COMPUESTOS DE INDOLINOESPIROPIRANO Y PROCEDIMIENTO DE PREPARACION ASOCIADO.
Un compuesto representado por la fórmula: en la que R1 es alquilo de C1-C18,
alilo, fenilo, fenalquilo(C1-C4), o alcoxicarbonil(C1-C4)alquilo(C1-C4) , R2 y R3 son cada uno de ellos independientemente alquilo de C1- C4, fenilo, bencilo o se combinan para formar un anillo cíclico que es un anillo de ciclohexilo, norbornilo o adamatilo, R4 es hidrógeno, hidroxi, triclorometilo, trifluorometilo, formilo, alquilo de C1-C4, halógeno, alcoxi de C1-C4, nitro, ciano, monohaloalquilo de C1-C4, alcoxicarbonilo de C1-C4, o un grupo aromático que comparte los dos átomos de carbono adyacentes con la porción benceno del anillo de pirano para formar un anillo aromático condensado y x equivale a 1, 2 ó 3.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: JOHNSON & JOHNSON VISION CARE, INC..
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 7500 CENTURION PARKWAY, SUITE 100,JACKSONVILLE, FL 32256.
Inventor/es: CARREIRA, ERICK, M., WEILI, ZHAO.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 24 de Mayo de 2001.
Fecha Concesión Europea: 29 de Diciembre de 2004.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07D491/00 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07D COMPUESTOS HETEROCICLICOS (Compuestos macromoleculares C08). › Compuestos heterocíclicos que contienen en el sistema cíclico condensado, a la vez uno o más ciclos que tienen átomos de oxígeno como únicos heteroátomos del ciclo, y uno o más ciclos que tienen átomos de nitrógeno como únicos heteroátomos del ciclo, no previstos en los grupos C07D 451/00 - C07D 459/00, C07D 463/00, C07D 477/00 ó C07D 489/00.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Oficina Europea de Patentes, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Mozambique, Federación de Rusia, Sudán, Sierra Leona, Tayikistán, Turkmenistán, República Unida de Tanzania, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Guinea-Bissau, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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