TRANSISTOR CON EFECTO DE CAMPO.

EN UN SUSTRATO INP SEMI - AISLANTE ADULTERADO CON HIERRO, UNA PRIMERA CAPA DE SEPARACION DE IN 0,

52 AL 0,48 AS NO ADULTERADO, UNA SEGUNDA CAPA DE SEPARACION EN UNA ESTRUCTURA RETICULAR SUPERPUESTA DE IN 0,52 AL 0,48 AS NO ADULTERADO Y AL 0,25 GA 0,75 AS NO ADULTERADO, UNA TERCERA CA PA DE SEPARACION DE IN 0,52 AL 0,48 AS NO ADULTERADO, UNA CAPA DE CANAL DE IN 0,53 GA 0,47 AS, UNA CAPA DISTANCIADORA DE IN 0,52 AL 0,48 AS, NO ADULTERADO, UNA CA PA DE ADULTERACION DELTA DE SILICIO Y UNA CAPA SCHOTTKY DE IN SUB,0,52 AL 0,48 AS SON SATISFACTORIAMENTE SUPERPUESTAS. S OBRE LA CAPA SCHOTTKY, SE FORMA UNA CAPA DE RECUBRIMIENTO EN UNA ESTRUCTURA REBAJADA. SOBRE LA CAPA DE RECUBRIMIENTO, SE FORMAN UN ELECTRODO DE FUENTE Y UN ELECTRODO DE DRENAJE, CON UN ELECTRODO DE PUERTA EN UN AREA REBAJADA DE LA CAPA DE RECUBRIMIENTO.

Tipo: Resumen de patente/invención.

Solicitante: MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 1006, OAZA KADOMA,KADOMA-SHI, OSAKA 571.

Inventor/es: TANABE, MITSURU.

Fecha de Publicación: .

Fecha Concesión Europea: 25 de Septiembre de 2002.

Clasificación Internacional de Patentes:

  • H01L21/20 ELECTRICIDAD.H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS.H01L DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; DISPOSITIVOS ELECTRICOS DE ESTADO SOLIDO NO PREVISTOS EN OTRO LUGAR (utilización de dispositivos semiconductores para medida G01; resistencias en general H01C; imanes, inductancias, transformadores H01F; condensadores en general H01G; dispositivos electrolíticos H01G 9/00; pilas, acumuladores H01M; guías de ondas, resonadores o líneas del tipo guía de ondas H01P; conectadores de líneas, colectores de corriente H01R; dispositivos de emisión estimulada H01S; resonadores electromecánicos H03H; altavoces, micrófonos, cabezas de lectura para gramófonos o transductores acústicos electromecánicos análogos H04R; fuentes de luz eléctricas en general H05B; circuitos impresos, circuitos híbridos, envolturas o detalles de construcción de aparatos eléctricos, fabricación de conjuntos de componentes eléctricos H05K; empleo de dispositivos semiconductores en circuitos que tienen una aplicación particular, ver la subclase relativa a la aplicación). › H01L 21/00 Procedimientos o aparatos especialmente adaptados para la fabricación o el tratamiento de dispositivos semiconductores o de dispositivos de estado sólido, o bien de sus partes constitutivas. › Depósito de materiales semiconductores sobre un sustrato, p. ej. crecimiento epitaxial.
  • H01L21/338 H01L 21/00 […] › con puerta Schottky.
  • H01L29/15 H01L […] › H01L 29/00 Dispositivos semiconductores adaptados a la rectificación, amplificación, generación de oscilaciones o a la conmutación que tienen al menos una barrera de potencial o de superficie; Condensadores o resistencias, que tienen al menos una barrera de potencial o de superficie, p. ej. unión PN, región de empobrecimiento, o región de concentración de portadores de carga; Detalles de cuerpos semiconductores o de sus electrodos (H01L 31/00 - H01L 47/00, H01L 51/05 tienen prioridad; otros detalles de los cuerpos semiconductores o de sus electrodos H01L 23/00; consistentes en una pluralidad de componentes de estado sólido formados en o sobre un sustrato común H01L 27/00). › Estructuras con variación de potencial periódica o casi periódica, p. ej. pozos cuánticos múltiples, superredes (sus aplicaciones en el control de la luz G02F 1/017; su aplicación en los láseres de semiconductor H01S 5/34).
  • H01L29/205 H01L 29/00 […] › en diferentes regiones semiconductoras.
  • H01L29/778 H01L 29/00 […] › con un canal bidimensional de gas de portadores de carga, p. ej. transistores de efecto de campo con alta movilidad electrónica (HEMT).
TRANSISTOR CON EFECTO DE CAMPO.

Patentes similares o relacionadas:

Célula solar, módulo de célula solar y procedimiento de fabricación de célula solar, del 1 de Julio de 2020, de Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd: Una célula solar que comprende un primer sustrato de silicio de tipo conductor , una segunda capa de silicio amorfo […]

PROCEDIMIENTO PARA PREPARAR CAPAS DE ÓXIDO DE COBRE (I) SOBRE UN SUSTRATO DE ÓXIDO METÁLICO, del 28 de Septiembre de 2018, de OXOLUTIA, S.L: Procedimiento para preparar capas de óxido de cobre (I) sobre un sustrato de óxido metálico. La presente invención se refiere a un procedimiento […]

Método de crecimiento que usa capas compatibles de nanocolumnas y HVPE para producir materiales semiconductores compuestos de alta calidad, del 15 de Noviembre de 2017, de Nanogan Limited: Un metodo para producir un material semiconductor compuesto de un solo cristal, que comprende: a) proporcionar un material de sustrato que tiene una nanocolumna […]

Método para fabricar un sustrato de SiC con película epitaxial de SiC, del 17 de Mayo de 2017, de DOW CORNING CORPORATION: Un método de fabricación de una oblea epitaxial de 4H-SiC que comprende una película epitaxial de SiC sobre un sustrato de 4H-SiC monocristalino, donde el método comprende: […]

GRAFENO COVALENTEMENTE MODIFICADO, del 11 de Agosto de 2016, de FUNDACIÓN IMDEA NANOCIENCIA: La presente invención está dirigida a un sistema en el que las propiedades electrónicas del grafeno pueden ser modificadas de forma controlada. En dicho sistema, […]

Grafeno covalentemente modificado, del 3 de Agosto de 2016, de FUNDACIÓN IMDEA NANOCIENCIA: Grafeno covalentemente modificaco. La presente invención está dirigida a un sistema en el que las propiedades electrónicas del grafeno pueden ser modificadas […]

MÉTODO DE FABRICACIÓN DE LÁMINAS DELGADAS DE ÓXIDOS EPITAXIALES MEDIANTE IMPRESIÓN DE CHORRO DE TINTA, del 7 de Enero de 2016, de OXOLUTIA, S.L: Método de fabricación de láminas delgadas de óxidos epitaxiales mediante impresión de chorro de tinta. La presente invención se refiere a un […]

Imagen de 'PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS SEMICONDUCTORAS…'PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCIÓN DE PELÍCULAS DELGADAS SEMICONDUCTORAS SOBRE SUSTRATOS EXTERNOS, del 29 de Mayo de 2015, de THEIS, Jean-paul: Procedimiento para la producción de películas delgadas semiconductoras sobre sustratos externos. La invención propone un procedimiento con el […]

Utilizamos cookies para mejorar nuestros servicios y mostrarle publicidad relevante. Si continua navegando, consideramos que acepta su uso. Puede obtener más información aquí. .