OJIVA GENERADORA DE FRAGMENTOS PARA COMBATIR OBJETIVOS TECNICOS SEMIDUROS.
Ojiva generadora de fragmentos para combatir objetivos técnicos semiduros con una carga explosiva (S) rodeada por una envuelta (1) no estructurada formadora de fragmentos,
con una envoltura interior (3) que está dispuesta entre la envoltura formadora de fragmentos (1) y la carga explosiva (S), que está provista en su lado exterior, dirigido hacia la envoltura formadora de fragmentos (1), con una estructura entallada (4) y que se puede cambiar de posición, modificando la actuación, con respecto a la envoltura formadora de fragmentos (1), caracterizada - porque la envoltura interior (3) está provista con una estructura entallada en su lado exterior, dirigido hacia la envoltura (1) formadora de fragmentos, en una parte en forma de anillo o de sector (3b, 3c), - porque la envoltura interior (3) con su parte estructurada entallada o con sus partes estructuradas entalladas se puede cambiar de posición, modificando la actuación, sobre la superficie de la carga explosiva (S) y - porque en una parte (3a) de la envoltura interior está contenida una capa de amortiguación.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: TDW GESELLSCHAFT FUR VERTEIDIGUNGSTECHNISCHE WIRKSYSTEME MBH.
Nacionalidad solicitante: Alemania.
Dirección: ,86523 SCHROBENHAUSEN.
Inventor/es: ARNOLD, WERNER.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 17 de Mayo de 2001.
Fecha Concesión Europea: 16 de Noviembre de 2005.
Clasificación Internacional de Patentes:
- F42B12/22 MECANICA; ILUMINACION; CALEFACCION; ARMAMENTO; VOLADURA. › F42 MUNICIONES; VOLADURA. › F42B CARGAS EXPLOSIVAS, p. ej. PARA VOLADURA; FUEGOS ARTIFICIALES; MUNICIONES (composiciones explosivas C06B; espoletas para municiones F42C; voladura F42D). › F42B 12/00 Proyectiles o minas caracterizados por la carga militar, el efecto buscado o el material (F42B 6/00, F42B 10/00, F42B 14/00 tienen prioridad; para entrenamiento o instrucción F42B 8/12, F42B 8/28; aspectos de autopropulsión o guiado F42B 15/00). › con estructura que prevé su fragmentación.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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