(06/02/2012) Procedimiento para la producción de una estructura compuesta estratificada fotoactiva con un macroabsorbente en forma de un substrato de silicio dopado y con un gran número de nanoemisores rectificadores en forma de nanoporos provistos de un metal de revestimiento, los cuales se encuentran por lo menos en una capa de óxido, transparente y aislante de la electricidad, sobre el macroabsorbente, con las siguientes etapas del procedimiento, siendo aplicados todos los potenciales que aparecen frente a un electrodo saturado de calomelanos: I) Producción de nanoporos - Inmersión de un substrato de silicio dopado no tratado en un primer baño de…

(16/06/1984) PROCEDIMIENTO PARA FABRICAR UN DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR.CONSISTE EN FOTOMORDENTAR ELECTROQUIMICAMENTE AL MENOS UNA PARTE DE LA SUPERFICIE DE UN SEMICONDUCTOR COMPUESTO PARA PRODUCIR ESPECIES OXIDADAS MEDIANTE EL PASO DE CORRIENTE A TRAVES DE UN SEMICONDUCTOR COMPUESTO , UNA SOLUCION ELECTROLITICA CON UNA CONDUCTIVIDAD SUPERIOR A 0,001 Y CON UN ACIDO COMO CLORHIDRICO, BROMHIDRICO, PARA SEPARAR LAS ESPECIES OXIDADAS DEL SEMICONDUCTOR COMPUESTO Y UN CATODO , QUE COMPRENDE: A) APLICAR UN POTENCIAL AL SEMICONDUCTORCOMPUESTO COMPRENDIDO ENTRE EL POTENCIAL MAXIMO DE LA BANDA DE VALENCIA Y EL POTENCIAL MINIMO DE LA BANDA DE CONDUCCION DEL SEMICONDUCTOR COMPUESTO EN LA SOLUCION ELECTROLITICA ; B) ILUMINAR LA PARTE DE…