COPUESTOS DE ANTRAQUINONA.

UNA COMPOSICION COLORANTE DE UNA RESINA FOTOSENSIBLE PARA SU USO EN UN FILTRO DE COLOR QUE CONTIENE UNA RESINA Y UN COLORANTE QUE ES UN MATERIAL PARA LA FORMACION DE UNA CAPA COLOREADA DEL FILTRO DE COLOR,

CARACTERIZADA PORQUE EL COLORANTE SE FABRICA CON UN MIEMBRO SELECCIONADO ENTRE LA CLASE QUE CONSISTE EN UN GRUPO (C) SOLO (EL CUAL INCLUYE SOLO COMPUESTOS DE FTALOCIANINA REPRESENTADOS POR LA FORMULA (1) SIGUIENTE Y QUE TIENE ENTRE UNO Y OCHO GRUPO(S) ALCOXI NO SUSTITUIDOS O SUSTITUIDOS Y/O GRUPO(S) FENOXI NO SUSTITUIDOS Y SUSTITUIDOS EN LAS POSICIONES 2, 3, 6, 7, 10, 11, 14 Y 15 DEL MISMO), UNA COMBINACION DE GRUPOS (A) + (B), UNA COMBINACION DE GRUPOS (A) + (C) ,UNA COMBINACION DE GRUPOS (B) + (C) Y UNA COMBINACION DE GRUPOS (A) + (B) + (C) , DONDE (A) REPRESENTA UN GRUPO DE COMPUESTOS DE QUINIZARINA QUE TIENE UN ESQUELETO DE QUINIZARINA EN EL CUAL DE UNA A TRES DE LAS POSICIONES 5, 6, 7 Y 8 Y AL MENOS LAS POSICIONES 6 Y 7 ESTAN CADA UNO DE ELLAS OCUPADA CON UN GRUPO AMINO SECUNDARIO Y LAS RESTANTES DE LAS POSICIONES 5, 6, 7 Y 8 ESTAN OCUPADAS CADA UNA DE ELLAS CON AL MENOS UN GRUPO SELECCIONADO ENTRE LA CLASE QUE CONSISTE EN ATOMO DE HIDROGENO, ATOMO DE HALOGENO, UN GRUPO ALCOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO, UN GRUPO FENOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO, UN GRUPO TIOALQUILO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y UN GRUPO TIOFENILO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO, (B) REPRESENTA UN GRUPO DE COMPUESTOS ANTRAQUINONA QUE TIENEN UN ESQUELETO DE ANTRAQUINONA EN EL CUAL DE UNO A TRES DE LAS POSICIONES 1, 2, 3 Y 4 ESTAN OCUPADAS CADA UNA DE ELLAS CON AL MENOS UN GRUPO SELECCIONADO ENTRE LA CLASE QUE CONSISTE EN GRUPO AMINO SECUNDARIO, UN GRUPO ALCOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO, UN GRUPO FENOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO, UN GRUPO TIOALQUILO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y UN GRUPO TIOFENILO NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y LAS POSICIONES RESTANTES 1, 2, 3 Y 4 ESTAN OCUPADAS CADA UNA DE ELLAS CON UN ATOMO DE HIDROGENO O UN ATOMO DE HALOGENO Y (C) REPRESENTA UN GRUPO DE COMPUESTOS QUE TIENEN UN ESQUELETO DE FTALOCIANINA REPRESENTADO POR LA SIGUIENTE FORMULA GENERAL (1) EN LA QUE M REPRESENTA UN METAL DIVALENTE O UN METAL TETRAVALENTE QUE CONTIENE UN LIGANDO EN EL CUAL DE UNA A OCHO DE LAS 16 POSICIONES DE LOS ANILLOS DE BENCENO QUE PERIMITEN LA SUSTITUCION ESTAN OCUPADAS CADA UNA DE ELLAS CON UN GRUPO ALCOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y/O UN GRUPO FENOXI NO SUSTITUIDO O SUSTITUIDO Y EL RESTO DE LAS POSICIONES ESTAN OCUPADAS CADA UNA DE ELLAS CON UN ATOMO DE HALOGENO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: NIPPON SHOKUBAI CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 1-1, KORAIBASHI, 4-CHOME,CHUO-KU, OSAKA-SHI, OSAKA-FU 5.

Inventor/es: MASUDA, KIYOSHI, AOKI, MINORU, KAIEDA, OSAMU.

Fecha de Publicación: 16 de Noviembre de 2004.

Fecha Concesión Europea: 16 de Junio de 2004.

Clasificación Internacional de Patentes:

C07C46/00 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › Preparación de quinonas.
C07C50/34 C07C […] › C07C 50/00 Quinonas (para los métidos de quinonas, ver las cetonas insaturadas en las que un grupo cetona forma parte de un ciclo). › formando parte la estructura quinoide de un sistema cíclico condensado de tres ciclos.
G03F7/00 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).

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