METODO Y APARATO PARA LA LECTURA AUTOMATIZADA DE PATRONES MICROMETRICOS.
LA DETERMINACION AUTOMATICA DEL DESPLAZAMIENTO LATERAL ENTRE UNA PAREJA DE PATRONES MICROMETRICOS QUE SE SOLAPAN (20 Y 22) SOBRE CAPAS SOLAPADAS (14 Y 15) DE UN CONMUTADOR SEMICONDUCTOR (10) SE LOGRA CAPTURANDO PRIMERO LA IMAGEN DEL PATRON MICROMETRICO USANDO UNA CAMARA DE TELEVISION (26).
LA SEÑAL DE SALIDA DE LA CAMARA DE TELEVISION SE PROCESA POR UN CIRCUITO DE ADQUISICION DE IMAGEN (32) ACOPLADO A UN ORDENADOR (34) PARA DETERMINAR LA INTENSIDAD DE CADA UNA DE ELEMENTOS GRAFICOS QUE ESTAN DENTRO DE UNA BANDA QUE SE EXTIENDE A TRAVES DE LA IMAGEN DE LOS PATRONES MICROMETRICOS. LA INTENSIDAD DE CADA UNO DE LOS ELEMENTOS GRAFICOS SE CORRELA MATEMATICAMENTE POR EL ORDENADOR (34) CON CADA UNA DE LOS VALORES QUE CORRESPONDEN A LA INTENSIDAD DE CADA UNOS DE LOS ELEMENTOS GRAFICOS QUE FORMAN PARTE DE LA IMAGEN REPRESENTATIVA DE UN PAR DE PATRONES MICROMETRICOS ALINEADOS. SE DETERMINA ENTONCES LA POSICION DENTRO DE LA IMAGEN CAPTURADA DEL MAXIMO DE LAS INTENSIDADES CORRELADAS. EL DESPLAZAMIENTO ENTRE LA PAREJA DE PATRONES MICROMETRICOS SE DETERMINA DE ACUERDO CON LA DISTANCIA ENTRE LA POSICION DEL MAXIMO DE LAS INTENSIDADES CORRELADAS Y EL CENTRO DE UNO DE LOS DOS PATRONES MICROMETRICOS.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AMERICAN TELEPHONE AND TELEGRAPH COMPANY.
Nacionalidad solicitante: Estados Unidos de América.
Dirección: 550 MADISON AVENUE, NEW YORK, NY 10022.
Inventor/es: KUYEL, BIROL.
Fecha de Publicación: .
Fecha Concesión Europea: 14 de Abril de 1993.
Clasificación Internacional de Patentes:
- G03F7/20 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Exposición; Aparellaje a este efecto (dispositivos de reproducción fotográfica de copias G03B 27/00).
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