ESTERES FENILGLIOXALICOS NO VOLATILES.
LA INVENCION SE REFIERE A COMPUESTOS DE FORMULA (I), EN LOS QUE R 1 Y R 2 ,
INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, UN GRUPO DE FORMULA (II); R 3 , R 4 , R SUB,5 , R 6 Y R 7 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, HIDROGENO, ALQUILO C 1 - C 12 , OR 8, SR 9 , NR 10 R 11 , HALOGENO O FENILO; R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , INDEPENDIENTEMENTE ENTRE SI, SON, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 12 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 8 ; R 13 ES, POR EJEMPLO, ALQUILO C 1 - C 12 ; R 14 ES, POR EJEMPLO, HIDROGENO; Y ES ALQUILENO C 1 - C 12 , ALQUENILENO C4 - C 8 , ALQUINILENO C 4 - C 8 O CICLOHEX ILENO, O ES FENILENO O ALQUILENO C 4 - C 40 INTERRUMPIDO UNA O MAS VECES POR - O -, - S - O - NR 15 -, O Y ES UN GRUPO DE FORMULA (III), (IV), (V), (VI), (VII), (VIII), (IX), (X) O (XI); Y 1 ES TAL Y COMO SE DEFINIO Y, CON EXCEPC ION DE LA FORMULA (V); R 15 ES HIDROGENO, ALQUILO C 1 - C 12 O FENILO; Y R 16 ES HIDROGENO, CH 2 OH O ALQUILO C 1 - C 4 . SE INCLUYEN ASIMISMO MEZCLAS DE DICHOS COMPUESTOS CON FOTOINICIADORES ADICIONALES, QUE SON ADECUADAS PARA FOTOPOLIMERIZAR COMPUESTOS QUE PRESENTAN DOBLES ENLACES ETILENICAMENTE INSATURADOS.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC..
Nacionalidad solicitante: Suiza.
Dirección: KLYBECKSTRASSE 141,4057 BASEL.
Inventor/es: LEPPARD, DAVID, GEORGE, KOHLER, MANFRED.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 23 de Enero de 1998.
Fecha Concesión Europea: 30 de Octubre de 2002.
Clasificación Internacional de Patentes:
- C07C69/76 QUIMICA; METALURGIA. › C07 QUIMICA ORGANICA. › C07C COMPUESTOS ACICLICOS O CARBOCICLICOS (compuestos macromoleculares C08; producción de compuestos orgánicos por electrolisiso electroforesis C25B 3/00, C25B 7/00). › C07C 69/00 Esteres de ácidos carboxílicos; Esteres del ácido carbónico o del ácido halofórmico. › Esteres de ácidos carboxílicos en los que un grupo carboxilo esterificado está unido a un átomo de carbono de un ciclo aromático de seis miembros.
- G03F7/031 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Compuestos orgánicos no cubiertos por el grupo G03F 7/029.
Países PCT: Bélgica, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Italia, Países Bajos, Suecia, Oficina Europea de Patentes, Armenia, Azerbayán, Bielorusia, Ghana, Gambia, Kenya, Kirguistán, Kazajstán, Lesotho, República del Moldova, Malawi, Federación de Rusia, Sudán, Tayikistán, Turkmenistán, Uganda, Zimbabwe, Burkina Faso, Benin, República Centroafricana, Congo, Costa de Marfil, Camerún, Gabón, Guinea, Malí, Mauritania, Niger, Senegal, Chad, Togo, Organización Regional Africana de la Propiedad Industrial, Swazilandia, Organización Africana de la Propiedad Intelectual, Organización Eurasiática de Patentes.
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