PROCESO PARA HIDROGENIZAR DINITRILOS EN AMINONITRILOS.
Un método de formación de una película laminada (4) que comprende una hoja metálica y una capa polimérica en cualquier lado de la hoja con al menos una vejiga cuya base porta marcas salientes para que se moldeen en un cuerpo moldeado en su interior,
cuyo método comprende el formado en frío de la vejiga haciendo avanzar un botador (2) en dirección transversal con respecto al plano de la película (4) hacía y hasta el acoplamiento con una platina (12) portadora de un punzón (14) para la formación de marcas en la misma, estando formada la cara frontal (10) del botador (2) con una matriz para las marcas, complementaria del punzón (14), en el que, entre la periferia de la cara frontal (10) del botador (2) y la película laminada (4) se establece un contacto de fricción superior, de tal manera que dicho movimiento de avance del botador (2) estire la película (4) predominantemente desde alrededor de la vejiga minimizando con ello el estiramiento de la película (4) situada en la base de la vejiga, Caracterizado en que las marcas se crean simultáneamente con la propia vejiga en el único paso del botador (2) para la formación de la vejiga.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 1007 MARKET STREET,WILMINGTON DELAWARE 19898.
Inventor/es: IONKIN, ALEX SERGEY, ZIEMECKI, STANISLAW, BODGAN, HARPER, MARK, J., KOCH, THEODORE, AUGUR, BRYNDZA, HENRY, EDWARD.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 25 de Abril de 2000.
Fecha Concesión Europea: 25 de Agosto de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07C253/00 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › Preparación de nitrilos de ácidos carboxílicos (de cianógeno o sus compuestos C01C 3/00).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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