PLACA COMPRESIBLE PARA IMPRESION FLEXOGRAFICA Y PROCEDIMIENTO DE OBTENCION.
Placa de impresión flexográfica compresible, destinada a posicionarse sobre un cilindro de soporte de una máquina de imprimir,
comprendiendo esta placa (1, 2, 3, 4) una capa de fotopolímero (10, 20, 30, 40) y una capa compresible (11, 21, 31, 41) de un material que presenta huecos que forman entre el 10 y el 60% en volumen de esta capa compresible, incluyendo el material al menos el 70% en peso de un polímero o de una mezcla de polímeros que es químicamente compatible con el fotopolímero.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MACDERMID GRAPHIC ARTS S.A.
Nacionalidad solicitante: Francia.
Dirección: RUE DE L'INDUSTRIE,68700 CERNAY.
Inventor/es: KUCZYNSKI, JERZY, SCHANEN, MICHEL, TEIXERA, LAURENT, RICH, GERARD, SERAIN, HUGUES.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 27 de Diciembre de 2000.
Fecha Concesión Europea: 13 de Agosto de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- B41N1/12 TECNICAS INDUSTRIALES DIVERSAS; TRANSPORTES. › B41 IMPRENTA; MAQUINAS COMPONEDORAS DE LINEAS; MAQUINAS DE ESCRIBIR; SELLOS. › B41N CLICHES O PLACAS DE IMPRESION (materiales fotosensibles G03 ); MATERIALES PARA SUPERFICIES UTILIZADAS EN LA IMPRESION PARA IMPRIMIR, ENTINTAR, MOJAR O SIMILAR; PREPARACION DE TALES SUPERFICIES PARA SU EMPLEO O SU CONSERVACION. › B41N 1/00 Clichés o placas de impresión; Materiales a este efecto. › en otra materia diferente a la piedra o al metal.
- G03F7/09 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › caracterizados por detalles de estructura, p. ej. soportes, capas auxiliares (soportes para placas de impresión en general B41N).
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Finlandia, Chipre, Oficina Europea de Patentes.
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