DIBUJO DE SUPERFICIE CON REJILLAS DE DIFRACCION SUPERPUESTAS.
Dibujo de superficie (1) de elementos dispuesto formando mosaico (2 a 5),
de los que al menos un elemento de fondo (4) y un elemento de imagen (2) presentan rejillas de difracción B microscópicamente finas que difractan la luz visible (29), y comprenden una superposición de por lo menos dos estructuras en relieve diferentes F1, F2, y elementos de superficie (3) y elementos parciales (5) contienen bien sea las estructuras en relieve microscópicamente finas que difractan la luz visible (29) o consisten en superficies reflectantes o dispersantes, caracterizado, por una primera rejilla de difracción BB, cuya estructura en relieve es descrita por la superposición de por lo menos dos estructuras en relieve diferentes F1, F2 y por un desfase ?öB, en el elemento de imagen (2) y una segunda rejilla de difracción BH, cuya estructura en relieve es descrita por la superposición de las estructuras en relieve F1, F2, y por un desfase ?öH, están colocadas en el elemento de fondo (4), porque la estructura en relieve de la rejilla de difracción BB y BH es una suma de las estructuras en relieve F1+F2, siendo F1 la primera estructura en relieve con una frecuencia espacial f1 y F2 la segunda estructura en relieve con una frecuencia espacial f2 y ?ö un desfase relativo de la segunda estructura en relieve F2 con respecto a la primera estructura en relieve F1, y la frecuencia espacial de la rejilla de difracción BB y la de la rejilla de difracción BH son iguales a la más pequeña de ambas frecuencias espaciales f1 y f2, porque la relación VF de la segunda a la primera frecuencia espacial f2/f1 presenta un valor del orden de 1, 5=VF=3, porque los vectores de rejilla de la primera rejilla de difracción BB en el elemento de imagen (2) y de la segunda rejilla de difracción BH en el elemento de fondo (4), así como los vectores de rejilla de ambas estructuras en relieve F1, F2 se orientan de forma sensiblemente paralela o antiparalela a un eje marcado (6), y porque la primera rejilla de difracción BB y la segunda rejilla de difracción BH únicamente se diferencian por el desfase relativo ?ö de la segunda estructura en relieve F2 empleada para la superposición con la primera estructura en relieve F1.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: OVD KINEGRAM AG.
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: GUBELSTR.22,6301 ZUG.
Inventor/es: STAUB, RENE, TOMPKIN, WAYNE, ROBERT.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 21 de Enero de 1999.
Fecha Concesión Europea: 9 de Abril de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G02B5/18 FISICA. › G02 OPTICA. › G02B ELEMENTOS, SISTEMAS O APARATOS OPTICOS (G02F tiene prioridad; elementos ópticos especialmente adaptados para ser utilizados en los dispositivos o sistemas de iluminación F21V 1/00 - F21V 13/00; instrumentos de medida, ver la subclase correspondiente de G01, p. ej. telémetros ópticos G01C; ensayos de los elementos, sistemas o aparatos ópticos G01M 11/00; gafas G02C; aparatos o disposiciones para tomar fotografías, para proyectarlas o para verlas G03B; lentes acústicas G10K 11/30; "óptica" electrónica e iónica H01J; "óptica" de rayos X H01J, H05G 1/00; elementos ópticos combinados estructuralmente con tubos de descarga eléctrica H01J 5/16, H01J 29/89, H01J 37/22; "óptica" de microondas H01Q; combinación de elementos ópticos con receptores de televisión H04N 5/72; sistemas o disposiciones ópticas en los sistemas de televisión en colores H04N 9/00; disposiciones para la calefacción especialmente adaptadas a superficies transparentes o reflectoras H05B 3/84). › G02B 5/00 Elementos ópticos distintos de las lentes (guías de luz G02B 6/00; elementos ópticos lógicos G02F 3/00). › Rejillas de difracción.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Países Bajos, Suecia, Finlandia, Oficina Europea de Patentes.
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