METODO PARA FABRICAR UNA PLANCHA DE IMPRESION LITOGRAFICA.
Un método para obtener una plancha de impresión litográfica que comprende las etapas de:
#a) proporcionar un precursor de plancha de impresión litográfica que comprende: #(i) un soporte que tiene una superficie hidrófila o al que se le proporciona una capa hidrófila; #(ii) un recubrimiento sobre dicho soporte que comprende una capa fotopolimerizable y, opcionalmente, una capa intermedia entre la capa fotopolimerizable y el soporte, comprendiendo dicha capa fotopolimerizable un compuesto polimerizable, un iniciador de la polimerización y un aglutinante reactivo, #(b) exponer como imagen dicho recubrimiento en un dispositivo de CtP, #(c) opcionalmente, calentar el precursor en una unidad de precalentamiento; #(d) revelar el precursor fuera de prensa en una unidad de engomado por tratamiento del recubrimiento del precursor con una solución de goma, eliminado de este modo las áreas no expuestas de la capa fotopolimerizable desde el soporte, siendo dicho aglutinante reactivo un polímero que contiene una unidad monomérica que comprende un grupo que tiene un enlace etilénicamente insaturado.
Tipo: Resumen de patente/invención.
Solicitante: AGFA GRAPHICS N.V..
Nacionalidad solicitante: Bélgica.
Dirección: SEPTESTRAAT 27,2640 MORTSEL.
Inventor/es: VAN DAMME,MARC, WILLIAMSON,ALEXANDER, GRIES,WILLI-KURT, VAN AERT,HUBERTUS.
Fecha de Publicación: .
Fecha Solicitud PCT: 18 de Noviembre de 2005.
Fecha Concesión Europea: 28 de Enero de 2009.
Clasificación PCT:
- G03F7/033 FISICA. › G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA. › G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
- G03F7/038 G03F 7/00 […] › Compuestos macromoleculares que se vuelven insolubles o selectivamente mojables (G03F 7/075 tiene prioridad; azidas macromoleculares G03F 7/012; compuestos macromoleculares de diazonio G03F 7/021).
- G03F7/32 G03F 7/00 […] › Composiciones líquidas a este efecto, p. ej. reveladores.
Países PCT: Austria, Bélgica, Suiza, Alemania, Dinamarca, España, Francia, Reino Unido, Grecia, Italia, Liechtensein, Luxemburgo, Países Bajos, Suecia, Mónaco, Portugal, Irlanda, Eslovenia, Finlandia, Rumania, Chipre, Lituania, Letonia, Ex República Yugoslava de Macedonia, Albania.
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