SOLUCION ACUOSA Y METODO PARA ELIMINAR CONTAMINANTES IONICOS DE LA SUPERFICIE DE UNA PIEZA DE TRABAJO.
Un método para eliminar contaminantes iónicos de la superficie de una pieza de trabajo,
teniendo dicha superficie una máscara de resistencia a la soldadura y una capa superior superficial, comprendiendo el método tratar la pieza de trabajo con una solución acuosa, conteniendo la solución: #a) por lo menos un primer compuesto elegido del grupo constituido por compuestos de etanolamina y/o sus sales; #b) por lo menos un segundo compuesto elegido del grupo constituido por disolventes alcohólicos; y #c) por lo menos un tercer compuesto elegido del grupo constituido por compuestos de guanidina y/o sus sales.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ERASMUSSTRASSE 20,10553 BERLIN.
Inventor/es: BECK, THOMAS, SCHREIER, HANS-JURGEN, STEINBERGER,GERHARD, KUBITZA,IRENE.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 17 de Diciembre de 2008.
Clasificación PCT:
- C11D11/00 QUIMICA; METALURGIA. › C11 ACEITES, GRASAS, MATERIAS GRASAS O CERAS ANIMALES O VEGETALES; SUS ACIDOS GRASOS; DETERGENTES; VELAS. › C11D COMPOSICIONES DETERGENTES; UTILIZACION DE UNA SOLA SUSTANCIA COMO DETERGENTE; JABON O SU FABRICACION; JABONES DE RESINA; RECUPERACION DE LA GLICERINA. › Métodos particulares para la preparación de composiciones que contienen mezclas de detergentes.
- C11D7/26 C11D […] › C11D 7/00 Composiciones de detergentes basadas esencialmente en compuestos no tensioactivos. › que contienen oxígeno.
- C11D7/32 C11D 7/00 […] › que contienen nitrógeno.
- C11D7/50 C11D 7/00 […] › Solventes.
- G03F7/42 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Eliminación de reservas o agentes a este efecto.
- H01L21/306 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Tratamiento químico o eléctrico, p. ej. grabación electrolítica (para formar capas aislantes H01L 21/31; postratamiento de capas aislantes H01L 21/3105).
- H05K3/26 H […] › H05 TECNICAS ELECTRICAS NO PREVISTAS EN OTRO LUGAR. › H05K CIRCUITOS IMPRESOS; ENCAPSULADOS O DETALLES DE LA CONSTRUCCIÓN DE APARATOS ELECTRICOS; FABRICACION DE CONJUNTOS DE COMPONENTES ELECTRICOS. › H05K 3/00 Aparatos o procedimientos para la fabricación de circuitos impresos. › Limpieza o pulido del diseño conductor.
Patentes similares o relacionadas:
Compuestos de tetrafluoroborato, composiciones y métodos de uso relacionados, del 29 de Abril de 2020, de Vitech International, Inc: Un método para eliminar contaminantes de superficie, comprendiendo dicho método: proporcionar una composición que comprende la sal de tetrafluoroborato de urea; y […]
Composición acuosa que contiene metal oligodinámico, del 29 de Abril de 2020, de UNILEVER NV: Composición acuosa que tiene una viscosidad de desde 1 hasta 100 cP a 20ºC, comprendiendo dicha composición: (i) un metal oligodinámico o iones del mismo; (ii) […]
Detergente lavaobjetos a baja temperatura libre de sustancias cáusticas para reducir la acumulación de incrustaciones, del 4 de Marzo de 2020, de Ecolab USA Inc: Una composición detergente libre de sustancias cáusticas que comprende: de 0,1-15 % en peso de un aminocarboxilato; de 0,1-15 % en peso de un polímero […]
Detergente de lavado de vajilla de baja temperatura exento de fósforo para reducir la acumulación de incrustaciones, del 2 de Octubre de 2019, de Ecolab USA Inc: Una composición de detergente exenta de fósforo que comprende: una cantidad del 2 % al 15 %, en peso, de un aminocarboxilato, en donde el aminocarboxilato es […]
Agente de limpieza, del 7 de Agosto de 2019, de HENKEL AG & CO. KGAA: Agente de limpieza en particular un agente para el lavado de la vajilla, preferentemente agente para el lavado de la vajilla a máquina previamente […]
Método de lavado de vajilla, del 31 de Julio de 2019, de Ecolab USA Inc: Un método de limpieza de un artículo en un lavaplatos que comprende:
aplicar directamente al artículo una primera composición de limpieza concentrada que comprende:
[…]
Formulaciones acuosas, su fabricación y uso, del 14 de Junio de 2019, de BASF SE: Formulación acuosa que contiene (A) al menos un pigmento o al menos un colorante, (B) al menos un dispersante seleccionado de entre […]
Eliminación sinérgica de manchas mediante una nueva combinación de agentes quelantes, del 5 de Junio de 2019, de Ecolab USA Inc: Una composición de detergente concentrada que comprende carbonato de metal alcalino, ácido metilglicinadiacético, ácido glutámico-N,N-diacético, y tripolifosfato […]