LASER EXCIMERO DE BANDA DE EMISION ESTRECHA CON GAS ADITIVO.
Láser excímero comprendiendo una cámara del láser (8) compuesta de materiales compatibles con el flúor y conteniendo:
(1) dos electrodos alargados (6); (2) por lo menos un preionizador; y (3) un gas láser caracterizado porque el gas láser define una presión total y comprende un primer gas noble, flúor, un gas regulador y un aditivo de estabilización de menos de 100 ppm; dicho aditivo de estabilización escogiéndose de un grupo que consta de: oxígeno en menos de 10 ppm y una cantidad de un segundo gas noble el cual es más pesado que dicho primer gas noble.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CYMER, INC.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 16750 VIA DEL CAMPO COURT,SAN DIEGO, CA 92127-1712.
Inventor/es: HOFMANN, THOMAS, ISHIHARA, TOSHIHIKO, DAS, PALASH, P., ERSHOV, ALEXANDER I.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 25 de Septiembre de 1998.
Fecha Concesión Europea: 11 de Agosto de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01S3/225 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01S DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN EL PROCESO DE AMPLIFICACION DE LUZ MEDIANTE EMISION ESTIMULADA DE RADIACIÓN [LASER] PARA AMPLIFICAR O GENERAR LUZ; DISPOSITIVOS QUE UTILIZAN EMISION ESTIMULADA DE RADIACION ELECTROMAGNETICA EN RANGOS DE ONDA DISTINTOS DEL ÓPTICO. › H01S 3/00 Láseres, es decir, dispositivos que utilizan la emisión estimulada de la radiación electromagnética en el rango de infrarrojos, visible o ultravioleta (láseres de semiconductores H01S 5/00). › incluyendo un "excimer" o "exciplex".
Países PCT: Bélgica, Alemania, España, Francia, Reino Unido, Italia, Países Bajos, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
![LASER EXCIMERO DE BANDA DE EMISION ESTRECHA CON GAS ADITIVO.](https://patentados.com/img/2005/laser-excimero-de-banda-de-emision-estrecha-con-gas-aditivo.png)
Patentes similares o relacionadas:
SISTEMA DE LONGITUD DE ONDA PARA UN LASER EXCIMER., del 16 de Diciembre de 2003, de CYMER, INC.: Un sistema de longitud de onda para medir y controlar la longitud de onda de un láser de banda estrecha. El sistema incluye un medidor de onda […]
LASER DE BANDA MUY ESTRECHA CON CAVIDAD DE RESONANCIA INESTABLE., del 1 de Diciembre de 2003, de CYMER, INC.: Láser de banda muy estrecha. El ancho de banda muy estrecho se logra creando una cavidad de resonancia inestable que usa un espejo cilíndrico, parcialmente reflector […]
UN METODO PARA PROLONGAR LA VIDA DEL GAS DE LASERES EXCIMEROS., del 1 de Noviembre de 1994, de L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES: UN METODO PARA PROLONGAR LA VIDA DEL GAS DE UN LASER EXCIMERO SUPRIMIENDO LA IMPUREZA DEL CF4, QUE COMPRENDE: A) LA REACCION DEL CF4, UNA IMPUREZA INDESEABLE QUE SE […]