DISPOSITIVO DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR QUE UTILIZA UN PLASMA.
SE DESCRIBE UN APARTO PARA DEPOSITAR VAPOR QUIMICO DE PLASMA A FIN DE FORMAR UNA PELICULA DELGADA AMORFA,
UNA PELICULA DELGADA MICROCRISTALINA O UNA PELICULA DELGADA POLICRISTALINA SOBRE UNA SUPERFICIE DE UN SUBSTRATO DE ANTICATODO UTILIZANDO UNA DESCARGA LUMINISCENTE GENERADA POR UNA ENERGIA ELECTRICA SUMINISTRADA DE UNA FUENTE DE ENERGIA, QUE COMPRENDE UN DEPOSITO DE REACCION (31) MEDIOS (37) PARA SUMINISTRAR UN GAS REACTANTE AL INTERIOR DEL DEPOSITO DE REACCION (31), MEDIOS DE DESCARGA (38) PARA DESCARGAR UN GAS RESIDUAL DEL GAS REACTANTE FUERA DEL DEPOSITO DE REACCION (31), UN ELECTRODO (32) EN FORMA DE ESCALA PARA LA GENERACION DE DESCARGAS DISPUESTO DENTRO DEL DEPOSITO DE REACCION (31), UNA FUENTE DE ALIMENTACION (36) PARA SUMINISTRAR UNA ENERGIA DE ALTA FRECUENCIA ENTRE 30 Y 200 MHZ AL ELECTRODO EN FORMA DE ESCALA (32) PARA GENERAR UNA DESCARGA LUMINISCENTE, UN CALEFACTOR (34) PARA CALENTAR Y MANTENER UN SUBSTRATO DE ANTICATODO (33), CALEFACTOR (34) QUE ESTA DISPUESTO DENTRO DEL DEPOSITO DE REACCION (31) EN PARALELO CON EL ELECTRODO EN FORMA DE ESCALA (32) PARA LA GENERACION DE DESCARGAS, Y UN DISTRIBUIDOR DE ENERGIA (60) PARA DISTRIBUIR UNIFORMEMENTE UNA ENERGIA DE ALTA FRECUENCIA AL ELECTRODO EN FORMA DE ESCALA (32) PARA LA GENERACION DE DESCARGAS A TRAVES DE UN CABLE DE LA FUENTE DE ALIMENTACION (43A, 43B, 43C, 43D).
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD..
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 5-1, MARUNOUCHI 2-CHOME, CHIYODA-KU,,TOKYO 100-0005.
Inventor/es: MURATA, MASAYOSHI, TAKEUCHI, YOSHIAKI, MASHIMA, HIROSHI, TAKANO, AKEMI, YOSHIDA, HIROHISA.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 26 de Marzo de 2003.
Clasificación Internacional de Patentes:
- H01J37/32 ELECTRICIDAD. › H01 ELEMENTOS ELECTRICOS BASICOS. › H01J TUBOS DE DESCARGA ELECTRICA O LAMPARAS DE DESCARGA ELECTRICA (espinterómetros H01T; lámparas de arco, con electrodos consumibles H05B; aceleradores de partículas H05H). › H01J 37/00 Tubos de descarga provistos de medios o de un material para ser expuestos a la descarga, p. ej. con el propósito de sufrir un examen o tratamiento (H01J 33/00, H01J 40/00, H01J 41/00, H01J 47/00, H01J 49/00 tienen prioridad). › Tubos de descarga en atmósfera gaseosa (calefacción por descarga H05B).
![DISPOSITIVO DE DEPOSITO QUIMICO EN FASE VAPOR QUE UTILIZA UN PLASMA.](https://patentados.com/img/2003/dispositivo-de-deposito-quimico-en-fase-vapor-que-utiliza-un-plasma.png)
Patentes similares o relacionadas:
Dispositivo de ablación por chispas y procedimiento de generación de nanopartículas, del 17 de Junio de 2020, de VSParticle Holding B.V: Un dispositivo de ablación por chispas de generación de nanopartículas provisto de una entrada/salida para el gas y que comprende un generador de chispas […]
Dispositivo de recubrimiento por plasma post-descarga para sustratos con forma de alambre, del 29 de Abril de 2020, de Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST): Dispositivo de recubrimiento de plasma post-descarga para un sustrato con forma de alambre , que comprende: - un electrodo tubular interno sobre una pared tubular […]
Sistema de capa de vacío y tratamiento con plasma, y procedimiento para recubrir un sustrato, del 26 de Febrero de 2020, de VAPOR TECHNOLOGIES, INC: Un sistema de tratamiento con plasma y recubrimiento de vacío que comprende: un conjunto de plasma dispuesto de modo tal que mira a un sustrato […]
Proceso de plasma y reactor para el tratamiento termoquímico de la superficie de piezas metálicas, del 19 de Febrero de 2020, de Universidade Federal De Santa Catarina (UFSC): Proceso para el tratamiento superficial termoquímico de piezas metálicas, en un reactor (R) de plasma que tiene una cámara de reacción (RC) […]
Fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma y un procedimiento de fabricación de un artículo por el uso de la fuente de plasma, del 19 de Febrero de 2020, de AGC Inc: Una fuente de plasma para un aparato de CVD de plasma, que comprende: un grupo de electrodos que incluye cuatro electrodos, que son un primer electrodo […]
Dispositivo de revestimiento para el revestimiento de un sustrato, así como un procedimiento para el revestimiento de un sustrato, del 15 de Enero de 2020, de Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon: Dispositivo de evaporación de un material diana que comprende una cámara de proceso para el establecimiento y el mantenimiento […]
Fuente de evaporación por arco, del 18 de Diciembre de 2019, de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.): Una fuente de evaporación por arco, incluyendo: un blanco a fundir y evaporar de una superficie de extremo delantero (3a) del blanco […]
Método para el revestimiento de un sustrato con una capa de polímero, del 11 de Diciembre de 2019, de EUROPLASMA NV: Un método para revestir un sustrato con una capa de polímero, donde dicho método comprende la localización de un primer juego de electrodos (14, […]