Composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica.

Una composición de resina fotosensible para una plancha original de impresión flexográfica,

caracterizada por que la composición contiene (A) polímeros hidrófobos obtenidos a partir de al menos dos tipos de látices dispersables en agua, (B) un caucho para comunicar elasticidad de caucho a la composición de resina fotosensible, (C) un compuesto fotopolimerizable y (D) un iniciador de fotopolimerización y que la relación en masa del componente (B) frente a la masa total del componente (A) y el componente (B) está dentro del intervalo de 1 a 7 %.

Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2013/065532.

Solicitante: TOYOBO CO., LTD..

Nacionalidad solicitante: Japón.

Dirección: 2-8 Dojima Hama 2-chome Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-8230 JAPON.

Inventor/es: YAWATA,YUKIMI, YAMADA,HIROTO.

Fecha de Publicación: .

Clasificación Internacional de Patentes:

  • G03F7/00 FISICA.G03 FOTOGRAFIA; CINEMATOGRAFIA; TECNICAS ANALOGAS QUE UTILIZAN ONDAS DISTINTAS DE LAS ONDAS OPTICAS; ELECTROGRAFIA; HOLOGRAFIA.G03F PRODUCCION POR VIA FOTOMECANICA DE SUPERFICIES TEXTURADAS, p. ej. PARA LA IMPRESION, PARA EL TRATAMIENTO DE DISPOSITIVOS SEMICONDUCTORES; MATERIALES A ESTE EFECTO; ORIGINALES A ESTE EFECTO; APARELLAJE ESPECIALMENTE ADAPTADO A ESTE EFECTO (aparatos de composición fototipográfica B41B; materiales fotosensibles o procesos para la fotografía G03C; electrofotografía, capas sensibles o procesos a este efecto G03G). › Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K).
  • G03F7/004 G03F […] › G03F 7/00 Producción por vía fotomecánica, p. ej. fotolitográfica, de superficies texturadas, p. ej. superficies impresas; Materiales a este efecto, p. ej. conllevando fotorreservas; Aparellaje especialmente adaptado a este efecto (utilizando estructuras de fotorreservas para procesos de producción particulares, ver en los lugares adecuados, p. ej. B44C, H01L, p. ej. H01L 21/00, H05K). › Materiales fotosensibles (G03F 7/12, G03F 7/14 tienen prioridad).
  • G03F7/033 G03F 7/00 […] › siendo los aglutinantes polímeros obtenidos por reacciones que hagan intervenir únicamente enlaces insaturados carbono-carbono, p. ej. polímeros vinílicos.
  • G03F7/095 G03F 7/00 […] › teniendo más de una capa fotosensible (G03F 7/075 tiene prioridad).
  • G03F7/11 G03F 7/00 […] › con capas de recubrimiento o capas intermedias, p. ej. capas de anclaje.

PDF original: ES-2617805_T3.pdf

 

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