poliisocianatos de polimetilenopolifenilo.

6. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que el componente polisiloxano B que se emplea aquí incluye a los polisiloxanos que tiene dos grupos amino o imino y se ajustan a esta estructura:

en la que:

x y U tienen los significados definidos en la reivindicación 1; R1 se elige entre hidrógeno, un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos; y R2 y R3 se eligen respectivamente entre un resto alquilo C1-C12, un resto cicloalquilo C6-C20, un resto arilo C6-C20, un resto aralquilo C6-C20, un resto alcarilo C6-C20 y combinaciones de los mismos.

7. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que el componente polisiloxano B tiene un peso molecular ponderal medio de 1, 92 x 102 a 1, 0 x 105 y un índice de distribución de pesos moleculares de 1 a 3.

8. El método reivindicado en la reivindicación 6, en el que el componente polisiloxano B se elige entre polidimetilsiloxano con grupos terminales aminopropil-dimetilo, ciclohexilpolimetilfenilsiloxano con grupos terminales aminopropil-dimetilo, polidimetilsiloxano con grupos terminales aminometil-dimetilo, polidimetilsiloxano con grupos terminales aminopropil-dimetoxilo, polidimetilsiloxano con grupos terminales aminometil-dietoxi, polidimetilsiloxano con grupos terminales aminometil-vinilmetoxi, polidimetilsiloxano con grupos terminales etilaminopropil-metiletoxi, polimetilpropilsiloxano con grupos terminales fenilaminopropil-dietoxi, polimetilfenilsiloxano con grupos terminales N-fenilaminopropil-dimetoxi, N-metil-polidimetilsiloxano con grupos terminales aminopropildimetilo y polimetilfenilsiloxano con grupos terminales aminopropil-dimetilo y combinaciones de los mismos.

9. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que el componente silano C es un monómero que se ajusta a la estructura de la siguiente fórmula o mezcla de los mismos:

HN (Re) RdNH-RcSi (Ra) y (ORb) 3-y en la que Ra, Rb, Rc, Rd, Re e “y” tienen los significados definidos en la reivindicación 1.

10. El método reivindicado en la reivindicación 9, en el que el componente silano C se elige entre aminoetilaminopropil-trimetoxi-silano, aminoetilaminopropil-trietoxi-silano, aminoetil-aminopropilmetil-dimetoxi-silano, aminoetil-aminopropilmetil-dietoxisilano, aminoetil-amino-metil-trietoxi-silano, aminoetil-aminometil-metil-dietoxisilano, hexametilenodiamino-metil-trimetoxi-silano, y-diviniltri-aminopropil-trietoxi-silano, y-diviniltriaminopropil-metildietoxi-silano, y-diviniltriaminometil-trietoxi-silano, y-diviniltri-aminometil-metil-dietoxi-silano, hidrazinopropil-trietoxisilano, hidrazinopropil-metil-dietoxi-silano, hidrazinometil-trietoxi-silano, hidrazinometil-trimetoxi-silano, hidrazinometil-metil-dimetoxi-silano, hidrazinometil-metil-dietoxi-silano y mezclas de los mismos.

11. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que se añade al paso (1) o (2) un auxiliar alargador de la cadena que tiene la fórmula general: NH (Re) RdNH (Re) , en la que Rd y Re tienen los significados definidos en la reivindicación 1 y los dos restos Re son iguales o diferentes, en el que opcionalmente la cantidad del alargador de la cadena, referida al peso total de los componentes reactivos para obtener el polímero base, se sitúa entre el 0, 01 y el 10% en peso.

12. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que la cantidad de componente A, referida al peso total de los componentes reactivos para obtener el polímero base, se sitúa entre el 0, 1 y el 60% en peso, y/o en el que la cantidad de componente B, referida al peso total de los componentes reactivos para obtener el polímero base, se sitúa entre el 30 y el 99, 9% en peso y/o en el que la cantidad de componente C, referida al peso total de los componentes reactivos para obtener el polímero base, se sitúa entre el 0, 01 y el 60% en peso.

13. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que la cantidad la proporción entre los componentes A, B y C cumple la condición siguiente: la proporción molar entre el resto isocianato y la suma de todos los restos amino, imino, hidrazino y alquilhidrazino que reaccionan con el poliisocianato es de 0, 5-3:1.

14. El método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones 1-3, en el que el agente que bloquea los grupos terminales se añade en el paso (1) o (2) , cuya cantidad, referida al peso total de los componentes reactivos para obtener el polímero base, se sitúa entre el 0, 01 y el 30% en peso, en el que opcionalmente el agente que bloquea los grupos terminales es un monoamino-silano, que se emplea en una cantidad, referida al componente silano C, comprendida entre el 1 y el 50% en peso.

15. El método reivindicado en la reivindicación 4, que se caracteriza porque se emplea un disolvente para la reacción en solución que se elige entre tetrahidrofurano, tolueno, dimetilformamida, dimetilacetamida, o una mezcla de estos disolventes, en el que opcionalmente la mezcla de disolventes está formada por una proporción de tetrahidrofurano:tolueno = 3-0, 1:1, o de tetrahidrofurano:dimetilformamida = 4-0, 2:1, o de tetrahidrofurano:dimetilacetamida = 4-0, 3:1.

16. El método reivindicado en la reivindicación 4, en el que la reacción en masa se lleva a cabo en una extrusora mezcladora o en una pistola extrusora.

17. El método reivindicado en la reivindicación 4, en el que la temperatura de reacción, en la polimerización en solución, se sitúa entre 0 y 50º C y tiene que mantenerse por debajo del punto de ebullición de la solución o la temperatura de reacción, en la polimerización en masa, se sitúa entre 0 y 250º C.

18. El método reivindicado en la reivindicación 4, en el que la presión de reacción en la polimerización en solución se sitúa entre 0, 1 y 5 atm o la presión de reacción en la polimerización en masa se sitúa entre 0, 01 y 10 atm.

19. El método reivindicado en la reivindicación 4, en el que el tiempo de reacción, para la polimerización en solución, se sitúa entre 1 y 24 horas, en el que opcionalmente el tiempo de reacción de los pasos (1) y (2) se sitúa respectivamente entre 0, 5 y 10 horas y entre 0, 5 y 14 horas.

20. El método reivindicado en la reivindicación 4, en el que el tiempo de reacción, para la polimerización en masa, se sitúa entre 0, 02 y 10 horas, en el que opcionalmente el tiempo de reacción de los pasos (1) y (2) se sitúa respectivamente entre 0, 01 y 4 horas y entre 0, 01 y 6 horas.

21. Un elastómero de organosilicio-poliurea obtenido por reticulación del polímero base obtenido según el un método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 20.

22. El elastómero reivindicado en la reivindicación 21, en el que la reticulación se lleva a cabo en presencia de la

humedad ambiental y/o en el que la reticulación se promueve con la adición de agua en una cantidad del 0, 01 al 1 % en peso del polímero base.

23. El elastómero reivindicado en la reivindicación 21, en el que la reticulación se lleva a cabo en presencia de un agente reticulante silano que tiene dos o más grupos alcoxi grupos, la cantidad de dicho agente reticulante silano, referida al peso total del polímero base, se sitúa entre el 0, 01 y el 30% en peso, en el que opcionalmente agente reticulante silano se elige entre el ortosilicato de etilo, metiltrimetoxi-silano, aminoetil-aminopropil-metil-dietoxi-silano, N-anilinometiltrimetoxi-silano y mezclas de los mismos.

24. El elastómero reivindicado en la reivindicación 21, en el que la reticulación se lleva a cabo en presencia de una cantidad catalíticamente eficaz de un catalizador, en el que opcionalmente el catalizador se elige entre ácido sulfúrico, ácido clorhídrico, ácido acético, ácido oxálico, ácido tricloroacético, ácido metilbencenosulfónico, trietilamina, trietilenodiamina, aminas terciarias, aminas sililadas, caprilato estanoso, dilaurato de dibutilo, alquilestaño, alquil-aluminio, alcóxidos, silóxidos, óxido vanádico, óxido de tetraisopropil-circonio y mezclas de los mismos.

25. El elastómero reivindicado en la reivindicación 21, en el que la reticulación se lleva a cabo a temperatura ambiente o en el que la reticulación se lleva a cabo por calentamiento, la temperatura de calentamiento se sitúa entre 25 y 250º C.

26. El elastómero reivindicado en la reivindicación 21, que contiene además una carga de relleno sólida, elegida entre sílice, óxido de titanio, óxido de hierro, carbonato cálcico, negro de humo y mezclas de los mismos en cualquier proporción, en el que opcionalmente la cantidad de la carga de relleno, referida al peso total del elastómero, se sitúa entre el 0, 1 y el 60% en peso.

27. Uso de un polímero base de organosilicio-poliurea obtenido por el método reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones de 1 a 20 para la fabricación de selladores, adhesivos, juntas de estanqueidad, capas intermedias y recubrimientos (pinturas) .

28. Uso de un elastómero reivindicado en una cualquiera de las reivindicaciones de 21 a 26 para selladores, adhesivos, juntas de estanqueidad, capas intermedias y recubrimientos (pinturas) .