TRANSFORMACIONES DE CRISTAL QUE DESPRENDEN POCO POLVO DE 2,2'-METILENBIS(4-(1,1,3,3-TETRAMETILBUTIL)-6-BENZOTRIAZOLILFENOL) Y MEZCLAS DE LAS MISMAS, PROCEDIMIENTO PARA PREPARARLAS Y ABSORBEDOR DE LUZ ULTRAVIOLETA QUE LAS USA.
Una transformación de cristal de tipo I de 2,2''-metilenbis[4-(1,
1,3,3-tetrametilbutil)-6-benzotriazolilfenol] cristalino que desprende poco polvo de fórmula (1) (Ver fórmula) que presenta picos de difracción a ángulos de difracción (2theta ± 0,1º) de 7,1º, 8,6º, 14,3º, 16,1º, 18,1º y 23,0º en análisis de difracción de rayos X en polvo con radiación Cu-Kalfa, que tiene un grado de compactación de 35 o inferior en la prueba de polvo.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CHEMIPRO KASEI KAISHA, LIMITED.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 83, KYOMACHI, CHUO-KU,KOUBE-SHI, HYOGO 650-0034.
Inventor/es: FUKUOKA,NAOHIKO CHEMIPRO KASEI KAISHA,LIMITED, OHMAE,YOSHINORI C/O CHEMIPRO KASEI KAISHA,LTD, KANEKO,YUICHI C/O CHEMIPRO KASEI KAISHA,LIMITED, NISHIMATSU,MASAYUKI CHEMIPRO KASEI KAISHA,LTD.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 11 de Junio de 2008.
Clasificación PCT:
- C07D249/20 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › C07D 249/00 Compuestos heterocíclicos que contienen ciclos de cinco miembros que tienen tres átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo. › con radicales arilo unidos directamente en posición 2.
Patentes similares o relacionadas:
Procedimiento para la preparación de compuestos de 2-hidroxifenilalquenilbenzotriazol y procedimiento para la preparación de compuestos siloxano que contienen la función 2-hidroxifenilbenzotriazol, del 23 de Marzo de 2016, de L'OREAL: Procedimiento para preparar un compuesto de 2-hidroxifenilalquenilbenzotriazol, caracterizado porque comprende al menos las dos siguientes etapas químicas: […]
Absorbedores de luz UV/visible para materiales para lentes oftálmicas, del 19 de Agosto de 2015, de NOVARTIS AG: Un compuesto de benzotriazol de fórmula**Fórmula**
en la que
X ≥ alquenilo C3-C4, alquilo C3-C4, CH2CH2CH2SCH2CH2 o CH2CH2CH2SCH2CH2CH2;
Y ≥ […]
Procedimiento para la preparación de compuestos de 2-hidroxifenilbenzotriazol y siloxano, del 27 de Mayo de 2015, de L'OREAL: Procedimiento para la preparación de un compuesto de siloxano que comprende una función 2- hidroxifenilbenzotriazol, que comprende al menos […]
Preparación de estabilizadores de bajo contenido en polvo, del 18 de Junio de 2014, de BASF SE: Procedimiento para la preparación de un estabilizador de bajo contenido en polvo, que comprende extruir un fundido subenfriado que consiste básicamente en uno […]
Procedimiento de alquilación y nuevos hidroxifenilbenzotriazoles, del 8 de Agosto de 2012, de DSM IP ASSETS B.V.: Una composición cosmética o dermatológica protectora de la luz que comprende un compuesto de la fórmulageneral I
en la que R1 es alquilo; R2, R3, R4, […]
DERIVADOS DE ALFA, ALFA'-DIHIDROXICETONA Y SU USO COMO FILTROS UV, del 22 de Marzo de 2011, de MERCK PATENT GMBH: Compuesto de la fórmula: donde - R1, R2 son iguales o diferentes y representan H, metilo, etilo, alquilo, fenilo o arilo, - donde se excluye el […]
PARTÍCULAS DE ÓXIDO METÁLICO, RECUBIERTAS CON UN CROMÓFORO, del 24 de Enero de 2011, de DSM IP ASSETS B.V.: Procedimiento para producir nuevas partículas de óxidos metálicos, recubiertas, en donde, las partículas de óxidos metálicos, se recubren con por […]
ABSORBENTES DE UV BENZOTRIAZOL RESISTENTE A LA EFLORESCENCIA Y COMPOSICIONES ESTABILIZADAS CON ESTOS ABSORBEDORES., del 1 de Marzo de 2006, de CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.: Un compuesto de **fórmula**, en donde G1 y G2' son independientemente hidrógeno o halógeno, G2 y G2' son independientemente hidrógeno, halógeno, […]