Lámina de cobre para fabricar grafeno y método de fabricación de grafeno.
Lámina de cobre laminada en frío para producir grafeno, que incluye óxidos y sulfuros que tienen cada uno un diámetro de 0,
5 μm o más, que tienen un número total de 15/mm2 o menos medidos usando un microscopio electrónico de barrido,
y/o que incluye óxidos y sulfuros que tienen cada uno un diámetro de 0,5 μm o más, que tienen un número total de 100/mm2 o menos medidos para un área que tiene un área total de 3 mm2 dentro de una profundidad de 10 μm desde una superficie que es una sección transversal paralela a una dirección de laminación usando un microscopio electrónico de barrido,
en la que la lámina de cobre laminada en frío tiene un número de porciones dentadas que es de 20/mm2 o menos, contándose la porción dentada que tiene una profundidad ds de 1,5 μm o más; ds ≥ DS - DM; donde DM es la altura más baja midiendo una superficie de 1 mm2 usando un microscopio confocal y mediante cada perfil de altura de una parte granular rodeada por un contorno en la imagen bidimensional de la superficie obtenida, en la que la superficie de 1 mm2 se mide tras calentarse a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, y DS es la altura más alta que se considera como referencia en un área de +- 25 μm a lo largo de una dirección en el plano y una dirección de laminación desde la posición de DM,
y/o la lámina de cobre laminada en frío que se ha calentado a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, que tiene un número de porciones convexas que es de 100/mm2 o menos, contándose la porción convexa que tiene una altura dt de 1,5 μm o más; dt ≥ HM-HS; donde HM es la altura más alta midiendo una superficie de 1 mm2 usando un microscopio confocal y mediante cada perfil de altura de una parte granular rodeada por un contorno en la imagen bidimensional de la superficie obtenida, en la que la superficie de 1 mm2 se mide tras calentarse a 1000ºC durante 1 hora en una atmósfera que contiene el 20% en volumen o más de hidrógeno y el resto de argón, y HS es la altura más baja que se considera como referencia en un área de +- 25 μm en una dirección en el plano y una dirección de laminación desde la posición de HM.
Tipo: Patente Internacional (Tratado de Cooperación de Patentes). Resumen de patente/invención. Número de Solicitud: PCT/JP2012/064077.
Solicitante: JX Nippon Mining & Metals Corporation.
Nacionalidad solicitante: Japón.
Dirección: 6-3, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8164 JAPON.
Inventor/es: CHIBA,YOSHIHIRO, YAMAJI,TATSUYA.
Fecha de Publicación: .
Clasificación Internacional de Patentes:
- C01B31/02
PDF original: ES-2628073_T3.pdf
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